「どうしますか」を含む例文一覧(18079)

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  • ガラスセラミック板を、可視光及び赤外線に対して透過性のガラスセラミック材料から成り、ガラスセラミック板下面へ貴金属フィルムがコーティングされて、貴金属フィルムには、貴金属フィルムを反射特性を付与する金及び／または白金、及び／またはパラジウムから成る合金から作製し、かつ銀、銅、珪素、ビスマス及び他の非貴金属を貴金属フィルム中へその全金属含量に対して０〜５重量％含ませ、及び前記貴金属フィルムでコーティングされたガラスセラミック板とする。
    The glass ceramic plate consists of a glass ceramic material which transmits visible lights and infrared rays, and of which the underside is coated with a noble metal film manufactured from an alloy of gold and/or platinum and/or palladium affording a reflective characteristic and containing 0-5 wt.% of a base metal such as silver, copper, silicon, bismuth and others, to its total metal content. - 特許庁
  • レギュレータであって、正端子で基準電圧を受けるように適用される増幅器、増幅器の出力は、そのゲートを駆動するように構成され、そのソースは、増幅器の負端子に接続されるマスターソースフォロワ、および少なくとも１つのソースフォロワのゲートは、マスターソースフォロワのゲートと共有され、かつレギュレータの出力となるように構成されるソースを有する、少なくとも１つのスレーブソースフォロワを含む。
    The regulator includes: an amplifier applied so that a positive terminal receives a reference voltage; a master source follower whose gate is driven by an output of the amplifier and whose source is connected to a negative terminal of the amplifier; and at least one slave source follower whose at least one gate is shared with the gate of the master source follower and which has a source being an output of the regulator. - 特許庁
  • 本発明は、イソシアネート、イソシアネート反応性高分子化合物及びイソシアネートとイソシアネート反応性化合物との反応のための触媒を含んでなるポリウレタン反応性組成物に関し、前記イソシアネート反応性化合物は、ポリエステル、ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネート又はそれらの混合物の、ジオール又はそれより高官能性のポリオールであって、そのポリエステルは、ヒドロキシカルボン酸又は相当するラクトンから誘導されたものであり、且つその触媒は立体的に束縛されたビスマス化合物である。
    This polyurethane reactive composition includes an isocyanate, an isocyanate reactive polymer compound and a catalyst for the reaction of the isocyanate and the isocyanate reactive compound, and the isocyanate reactive compound is a polyester, a polyester polyurethane, a polycarbonate or a diol or more highly functional polyol of their mixture, the polyester is derived from a hydroxycarboxylic acid or corresponding lactone and the catalyst is a sterically-constrained bismuth compound. - 特許庁
  • 一つの方法は、総合マスタ・スケジュールと出来高管理システムとの間に統括アカウントを設定するステップ３０４と、作業認可書および対応するワークフローを自動的に作成するステップ３０８と、ベースライン変更要請書とそれに続く作業認可書とを結合するステップ３１４と、階層的な仕方で差異分析報告書を作成し編成するステップ３１８と、効率的仕方で最終的出来高管理文書を編成するステップ３２０と、を有する。
    One method may have step 304 of consolidating control accounts between an integrated master schedule and an earned value management system; step 308 of automatically generating work authorizations and corresponding workflow; step 314 of integrating baseline change requests and follow-on work authorization; step 318 of generating and organizing, in a hierarchical manner, variance analysis reports; and step 320 of organizing, in a streamlined manner, finalized earned value management documentation. - 特許庁
  • 半導体基板に第１イオンでイオン注入工程を行って第１ウェル領域を形成した後、前記第１イオンよりマスの大きい第２イオンでイオン注入工程を行い、前記形成された第１ウェル領域に第２ウェル領域を形成する段階と、前記結果物にアニール工程を行ってウェル領域を形成する段階とを含む。
    The method for manufacturing a semiconductor device comprises a step of forming a first well region by implanting first ions into a semiconductor substrate and then forming a second well region by implanting second ions in a larger mass than that of the first ions, and a step of annealing the products to form the well region. - 特許庁
  • オリジナル画像データ３と、該オリジナル画像データ３の階調を反転した階調反転ダミー画像データ４と、画像を形成する複数の画素の明るさがランダムなランダムダミー画像データ５とを、それぞれの画像データ３，４，５毎に互いに異なるランダム位相マスクを順次用いて同一の画像データ記録位置に位相多重記録する。
    Original image data 3, gradation-inverted dummy image data 4 wherein gradation of the original image data 3 is inverted, and random dummy image data 5 wherein brightness of a plurality of pixels for forming the image is random are recorded in a phase multiple manner on the same image data recording position by successively using the random phase masks different for each image data 3, 4, and 5. - 特許庁
