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dislocation microstructureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
Further, heat treatment is applied to the multilayer film intermediate structure 10 to diffuse metal elements in the metallic layer 13 via the through-dislocation 14 to form a microstructure 16 at a boundary face 15 between the silicon substrate 11 and the silicon germanium layer 12.例文帳に追加
次いで、多層膜中間構造体１０に対して熱処理を施し、金属層１３中の金属元素を貫通転位１４を介して拡散させ、シリコン基板１１とシリコンゲルマニウム層１２との界面１５に微細構造１６を形成する。 - 特許庁
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