「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 268 269 270 271 272 273 274 275 276 .... 366 367 次へ＞- Thus, even when there is a residual matter of laser work, crack or a crystal defect on the inner surface of the pierced hole, a satisfactory insulation film can be formed and a satisfactory semiconductor device can be formed.
これにより貫通孔の内面にレーザ加工による加工残存物およびクラックや結晶欠陥がある場合でも、良好な絶縁膜を形成する事ができ、良好な半導体装置を形成する事ができる。 - 特許庁 - The silicon single crystal is grown by selecting the growing rate to control the size and density of the grow-in defect caused by the void introduced into the inside of the crystal to be a desired value based on the simulation result.
そして、そのシミュレーション結果に基づいて、結晶内部に導入される空孔起因のグローンイン欠陥のサイズと密度とが所望の値となるように成長速度を選択し、シリコン単結晶を育成する。 - 特許庁 - To provide a tetraalkyldialkoxydistannoxane which is used in the production of a dialkyl tin alkoxide or as a reaction catalyst, supplements a defect of the by-production of a trialkyl tin compound, and is hardly thermally degenerated.
ジアルキルスズアルコキシド製造の際あるいはテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサンを反応触媒として使用する際にトリアルキルスズ化合物が副生するという欠点を補った、熱変性しにくいテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサンの提供。 - 特許庁 - To provide a high chromium cast iron suitable for a large-sized casting product in which a metal structure is further made to be fine and uniform, thereby generation casting defect and toughness deterioration are inhibited, and improvement of hardenability is aimed at.
大型の鋳物製品に適した高クロム鋳鉄において、金属組織の更なる微細化と均一化により、鋳造欠陥の発生と靱性低下を抑制しつつ、焼入れ性の向上を図ることを目的とする。 - 特許庁 - By forming a region bent in the protective layer 181 so as to have a small tension, the restitutive force of the flexible printed circuit board 170 can be decreased to prevent the floating defect.
保護層１８１の曲げられる領域が小さいテンションを有するように形成することによって、フレキシブル印刷回路基板１７０の復原力を減少させて浮き上がり不良を防止することができる。 - 特許庁 - To provide an excitation light radiation device capable of avoiding the defect of a halogen lamp light source by use of an LED (light emitting diode) light source, and irradiating the same subject with a plurality of excitation lights differed in wavelength.
ＬＥＤ光源を用いることによりハロゲンランプ光源の欠点を回避すると共に、同じ検体に対して複数の異なる波長の励起光を照射できる励起光照射装置を提供すること。 - 特許庁 - Each pattern while having a reflection factor of ≤20% to exposure light of 248 (nm) in wavelength, has a ≥10% difference to defect inspection light of 488 (nm) in wavelength.
各パターンは、波長２４８［ｎｍ］の露光光に対しては、共に２０％以下の反射率を示す一方、波長４８８［ｎｍ］の欠陥検査光に対しては、１０％以上の相違を示すように構成されている。 - 特許庁 - The insulating film 41 is formed to be able to secure the withstand voltage to the voltage applied to the resistor element 34 even when there occurs a defect in the second STI separating layer 33 in a manufacturing process.
絶縁膜４１は、製造過程において第２ＳＴＩ分離層３３に欠陥が生じた場合であっても、抵抗素子３４に印加された電圧に対して耐圧を確保することが可能に形成されている。 - 特許庁 - To provide a development device, a process cartridge and an image forming apparatus free from abnormal images, such as a white stripe images, void images or a spot defect image, without producing toner aggregates or developer aggregates.
トナーの凝集体や現像剤の凝集体が形成されることなく、白スジ画像、白抜け画像、ポチ点画像等の異常画像が生じることのない、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To continue reproduction and return quickly to high speed reproduction even if tracking or focus servo is off by defect caused by scratch and dirt of an optical disk during high speed reproduction in an optical disk reproducing device.
光ディスク再生装置において、高倍速再生時に光ディスクの傷や汚れなどによるディフェクトによってトラッキングまたはフォーカスサーボが外れても再生が継続でき、速やかに高倍速再生に復帰できるようにする。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus having a cleaning means that can output a stable image without a decrease in performance of a charging brush nor a defect in electrification even when a thick residual toner layer is conveyed by an intermediate transfer body.
厚い残留トナー層が中間転写体で搬送されても帯電ブラシの性能低下や、帯電不良が起こらず安定した画像を出力できるクリーニング手段を有する画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - Even if the burr 13 composed of the solder exists, since the burr 13 melts by the reflow in the time of mounting of a semiconductor device 1 on a mounting substrate, the mounting defect caused by the burr 13 is not generated.