  • 私の方からせっかくの機会だから言えば、今日、全銀協（全国銀行協会）の会長がお出でになられまして、当面、中小企業、零細企業向けの融資の実態、これが本来は当事者間できちんとやっていけばいいことなのだけれども、残念ながら前から皆さん方にも言っているように、小泉・竹中さんのああいう間違った金融政策のもとで、うちの金融庁自体が、この適正ではない方向で末端での指導をしたという経緯の中で、しかし去年あたりから金融庁自体もそれを修正して、あるべき検査・監督に変えていくという、一生懸命努力して頑張っていますよね。だけれども、残念ながら、そうした貸し手と借り手との関係がうまく理想どおりにいっていない。そういう中で、経済が今の非常に厳しい、特に中小企業にとって厳しい状況下にあって、そういう中小・零細企業が潰れないで頑張っていくためには、本来、経済が本調子でちゃんといっている場合は、しっかりした中小企業はきちんと資金繰りをしていけるわけだけれども、なかなか当面仕事も来ないというような、これは中小企業者の責任ということではなくて経済全体の責任です。
    Let me use this occasion to talk about my meeting today with the chairman of the Japanese Bankers Association (ZENGINKYO). Regarding loans to small and medium-size enterprises (SMEs), the relationship between lenders and borrowers is essentially a matter that should be dealt with by themselves. However, as I have been telling you, the FSA (Financial Services Agency) unfortunately guided financial institutions in the wrong direction under the wrong financial policy of Mr. Koizumi (former Prime Minister) and Mr. Takenaka (former Minister for Financial Services).  - 金融庁
  • バイオマス資源由来のコハク酸誘導体およびその塩を含む組成物とアルキル化剤を反応させて、Ｎ−アルキルコハク酸イミドを製造する方法において、反応終了後の反応混合物のｐＨを９．８以下に調整することを特徴とするＮ−アルキルコハク酸イミドを含む組成物の製造方法。
    In a method of producing N-alkyl succinimide by making a composition containing a succinic acid derivative derived from a biomass resource and its salt react with an alkylating agent, a method of producing a composition containing N-alkyl succinimide includes adjusting pH of a reaction mixture, after the end of reaction, to 9.8 or less. - 特許庁
  • また、照射光量を平面位置に応じて制御されたガラスマスク１５を用いて、最も周辺回路領域３側の層内レンズ１２と有効画素領域２の中央部の層内レンズ１２とを含む複数の層内レンズ１２のレンズ形状が同一になるようにパターンニングを行う。
    Furthermore, a glass mask 15 with an irradiated light amount controlled according to a plane position is used to make patterning in such a way that a plurality of intra-layer lenses including an intra-layer lens 12 on an outermost peripheral circuit region 3 side and an intra-layer lens 12 in the middle part of an effective pixel region 2 will be formed in the same lens shape. - 特許庁
  • この方法は、自動車用の襞付きの流体および空気フィルタ２１、襞付きの加熱および／または空調フィルタ、成形された呼吸用マスク・フィルタ、およびバクテリア用フィルタを含む広汎のさまざまな製品、クリーニング・モップ・ヘッドに嵌まるように成形されたモップ・ワイパー形状のような超吸収性の中間層を有する積層クリーニング用製品、および他の製品の製造に使用できる。
    The method may be used in production a variety of products, including automotive pleated fluid and air filters 21, pleated heating and/or air conditioning filters, shaped breathing mask filters and bacterial filters, laminated cleaning products with super-absorbent middle layers, such as a mop wipe shape to fit a cleaning mop head, and other products. - 特許庁
  • 成形性（流動性）に優れ、曲げ弾性率及び衝撃強度などの優れた物性バランスを持つ成形体を形成することができ、環境対応性に優れ、商業生産性を向上（成形体の製造コストを低減）し得るポリ乳酸含有マスターバッチ、その製造方法、ポリ乳酸含有プロピレン系樹脂組成物及びその成形体の提供。
    To provide a polylactic acid-containing master batch having excellent moldability (fluidity), forming a molded product having excellent physical property balances such as flexural modulus and impact strength, and having excellent environmental response, and improving commercial productivity (reducing production cost of the molded product), to provide a method for producing the master batch, to provide a polylactic acid-containing propylene-based resin composition, and to provide the molded product thereof. - 特許庁
  • 露光用マスクを製造するための遮光層およびレジスト層をこの順に積層した後、所定の走査幅をもってＹ方向に相対的に走査される電子ビームＥＢの走査領域ＥＡを１走査毎にＸ方向に相対移動させながらレジスト層に描画する際に、前記走査を２サイクル以上繰り返す。
    After a light-shielding layer and a resist layer to produce an exposure mask are formed in this order, a pattern is drawn in the resist layer by scanning with electron beams EB relatively in the Y direction with specified scanning width while relatively moving the scanning region EA in the X direction for every scanning period. - 特許庁
  • すなわち、前記ダイサ１０に備えられて被切削物２０をチャックするチャックテーブル１４と前記ダイシングドレステーブル１６とを一つの部材１２によって形成し、双方のテーブルの表面を同一研磨することで、前記チャックテーブル１４の表面と前記ドレステーブル１６の表面との平面高さを合わせるようにした構造である。
