「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 299 300 301 302 303 304 305 306 307 .... 366 367 次へ＞- To provide a metallic mold for casting with which the air mixed in molten metal is surely exhausted and the invasion of the air in a cavity is prevented and further, even in the case of increasing the casting quantity, cast defects, such as missrun, gas defect, can be prevented.
溶湯中に混在する空気を確実に抜き、キャビティ内への空気の浸入を阻止し、さらに、鋳込み量が増加した場合であっても、湯廻り不良やガス欠陥等の鋳造欠陥を防止することが可能な鋳造用金型を提供する。 - 特許庁 - Consequently, even when the flattening insulating film 17 is formed in a heated state, large thermal stress is generated in neither the pixel electrode 9a nor the flattening insulating film 17, so a defect such as a hillock is hardly generated on the surface of the pixel electrode 9a.
このため、加熱した状態で平坦化絶縁膜１７を成膜しても、画素電極９ａおよび平坦化絶縁膜１７に大きな熱応力が発生しないので、画素電極９ａの表面にヒロック等の欠陥が発生しにくい。 - 特許庁 - To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, exposure latitude, focus depth and development defect performance and capable of forming a pattern having a satisfactory shape and to provide a pattern forming method using the same.
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device in which a defect or fault is not generated even if a ZnO semiconductor film is used and a ZnO film to which an n-type or p-type impurity is added is used for a source electrode and a drain electrode, and a manufacturing method thereof.
ＺｎＯ半導体膜を用い、ソース電極及びドレイン電極にｎ型又はｐ型の不純物を添加したＺｎＯ膜を用いたときでも欠陥や不良が生じない半導体装置及びその作製方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a charging unit that maintains the cleanability of a charging member, hardly pollutes the charging member even when the charging member and a charging member clean-up member are stored in a contact state, and suppresses the occurrence of density unevenness or an image quality defect such as a color point.
帯電部材のクリーニング性を維持しつつ、帯電部材と帯電部材清掃部材とを接した状態で保管した場合でも、帯電部材を汚染しにくく、濃度むら、色点等の画質欠陥の発生を抑制する帯電装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a cleaning member for an electrifying member which makes an electrifying member hardly stained and suppresses occurrence of an image quality defect such as irregular density even when it is kept for a long term in such a state that it contacts with the electrifying member while maintaining cleaning performance for the electrifying member.
帯電部材のクリーニング性を維持しつつ、帯電部材と接した状態で長期に保管した場合でも、帯電部材を汚染しにくく、濃度むら等の画質欠陥の発生を抑制する帯電部材清掃部材を提供する。 - 特許庁 - To provide a corrosion resistant member coated with a coating film free from generation of a film defect such as a crack and capable of enhancing corrosion resistance, to provide a vapor deposition device, to provide a vapor deposition method and to provide a coating method.
クラック等の膜欠陥が発生するおそれが無く、耐食性を大きく向上させることができるコーティング膜が施された耐食性部材、気相成長装置、気相成長方法及びコーティング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a process for producing a polycarbonate resin composition having stable productivity upon production, excellent appearance without causing a surface defect such as a silver streak and stable flame retardancy, and to provide a molded article obtained by injection-molding the polycarbonate resin composition.
製造時の生産性が安定し、また、シルバーストリーク等の表面欠陥の発生がなく、外観性に優れ、かつ、安定した難燃性を有するポリカーボネート樹脂組成物の製造方法及びそれを射出成形して得られた成形品を提供する。 - 特許庁 - The confocal differential interference image shows unevenness change of approximately several nm of a sample surface in the form of a luminance distribution, so a crystal defect appearing on the SiC substrate surface or epitaxial layer surface is detected based upon the luminance distribution.
共焦点微分干渉画像は、試料表面の数ｎｍ程度の凹凸変化を輝度分布として表すので、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面に出現した結晶欠陥を、輝度分布に基づいて検出することができる。 - 特許庁 - To provide a crystal growth method growing a good ZnO crystal by reducing a crystal defect of ZnO crystal grown on a saphire substrate in regard to the ZnO crystal, its growth method, and a semiconductor device using it.