半田からなるばり１３が存在していても、そのばり１３は半導体装置１の実装基板への実装時のリフローにより溶融するので、ばり１３に起因する実装不良の発生を生じない。 - 特許庁 - To provide a porous substrate having no defect but uniform predetermined thickness as a dielectric film usable for electronic circuit substrates, and to provide a method for easily obtaining such porous substrates.
電子回路の基板などに用いられる誘電体膜として、欠損部がなく、所定の厚さの均質な多孔質基板を提供すると共に、そのような多孔質基板を容易に得ることのできる方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for easily performing optical defect inspection, satisfying mechanical strength and excellent peeling property required in manufacturing by a method for manufacturing a liquid crystal film which includes no base substrate film and is made thin.
支持基板フィルムのない薄膜化した液晶フィルムの製造法において、製造時に要求される機械的強度、良好な剥離性を満足し、かつ光学的な欠陥検査を容易にできる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method that can select only the necessary semiconductor packages by accumulating defects in each semiconductor package manufacturing process in the defect location recognition information, and reading the related board identification information.
半導体パッケージの製造工程において工程毎に生じた不良箇所を不良位置認識情報に累積記録させ、基板識別手段の情報を読み取ることにより、必要とする半導体パッケージのみ選別する。 - 特許庁 - Inspection systems, circuits and methods are also provided to enhance defect detection by addressing saturation levels of the amplifier and analog-digital circuitry as a limiting factor of the measurement detection range of an inspection system.
検査システムの測定検出範囲の制限要因として増幅器及びアナログ・デジタル回路の飽和レベルに対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路及び方法も提供される。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor substrate which forms a strain-relaxed SiGe layer having been lattice-relaxed or partially lattice-relaxed and thus makes dislocation defect small, and to provide the semiconductor substrate.
格子緩和又は一部格子緩和した歪緩和ＳｉＧｅ層の形成を可能にし、これによって転位欠陥を少なくするようにした半導体基板の製造方法及び半導体基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a turbine disk of a gas turbine engine having such a shape that changes empty air stream due to a profile shape of a conventional disk slot abruptly and capable of overcoming defect such as pressure loss of an inlet caused by an inlet.
従来のディスクスロットの輪郭形状に起因する空気流を急激に変化させる形状の入口に起因するインレットの圧力損失等の欠点を克服するガスタービン・エンジンのタービンディスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing coated particles reduced in the formation of a lump and the defect of films formed on the surfaces of particles, excellent in initial elution suppressing effect, high in productivity and having high heat efficiency.
被覆粒子の団塊および粒子表面の皮膜の欠陥が少なく、かつ、初期の溶出抑制効果に優れ、高い生産性が得られ、高い熱効率を有する被覆粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a high reliability touch panel with which a conducting defect does not occur even when a lifting is generated a little between a lead electrode and a conductive adhesive agent and/or between a communication electrode and the conductive adhesive agent.
リード電極と導電性接着剤との間および／または連絡電極と導電性接着剤との間で多少浮きが生じても、導通不良にならない高信頼性タッチパネルを提供する。 - 特許庁 - To provide a glass substrate for a flat display capable of firmly bonding a transparent electrode deposited on a surface of a glass substrate to the substrate surface and suppressing generation of peeling defect of the transparent electrode.
ガラス基板の基板表面に成膜される透明電極を基板表面に堅固に接着させることができ、透明電極の剥離欠損の発生を抑制できるフラットディスプレイ用ガラス基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a silicon single crystal which yields an epitaxial wafer which has no epitaxial defect and shows a good in-plane uniformity concerning oxygen precipitation density and an excellent IG (intrinsic gettering) effect, the epitaxial wafer and their manufacturing processes.
エピタキシャル欠陥の発生がなく、酸素析出物密度の面内均一性が良好で、かつｌＧ（Ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ ｇｅｔｔｅｒｉｎｇ）効果にすぐれたエピタキシャルウェーハが得られるシリコン単結晶とエピタキシャルウェーハ並びに製造方法の提供。 - 特許庁 - Surface 2a of an article 2 is irradiated obliquely from above with a light beam and a shade formed by irregularities on the surface 2a is detected as a defect.
本発明の不良検出方法は、物品２の表面２ａに対し斜め上方から光線を照射し、その結果表面２ａの凹凸により形成された陰影を上記不良として検出することを特徴としている。 - 特許庁 - To control a composition or a defect of an oxide semiconductor and to obtain a sufficient on/off ratio while increasing the field effect mobility of a thin film transistor and suppressing off-state current.
酸化物半導体の組成若しくは欠陥制御をすることを目的の一とし、また、薄膜トランジスタの電界効果移動度を高め、オフ電流を抑えつつ十分なオンオフ比を得ることを他の目的の一とする。 - 特許庁 - Thus, the directivity of the design of the article to be manufactured is easily attained and the highly accurate design with less trouble of causing the structural defect of a decided article is easily and smoothly performed.