    That is, the structure is devised to match a surface of a chuck table 14 and a surface of a dressing table 16 with each other in plane level by forming the chuck table 14 provided on the dicer 10 and to chuck a cutting article 20 and the dicing table 16 with one member 12 and grinding the surfaces of both tables simultaneously. - 特許庁
  • 選択エッチング可能であり、マスクパターンとの密着性の良好な半導体材料を含むＨＢＴ層構造を採用し、ガードリング形成工程の容易さを損なうことなくガードリングを再現性よく形成し、ＨＢＴ素子特性の再現性が良好なヘテロ接合バイポーラトランジスタおよびその作製方法を提供すること。
    To provide a heterojunction bipolar transistor that can be selectively etched, can adopt an HBT layer structure containing a semiconductor material with improved adhesion with a mask pattern, forms a guard ring with improved reproducibility without losing the easiness of a guard ring formation process, and has the improved reproducibility of HBT element characteristics, and its manufacturing method. - 特許庁
  • 表示パネル２０に、同一の発光面積の有機ＥＬ素子等のセグメントを形成し、このセグメントの表示面となる基板上に、７セグメント３０を構成するセグメント（４２ａ〜４２ｇ）や文字列「ＴＩＭＥ」を示す表示項目３２のような表示の視認が可能となるようにマスクを形成する。
    Segments, such as organic EL elements, having the same light emission area are formed on a display panel 20 and a mask is formed on a substrate constituting the display surfaces of these segments in such a manner that the display, such as the segments (42a to 42g) constituting the seven segments 30 or display items 32 indicating a character string (TIME), is made visible. - 特許庁
  • 半導体ウエハ等の基材に設けた微細な凹みに導電性の金属材料を埋込み（工程１）、その後埋込み金属の最外層側から、金属材料表面を作業液（研摩液や薬液、洗浄液を含む）を用いて機械的・化学的作用によって研摩する（工程２）ことによって配線構造を製造する。
    This method comprises the steps of embedding a conductive metallic material into fine recesses formed in a substrate, such as a semiconductor wafer (step 1), polishing the surface of the metallic material by a mechanical and chemical operation using a working solution (including a polishing solution, a chemical solution and a cleaning solution) from the outermost layer of the buried metal (step 2), whereby an interconnection structure is prepared. - 特許庁
  • 少なくとも２つの構成要素の間に耐久接合部を形成するために直線溶接継目の耐荷重能力を特に増すための方法において、溶接継目破壊が最も高い確率で生じる位置において、接続線の接線が１５°以上の角度を有するように、不連続部が溶接継目内に導入される。
    In a method which especially increases the load durability of the straight weld seam to form a durable bonding part between at least two components, a discontinuity part is introduced in the weld seam so that a tangent to a connecting line is inclined by 15 degrees or more from the weld seam at a point where a fracture of the weld seam is assumed to occur at the highest possibility. - 特許庁
  • 一枚の半導体ウエーハ５からペレット１，２，３，４を複数個製造する場合、フォトレジストを現像液で現像する前に、一部分のみ紫外線や赤外線などの光線を透過するパターンを有する露光用のレテイクルを用いて再度露光する工程を含み、再度露光する時のマスクは、ペレット１個分の識別用パターン作成用の開口部のみ有し、再度露光する時の、Ｘ方向とＹ方向とにステップする時に、ペレットの寸法と異なるステップ幅でＸ，Ｙ方向に移動する。
    The production method of semiconductor element comprises a step for performing exposure again using an exposing reticle having a pattern for passing UV-rays or infrared rays only partially before photoresist is developed with developer when a plurality of pellets 1, 2, 3, 4 are produced from a sheet of semiconductor wafer 5. - 特許庁
  • こうした基本的課題を踏まえると、以下の事項の重要性が増す。・正社員については、OJTによる業務経験の蓄積とOFF-JTによる専門知識の獲得の両立、人的ネットワークの活性化による知識・価値の共有化・正社員以外の労働者については、教育訓練や技能の底上げ、キャリア展望の明確化・両者共通し安全面を含む基礎訓練の充実や能力評価基準等の整備
    These fundamental challenges increase the need to ・Help regular employees to gain job experience through OJT, acquire expertise through Off-JT, and share knowledge and values through active networking with other people;・Raise the level of education and training for non-regular workers, as well as the level of their skills, and clarify career prospects for them;・Improve the safety and other basic training programs and the skills evaluation criteria for both regular and non-regular employees. - 経済産業省
  • もう一点、同じ柱のところの紙でいうと、09年３月末までの当面の措置というところに、当局は金融機関が信認を維持するために十分な量の資本を維持することを確保すると云々、国際基準設定主体は云々、より厳しい資本要件を設定する、と書いてあるのですが、この間10月末に政府が発表しました、市場を安定化されるという金融の対策を含めた諸々の対策が出された中に、銀行の自己資本規制を弾力化させるという方針が盛り込まれて実際に動き出しているところだと思うのですが、そういう日本国内の対応と、ここのサミットで盛り込まれております十分の量の資本を維持すること、確保すること、より厳しい資本要件を設定するといった行動計画は矛盾しないのでしょうか。
    I have another question, which concerns “Immediate Actions by March 31, 2009” regarding the same item. The proposed actions include authorities’ efforts to ensure that financial institutions maintain adequate capital in amounts necessary to sustain confidence, and international standard setters’ efforts to set out strengthened capital requirements. The package of measures announced at the end of October by the government, including measures to stabilize the market, comprised a plan to introduce flexibility into the regulation of banks’ capital adequacy ratios, and I understand that the plan is already underway. Doesn’t this move run counter to the action plan, which seeks to maintain and secure adequate capital and set out strengthened capital requirements?  - 金融庁
  • こうした規制の見直しや監督当局間の連携強化の動きは、サブプライム・ローン問題に端を発する今般のグローバルな金融混乱に対応していくという趣旨で、特に、金融機関が国境を越えて世界的に活動し、そこで取引される金融商品も国境を越えて国際的なマーケットで取引されるという実態があるわけで、こういう実態の中で、ある面では金融システムの変化あるいはグローバル化といった実態に監督や規制が追いついていなかったという認識に基づいているものであり、こういった問題に世界が協調して対応していこうという取組みであると理解をしております
    The moves to review regulations and strengthen cooperation between supervisory authorities are intended to cope with the ongoing global financial turmoil triggered by the subprime mortgage problem. They are based on the recognition that supervision and regulation have failed to keep up with changes in the financial system and globalization as represented by the cross-border activities of financial institutions and the cross-border transactions of financial products. I understand that these moves represent global cooperative efforts to tackle this situation  - 金融庁
  • これとは別に、グローバルなマーケットの展開として、欧米あるいはその他の地域もあるかもしれませんけれども、さまざまな投資ファンドのリスク許容度が下がってしまった結果、ある時期にはフライト・トゥ・クオリティ（質への逃避）ということで、ソブリンものの債券に資金がシフトするというような動きがあり、また、コモディティ（商品）市場に資金が流れるといったことがあり、比較的近いところでは、フライト・トゥ・キャッシュ（現金・預金への逃避）というような動きにまでなってきていると、こういう非常に大きな、かつ、錯綜したグローバルな市場の混乱が起きている中で、株式市場も非常に大きなボラティリティ（変動幅）を示しているということであろうかと思います。
    In the meantime, regarding global market developments, a flight to quality has occurred in the United States and Europe, as well as in other regions, in the form of the flow of funds to sovereign bonds and the commodities market as a result of the reduced risk tolerance of various investment funds. Furthermore, recently, even the flight to cash has occurred. Amid these violent upheavals sweeping through the global markets, the stock market has also shown a very sharp volatility.  - 金融庁
  • 不使用側にヒーターボードと同形状のダミーヒーターボードを密着させ、不使用側のインク供給路近傍に、リブを設けて強度を増すことにより、密着を向上させ、印字ムラをなくし、インクジェットヘッドユニット完成時でも天板単体でのオリフィス列配置を再現できるインクジェットヘッドを提供する。
    To provide an ink jet head in which the arrangement of orifice array on a unit top plate can be reproduced even upon completion of an ink jet head unit by applying a dummy heater board of identical shape to a heater board tightly to the nonuse side and providing a rib in the vicinity of an ink supply passage on the nonuse side in order to enhance strength thereby enhancing adhesion and eliminating uneven print. - 特許庁
  • また、ゲート電極１２ｄが高濃度不純物層形成工程で不純物イオンを注入するときに不純物イオンの透過を妨げる厚さに形成されるため、同じゲート電極１２ｄをマスクにして半導体基板１０に不純物イオンを注入し、高濃度不純物層２２を形成することができる。
    Further, the gate electrode 12d is formed to such a thickness that impurity ions are stopped from being transmitted when the impurity ions are injected in a high-density impurity layer forming stage, a high-density impurity layer 22 can be formed by injecting the impurity ions into the semiconductor substrate 10 while using the same gate electrode 12d as a mask. - 特許庁
  • 半導体基板に第１の側面に反対される第２の側面を有して突出した壁体）を形成し、壁体の第１の側面の一部を選択的に開口する開口部を有する片側コンタクトマスクを形成した後、開口部に露出した第１の側面部分に互いに拡散度が異なる不純物を拡散させて第１の不純物層及び該第１の不純物層を覆う第２の不純物層を形成することを特徴とする。