従って、これから作ろうとする物品のデザインの方向性をより簡単に、また決定物品の構造的欠陥を生じる心配が少ないより精度の高い設計を簡単且つスムーズに実施することができる。 - 特許庁 - Information related to a solid geometric shape of the defect D can be obtained even be the single electron beam detector by calculations with the use of a plurality of detection signals of the obtained secondary electron beams.
そして、得られた二次電子線の複数の検出信号を用いて演算することにより、単一の電子線検出器を用いても、欠陥Ｄの立体的な幾何学的形状に関する情報を取得できる。 - 特許庁 - To provide a highly versatile, barrel polishing technology in centrifugal barrel type barrel processing capable of providing high machining efficiency with a favorable yield and low in defect rate, irrespective of types and characteristics of constituent materials of a workpiece.
遠心バレル方式のバレル加工において、ワークの構成材料の種類・特性に関わらず、不良率が低くて歩留まり良好で、高い加工効率が得られる汎用性の高いバレル研磨技術を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for manufacturing a porous body by which the molded porous body can be easily and surely released from a mold under a flawless condition with no defect without damaging each molding pin of a group of molding pins.
成形ピン群の各成形ピンを損傷させることなく、成形された多孔体を欠損のない無傷の状態で容易かつ確実に離型することができる多孔体の製造装置を提供する。 - 特許庁 - In an oxygen absorbing laminated body, an oxygen absorbing layer, an odor barrier layer, and a heat seal layer are laminated from an outer layer toward an inner layer, the oxygen absorbing layer is obtained by blending a cerium oxide having an oxygen defect with thermoplastic resin.
外層から内層に向かって、酸素吸収層、臭味バリア層、ヒートシール層とが積層され、前記酸素吸収層は、熱可塑性樹脂に酸素欠陥を有する酸化セリウムを配合してなることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a ball-type constant velocity joint capable of elongating life of a retainer by avoiding generation of a sliding defect of the retainer and an inner ring even when swelling occurs on an outer peripheral surface of the inner ring.
内輪の外周面に盛り上がり部が発生した場合においても、保持器と内輪との摺動不良の発生を回避して、保持器の長寿命化を図り得るようにしたボール型等速ジョイントを提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern profile detecting device or method that is capable of detecting at a high-speed a shaping defect in a pattern profile of a patterned media surface and a stamper as well as a production line for patterned media disks.
本発明は、本高速でパターンドメディア表面やスタンパのパターン形状の整形不良を検査できるパターン形状検査装置または検査方法並びにパターンドメディアディスク製造ラインを提供することである。 - 特許庁 - To provide an apparatus for three-dimensional shaping, a method for three-dimensional shaping and a program for three-dimensional shaping which reduce the possibility of occurrence of color omission and a defect in structure of a three-dimensional structure even when defective discharge arises.
吐出不良が生じた場合においても、３次元構造物の色抜けや構造欠陥が生じる可能性を低減した３次元造形装置、３次元造形方法、及び３次元造形プログラムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for evaluating crystallinity of a titanium oxide particle having higher crystallinity in comparison with a previous one and excellent decomposition power by photocatalytic action, and a method for measuring surface defect density of the same particle.
従来の酸化チタン粒子に比べ結晶性が高く、光触媒作用による分解力に優れる酸化チタン粒子の結晶性評価方法、及び酸化チタン粒子の表面欠陥密度測定方法の提供。 - 特許庁 - The OAM control section 54 for redundancy stops transmission of the OAM when defect occurs in the conduction state, and the access switch switches the active-system path to the standby-system path being triggered by it.
前記冗長用ＯＡＭ制御部５４は、前記導通状態に異常が生じた場合に前記ＯＡＭの送信を停止し、それを契機として前記アクセススイッチは前記現用系パスを前記予備系パスに切り替える。 - 特許庁 - To provide a device and a method for shape inspection which can surely detect a dimensional insufficiency and can determine it as a defect when the shape and dimensions of an inspection object are smaller even by a little than prescribed ones.
被検査体が所定の形状および寸法よりもわずかでも小さい場合には寸法不足を確実に検出して欠陥であると判定できる形状検査装置および形状検査方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a chemical mechanical polishing pad capable of making compatible both the improvement of the flatness of a surface to be polished and the reduction of a polishing defect (scratch) in CMP, and a chemical mechanical polishing method using the pad.
ＣＭＰにおける被研磨面の平坦性の向上と研磨欠陥（スクラッチ）の低減とを両立させることができる化学機械研磨パッド、および該化学機械研磨パッドを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an arm cover for facilitating attachment/detachment by eliminating such a defect that the attachment/detachment of the arm cover is troublesome due to the existing of a plurality of fixing bolts, and the fall-off of the bolts resulting from a secular change.
アームカバーの取り付け、取り外しに複数個の固定用ボルトのため面倒な作業であり、経年変化によりボルトが落下するという欠点を解消し、取り付け、取り外しが容易なアームカバーを提供すること。 - 特許庁 - To provide a developing device capable of suppressing the occurrence of an image defect by keeping the circulation of a developer in a developer container constant while enhancing the detection accuracy of a magnetic permeability detecting sensor.
本発明は、透磁率検知センサの検出精度を高めつつ、現像容器内の現像剤の循環を一定に保つことで画像の不具合の発生を抑制できる現像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a new bonding method in which materials are bonded to each other without producing a defect such as local deterioration or deformation due to heat so that a bonded layer has electrical or optical functions such as light receiving properties.
材料接合の際に、熱による局所的な変質や変形等の欠陥を生じさせず、かつ接合層が受光性など電気的あるいは光学的機能性を有するような、新規接合法を確立する。 - 特許庁 - To provide a polyester film for a base material-less double-sided adhesive sheet in which a defect at inspection can be readily detected and which can be suitably used for optical purposes, for example, a touch panel, a liquid crystal polarizing plate, a retardation plate or the like.
検査時の不具合を容易に検出することができ、光学用途、例えば、タッチパネル、液晶偏向板、位相差板等に好適に利用することのできる基材レス両面シート用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of evaluating a surface or a surface layer of a semiconductor wafer capable of measuring a defect and contamination of the surface or the surface layer of the semiconductor wafer with high sensitivity and improving reliability of an evaluation result.
半導体ウェーハの表面または表層の欠陥および汚染を高感度に測定し、評価結果の信頼性を高めることが可能な半導体ウェーハの表面または表層評価方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a transfer device and a transfer method, reliably transferring ruggedness to a resin layer while preventing a transfer defect to the resin layer caused by a stamper; and to provide an apparatus and a method for manufacturing an optical disk.
スタンパによる樹脂層への転写不良を防止しつつ、樹脂層へ確実に凹凸を転写することができる転写装置および転写方法ならびに光ディスク製造装置および製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a lithium film deposition method by vacuum deposition method which is capable of controlling generation of defect during deposition of an Li film, and to provide a power generation element manufactured by the lithium film deposition method.
真空蒸着法によるＬｉ膜の成膜時に当該Ｌｉ膜に不具合が生じることを抑制できるＬｉ膜の成膜方法、およびこの成膜方法により製造した発電要素を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for growing a silicon single crystal, by which a single crystal of a defect-free region where OSF and grown-in defects are not included over the whole region in the radial direction is grown stably in a high yield.
径方向全域にわたりＯＳＦおよびｇｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥のない無欠陥領域の単結晶を歩留り良く安定して育成することができるシリコン単結晶の育成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a hardware flow control method for preventing the defect of data by reliably stopping data transmission from the other side when one device connected through a UART interface starts transition control to a reception invalidating state.
UARTインタフェースで接続された一方の装置が受信不能状態への遷移制御を開始した場合、相手側からのデータ送信を確実に停止させデータ欠損を防止するハードウェアフロー制御方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a reflection type mask and a method of manufacturing the same which can maintain transfer characteristics even if contamination cleaning is carried out, and can suitably correct a white defect.
本発明は、コンタミネーションクリーニングを行っても転写特性を維持することが可能であり、白欠陥を良好に修正することが可能な反射型マスクおよびその製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁 - To provide a film that is excellent in handleability in a sheet state and has optical characteristics causing no hindrance to a visual inspection in a cross-nicol method which is typical as a defect inspection of contamination of foreign matters etc. in a polarizing plate.
シート状態の取扱性に優れ、偏光板の異物混入等の欠陥検査として一般的なクロスニコル法による目視検査で障害とならないような光学特性を有するフィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device having high contrast and proper visibility and capable of reducing alignment defect of a liquid crystal, such as, disclination in the liquid crystal display device, when a black level is displayed.
黒レベルを表示するときの液晶表示装置のディスクリネーション及び光漏れといった液晶の配向不良を低減でき、コントラストが高く、視認性の良い液晶表示装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a polishing method that achieves high flatness of a polished surface of a polishing body after CMP processing, and further reduces the defect density of scratches or the like on the polishing surface of the polishing body compared with the conventional one.
ＣＭＰ処理後に、被研磨体の研磨面が高い平坦性を有するとともに、被研磨体の研磨面におけるスクラッチなどの欠陥密度を従来に比して低減させることができる研磨方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a barrier film capable of suppressing an environmental load and having an excellent gas barrier property by effectively utilizing a natural resource and suppressing the generation of a defect in a barrier layer caused by fine irregularity on the surface of a film substrate.
天然資源を有効利用し、かつフィルム基材表面の微細な凹凸に起因するバリア層内の欠陥の発生を抑制することで、環境負荷を抑え優れたガスバリア性を有するバリアフィルムを提供する - 特許庁
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