    A projection wall having a second side surface opposed to a first side surface is formed on a semiconductor substrate, a single side contact mask having an opening part selectively opening a part of the first side surface of the wall, is formed, then a first impurity layer and a second impurity layer covering the first impurity layer by diffusing impurities having different diffusion degrees into a first side surface exposed to the opening. - 特許庁
  • 1469年（文明元年）になると、大内氏の重臣で文武両道の名将として知られた益田兼堯が石見国で離反、九州の大友親繁・少弐政資とともに大内教幸を擁して西軍方の大内領に侵攻、この動きは鎮圧されたものの、1471年（文明3年）には守護代でありながら西軍の主力となっていた朝倉孝景が義政自らの越前守護職補任をうけて東軍側に寝返ったのである。
    By 1469, Kanetaka MASUDA, a high-ranking vassal of the Ouchi family and known as a general distinguished in both literary and military arts, severed from his lord in Iwami Province and, joining hands with Chikashige OTOMO and Masasuke SHONI in Kyushu, invaded Ouchi's territory on the Western side under the banner of Noriyuki OUCHI; though this action was subdued, in 1471 Takakage ASAKURA who, in spite of his status as shugodai (deputy shugo), had led the main force of the Western camp, was personally appointed by Yoshimasa to the position of shugo of Echizen and went over to the Eastern side.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • このマスクを用いて、高ドーズ量および低加速電圧で行うイオン注入と、低ドーズ量および高加速電圧で行うイオン注入を連続して行うことによって、低耐圧横型トレンチＭＯＳＦＥＴのＬＤＤ領域と、トレンチ横型パワーＭＯＳＦＥＴのＬＤＤ領域とを同時に形成する。
    Ion implantation with a high dosage and a low acceleration voltage and ion implantation with a low dosage and a high acceleration voltage are successively performed using the mask to form an LDD (Lightly Doped Drain) region of the low-breakdown-voltage lateral trench MOSFET and an LDD region of the trench lateral power MOSFET at the same time. - 特許庁
  • 本発明に係る半導体装置の製造方法は、被エッチング膜１１上にフォトレジスト膜を形成する工程と、フォトレジスト膜を露光及び現像することにより、被エッチング膜１１上に位置する直線状のレジストパターン５０を形成する工程と、レジストパターン５０をマスクとして被エッチング膜１１をエッチングすることにより、直線パターン１１ａを形成する工程とを具備する。
    The manufacturing method for the semiconductor device has a process forming a photo-resist film on a film to be etched 11, a process forming rectilinear resist patterns 50 placed on the film to be etched 11 by exposing and developing the photo-resist film and a process forming a rectilinear pattern 11a by etching the film to be etched 11 while using the resist patterns 50 as masks. - 特許庁
  • この印刷装置１００は、プリント基板５への印刷を行う印刷機構部４０と、歪み補正に使用される基準マーク７０が設けられ、印刷機構部４０の少なくとも一部を移動可能に支持するとともに固定的に設置されたフレーム構造体３０と、歪み補正を行う際にフレーム構造体３０の基準マーク７０を撮像するマスク用カメラ２９とを備える。
    The printing apparatus 100 includes: a printing mechanism 40 for providing printing to a print substrate 5; a frame structure 30 including a reference mark 70 to be used for correcting distortion, movably supporting at least part of the printing mechanism 40 and statically installed in the printing apparatus; and a camera 29 for a mask, which images the reference mark 70 of the frame structure 30 in correcting distortion. - 特許庁
  • 活性層を含むメサストライプ部１８の両側に成長させる半絶縁半導体の埋め込み層１０を、メサストライプ部１８と同じ高さまでの第１の層と、第１の層の表面にメサストライプ部１８上に沿って形成した、メサストライプより幅広のマスクの両側に成長させる第２の層とで構成する。
    An embedding layer 10 for semi-insulation semiconductor to be grown on both sides of a mesa stripe portion 18 including the active layer is formed from a first layer having the identical height to the mesa stripe portion 18, and a second layer, formed on the surface of the first layer along the mesa stripe portion 18, for growing it as far as both sides of a mask wider than the mesa stripe. - 特許庁
  • ステップ（ii）の前又は最中に、薄い層（３）の半導体の窒化物又は酸窒化物の層（５）は、露出領域（３ａ）上に形成され、上記層（５）の厚さは、露出領域（３ａ）を通る酸素の拡散速度とマスク（４）で覆われる領域（３ｂ）を通る酸素の拡散速度との比が２より大きくなるようにする。
    Before or during the step (ii), a nitride or oxynitride layer (5) of a semiconductor of the thin layer (3) is formed on the exposed region (3a) with a thickness sufficient to provide a ratio of the rate of oxygen diffusion though the exposed region (3a) to that through the region (3b) covered with the mask (4) that is greater than 2. - 特許庁
  • バイオマスから水素ガスを製造する方法において、セルロースまたは高セルロース含有物の粉末と水酸化カルシウムの粉末とを所定量秤量し、該秤量物と複数の硬質ボールとを混合容器内に入れ、混合容器内で秤量物を所定時間混合粉砕し、粉砕後、該混合粉砕物を密封容器内で、３５０℃以上、４５０℃以下の温度に加熱保持し、発生した水素ガスを導出することを、特徴とする。
    The process of manufacturing hydrogen gas from biomass comprises weighing a predetermined amount of powdered cellulose or substances with a high cellulose content and powdered calcium hydroxide, putting the weighed substances and a plurality of hard balls in a mixing vessel, mixing and pulverizing the weighed substances for a specific period of time, heating and maintaining the pulverized mixture at a temperature of ≥350°C and ≤450°C and taking out the hydrogen gas generated. - 特許庁
  • 導電体１によって機械的な強度を増すことができ、また各電極１２ａ，１３ａを例えばフォトリソグラフィを用いて形成するときには、半導体基板１０に電極材を表面の凹凸を抑えて積層することができて、フォトレジストを前記表面上に沿って略均一に塗布することができ、従来例のような現像むらを抑えて歩留まりを向上させることができる。
    The conductor 1 can increase the mechanical strength, and when the respective electrodes 12a and 13a are formed using, for example, photolithography, the recesses/projections on the surface of electrode materials can be suppressed in lamination on the semiconductor substrate 10, photoresist can be applied approximately uniformly along the surface, and the conventional development unevenness are suppressed to improve the yield. - 特許庁
  • リフトフォーク１昇降案内するリフトマスト２を立設する走行ベース３の前側左右両側部に、リーチレッグ４を突出して前端部に前輪５を設け、この走行ベース３の後側底部には操向自在のキャスター６を設け、前記リフトマスト２の後側には、ロードセル７を介して左右両側方へ突出するハンドル８を設けて、このハンドル８の前後方向への曲げ操作力をこのロードセル７により検出して、前記走行ベース３上に搭載した左右一対のモータ９を各々に正、逆転駆動し、前方対向側の前輪５をアシスト駆動して走行することを特徴とするハンド走行フォークリフターの構成とする。
    The bending steering force of the handlebar 8 in the longitudinal direction is detected by the load cell 7, a pair of right and left motors 9 mounted on the traveling base 3 are driven forwardly and backwardly, respectively, to allow the assist drive of the front wheels 5 on the forward opposing side to travel. - 特許庁
  • 今年３月末の数字で、我が金融庁は、世界でも最も先進的な取組みとして、サブプライム関連の証券化商品、あるいはこの３月期については、その対象を広げてサブプライム関連以外の証券化商品、すなわちサブプライム以外のCLO（合成ローン担保証券）、CDO（合成債務担保証券）、あるいはサブプライム以外のRMBS（住宅モーゲージ担保証券）、さらにはCMBS（商業用不動産担保証券）、そしてレバレッジド・ローンというカテゴリーに分けて、我が国の預金取扱金融機関全てが保有しているこれら証券化商品等について、国全体の分を集計しそれを公表しているということでございます。
    As world-leading disclosure practice, the FSA has compiled and disclosed data regarding subprime-related securitized products as of the end of March 2008. As for the fiscal year ended in March, the FSA expanded the scope of disclosure to include securitized products not related to subprime mortgages, namely non-subprime CLO (collateralized loan obligations) and CDOs (collateralized debt obligations), as well as non-subprime RMBS (residential mortgage-backed securities), CMBS (commercial mortgage-backed securities) and leveraged loans. The FSA then compiled and disclosed nation-wide data regarding all Japanese financial institutions' holdings of securitized products with regard to each of these categories of securities.  - 金融庁
  • 食刻対象層１２の上部にフォトレジストパターン１４を形成する段階と、プラズマ処理を行いフォトレジストパターン１４の側壁に食刻対象層１２の食刻速度を増加させるための食刻速度増加膜を一定の厚さで形成する段階と、食刻速度増加膜が形成されているフォトレジストパターンを食刻マスクとして用いて食刻対象層を食刻することによりコンタクト用のウィンドウを形成する段階とを備えることを特徴とする。
    A method for fabricating a semiconductor device comprises a step for forming a photoresist pattern 14 on a layer 12 to be etched, a step for forming an etching rate increasing film of the layer 12 on the side wall of the photoresist pattern 14, and a step for forming a contact window by etching the layer 12 using the photoresist pattern on which the etching rate increasing film is formed as an etching mask. - 特許庁
  • 洗浄液として、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等の“アルキレングリコールアルキルエーテル及び／又はそのエステル誘導体”を主成分とし、水及び水溶性不揮発性の添加剤を実質的に含有しない洗浄剤を使用して、有機ＥＬ素子材料が付着したメタルマスクを洗浄した後に、必要に応じてイソプロピルアルコール等の前記洗浄剤を溶解する有機溶媒からなるリンス液を用いてリンスを行い、更に乾燥する。
    The metal mask to which the organic EL element material adheres is cleaned using a cleaning solution of a cleaning agent consisting essentially of "alkylene glycol alkyl ether and/or its ester derivatives" such as dipropylene glycol monomethyl ether and not substantially containing water and a water-soluble nonvolatile additive, rinsed using a rinse agent consisting of an organic solvent dissolving the cleaning agent such as isopropyl alcohol, if necessary, then dried. - 特許庁
  • 同社が開発するグローバル展開用のマーケティング・ツールは、例えば、ある製品をブランド化して売り込む場合、その製品のコアコンセプトとなるコピーと高級感のあるキービジュアルで表現した「マスタービジュアル」を作成し、ポスター等のロゴや色調は統一する一方、写真等については、販売先の国の子会社や代理店等が、販売先の国の国民性や商慣行などを考慮して、自由に選択できるようにしている。
    The marketing tools for global expansion which the company develops, in the case of turning a certain product into a brand and then marketing it for example, involve creating a copy that becomes the core concept of the product and a high-grade “master visual” which realizes the key visual aspects. While on one hand the logos and colors used in posters and other materials are unified, the other elements, such as photographs, can be selected freely thanks to the help of subsidiaries and agencies in the country in question which give consideration to factors such as the national traits and business practices of that country. - 経済産業省
  • カーボンナノチューブの表面に陽イオン重合に参加することが可能なオキシラン基又はアンハイドライド基を導入し、前記カーボンナノチューブを光酸発生剤又は光塩基発生剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、フォトマスクを介してＵＶに露光させ、露光部でカーボンナノチューブの陽イオン重合を誘発した後、非露光部を現像液で除去することにより、カーボンナノチューブのネガティブパターンを形成する。
    A negative pattern of carbon nanotubes is formed by introducing an oxirane group or anhydride group that can participate in cation polymerization of carbon nanotube surfaces, dispersing the carbon nanotubes in an organic solvent together with a photoacid generator or photobase generator, coating them on a group material, exposing them to an ultraviolet ray via a photo mask, inducing them into cation polymerization at an exposing part, and removing non-exposed parts by a developing solution. - 特許庁
  • カーボンナノチューブの表面に陽イオン重合に参加することが可能なオキシラン基又はアンハイドライド基を導入し、前記カーボンナノチューブを光酸発生剤又は光塩基発生剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、フォトマスクを介してＵＶに露光させ、露光部でカーボンナノチューブの陽イオン重合を誘発した後、非露光部を現像液で除去することにより、カーボンナノチューブのネガティブパターンを形成する。
    A negative pattern of carbon nanotubes is formed by introducing oxirane or anhydride groups capable of taking part in cationic polymerization into the surfaces of carbon nanotubes; dispersing the surface-modified carbon nanotubes, together with a photoacid or photobase generator, in an organic solvent; coating a substrate with the resulting coating liquid; exposing to UV through a photomask; inducing cationic polymerization of the carbon nanotubes in an exposed part; and removing an unexposed part with a developer. - 特許庁
  • ｐＭＯＳ領域のみエッチバックによってカバー絶縁膜６を除去した後、レジストを除去することで、ｐＭＯＳ領域のゲート電極４に薄膜のサイドウォール７が形成され、ｎＭＯＳ領域にｐＭＯＳエクステンションを形成する際のイオン注入のハードマスク８が形成される。
    The cover insulating film 6 is removed only from the PMOS region by etching back, and then the resist is removed, by which a thin side wall film 7 is formed on the gate electrode 4 in the PMOS region, and a hard mask 8 which is used for implantation of ions when a PMOS extension is formed in the NMOS region is formed. - 特許庁
  • 半導体ウエハをワックスレス法により研磨するのに用いるウエハ固定用のバッキングパッドにおいて、該パッドがフィルム状であり、ベースフィルムの片面にシリコーンゴムが形成されており、その反対面に粘着剤層ないしは、両面テープが積層された構成となっている事を特徴とするバッキングフィルムである。
    In a backing pad, used for polishing a semiconductor wafer by a wax-less method for fixing the wafer, this backing film is characterized by a constitution such that this pad is in film shape to be formed with a silicon rubber in one surface of a base film to laminate in its opposite surface a pressure sensitive adhesive layer or a pressure sensitive adhesive double coated tape. - 特許庁
  • 有機低誘電率膜に形成するビアホールの断面がボーイング形状になったり、有機低誘電率膜のエッチングマスクとして用いるシリコン含有絶縁膜が肩落ちすることがなく、有機低誘電率膜を精度よくエッチングすることができる半導体装置及びその製造方法の提供。
    To provide a semiconductor device and a method for its manufacturing by which no bowing is formed at the cross section of a via hole formed in the organic low-permittivity film, no lack of edges of an insulating film containing silicon used as an etching mask of the organic low-permittivity is generated and an organic low-permittivity film can be accurately etched. - 特許庁
  • 半導体装置の製造プロセスにおいて、下地バリアメタル層の上に、３μｍ以上の厚さのアルミニウム合金層が積層された積層配線層を所望のパターンに成形するにあたり、エッチングマスクとなるレジストのパターニングを１回で済ませ、下地バリアメタル層のエッチング寸法のばらつきを小さくすること。
    To lessen dispersion in etched dimensions in a base barrier metal layer by completing with one patterning of a resist into an etching mask when an aluminum alloy wiring layer not less than 3 μm in thickness deposited on the base barrier metal layer is patterned as desired in a semiconductor device manufacturing process. - 特許庁
  • 回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して膜厚の厚い領域と、該領域より膜厚の薄い領域を片側側部に有する非対称のレジストパターンを形成し、段差を有するゲート電極を形成し、ゲート電極の膜厚の薄い領域を通過させて前記半導体層に不純物元素を注入して、自己整合的にＬＤＤ領域を形成する。
    Thereafter, an LDD region is formed in a self-alignment manner by injecting an impurity element into a semiconductor layer through the region with the smaller thickness of the gate electrode. - 特許庁
  • 基板１上に形成されたＩＩＩ族窒化物層２上にＡｌ_ｘＧａ_１−ｘＮ（０≦ｘ≦１）なる組成のＥＬＯ成長層４が形成されてなり、ＥＬＯ（Epitaxial Lateral Overgrowth）成長層４は、ＩＩＩ族窒化物層２上に形成された炭素からなるマスクパターン３を用いて形成されたＩＩＩ族窒化物半導体エピタキシャル基板１０。
    The group III nitride semiconductor epitaxial substrate 10 comprises forming an ELO growth layer 4 of the composition of Al_xGa_1-xN (0≤x≤1) on a group III nitride layer 2 formed on a substrates 1, wherein the ELO (Epitaxial Lateral Overgrowth) growth layer 4 is formed using a mask pattern 3 consisting of carbon formed on the group III nitride layer 2. - 特許庁
  • 凸版印刷において、従来のネガフィルムおよびその代替品を用いた場合の問題点と、感光性樹脂層表面に直接インク組成物によりマスクパターンを形成する場合の問題点とを同時に解決することのできる凸版印刷用原版と、該凸版印刷用原版を用い凸版印刷版の製造方法を提供する。
    To provide an original plate for letterpress printing with which the problems with the use of the conventional negative film and its alternative and the problems with formation of a mask pattern by an ink composition directly on the surface of a photosensitive resin layer can be simultaneously solved and a method for manufacturing a letterpress printing plate using the original plate for letterpress printing. - 特許庁
  • (3) 本法の適用上，「組物」とは，通常一緒に販売され又は一緒に使用される同じ一般的性格を有する複数の物品であって，同じ意匠，又は当該物品の性格を変更する程度には至らない若しくは同一性に実質的な影響を及ぼさない程度の修正若しくは変化を施した同じ意匠が各個別の物品に応用されているものをいう。ただし，連続マスクワークは，組物ではない。
    (3) For the purposes of this Act, a "set of articles" means a number of articles of the same general character which are ordinarily on sale together or intended to be used together, and in respect of which the same design, or the same design with modifications or variations not sufficient to alter the character of the articles or substantially affect the identity thereof, is applied to each separate article: Provided that a series of mask works shall not be a set of articles. - 特許庁
  • メモリの２つのブロックがリンクされて、メモリブロック１０３５に対して選択されたアドレスのブロックのアドレス復号器１０４０〜１０４２内の最上位アドレスビットをマスキングすることにより両方の調停回路がロックステップで動作するメモリの単一の併合されたブロックを形成できる。
    The two blocks of the memory are linked, and the most significant address bits in address decoders 1040-1042 of the blocks of the selected addresses are masked for a memory block 1035 so that it is possible to form the single merged block of the memory in which the both arbitrating circuits operate in a lock step. - 特許庁
  • 気導受話器２、骨導受話器３、マスキング受話器４や応答スイッチ５など複数の機器が夫々ケーブル６，７，８，９でオージオメータ本体１に接続されたオージオメータであって、オージオメータ本体１に、各ケーブル６，７，８，９を自動的に巻き取るリール１５，１６，１７，１８を設けた。
    In the audiometer in which a plurality of devices such as an air-conduction receiver 2, a bone-conduction receiver 3, a masking receiver 4, a responding switch 5 are connected to the audiometer body 1 by cables 6, 7, 8, 9, respectively, reels 15, 16, 17, 18 for automatically winding the respective cables 6, 7, 8, 9 are arranged in the audiometer body 1. - 特許庁
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