ＺｎＯ結晶、その成長方法及びそれを用いた半導体装置に関し、サファイヤ基板上に成長されるＺｎＯ結晶の結晶欠陥を低減し、良質なＺｎＯ結晶を成長する結晶成長方法を提供する。 - 特許庁 - Since the void formed between the via electrode and the ceramic substrate is removed, fixation strength between the via electrode and a probe chip can be increased and a defect such as a hollow in a periphery of the via electrode can be prevented.
本発明によると、ビア電極とセラミック基板の間に形成されたボイドが除去されるため、ビア電極とプローブチップの間の固着強度を強化することができ、ビア電極の周辺が陷沒するような不良を防止することができる。 - 特許庁 - Subsequently, the correction ink is applied to a laser beam irradiation region by an inkjet device 6, a solvent included in the correction ink is evaporated concurrently with the application of the correction ink and, thereby, the defect existing in the color filter 2 is corrected.
次いで、インクジェット装置６によりレーザ光照射領域に修正用インクを付与し、修正用インクを付与すると同時に修正用インクに含まれる溶媒が蒸発させることによってカラーフィルタ２に存在する欠陥を修正する。 - 特許庁 - The manufacturing method includes a process of forming a second insulation film on the wiring layer formed on the first insulation film without irradiating the defect with the converged ion beam when the irradiation of the converged ion beam is not selected in the selection process.
また、選択工程において集束イオンビームを照射しないと選択された場合には、欠陥に集束イオンビームを照射せずに第１の絶縁膜上に形成された配線層上に第２の絶縁膜を形成する工程を有する。 - 特許庁 - In the case the defective pixel is found out with dynamic operating inspection or the like, the laser irradiation is performed through the gouged out parts 11, 21 related to the defective pixel from the display surface side so as to short-circuit a source electrode 41 and a gate electrode 42 and the defective pixel turns into an unlit defect.
点灯検査等により欠陥画素が発見された場合、該欠陥画素に係る抜き部１１，２１を通じて、表示面側からレーザー照射を行うことにより、ソース電極４１とゲート電極４２とを短絡させて、滅点化を行う。 - 特許庁 - To provide an surgical microscope capable of being simply and rapidly subjected to equilibration and especially avoiding the defect of an existing device like the attachment of an additional weight or the joining with an arm or the like only on the side of one of the opposed parts (side surfaces) of the microscope.
平衡化を簡単かつ迅速に行うことができ、かつとりわけ付加重りの取り付けや顕微鏡の相対する部分（側面）の一方側のみでのアーム等との結合のような既知の装置の欠点を回避する手術顕微鏡。 - 特許庁 - When conducting the marking, the rotary actuator 180 rotates the marker 183 to advance the marker 183 to a position opposed to the defect portion and the elevation mechanism 182 make the marker 183 go down to a position where the marker 183 abuts on the substrate 90.
マーキングを行う場合には、ロータリーアクチュエータ１８０がマーカ１８３を回動させることにより、マーカ１８３を欠陥箇所に対向する位置に進出させ、昇降機構１８２がマーカ１８３を基板９０に当接する位置に降下させる。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device in which the probability of correction of a defect in a display area is improved by lowering the probability of occurrence of a short circuit at crossing parts of rescue wiring and signal lines of the liquid crystal display device provided with thin film transistors.
薄膜トランジスタを備えた液晶表示装置のレスキュー配線と信号線の交差部での短絡の発生確率を低下させ、表示領域の欠陥の修正が可能となる確率を向上させた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - Then, the film 106 is patterned to form the film 106 into island-like silicon layers 108 and thereafter, a thermal oxidation treatment of the layers 108 is performed in an oxidizing atmosphere containing a halogen element, whereby island-like silicon layers 109 from which a trap level and a defect are removed, are obtained.
次に単結晶シリコン薄膜１０６をパターニングして島状シリコン層１０８とした後、ハロゲン元素を含む酸化性雰囲気中で熱酸化処理を行うことで、トラップ準位や欠陥の除去された島状シリコン層１０９を得る。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method, a substrate processing method, a replication method of a mold structure, which can duplicate the mold structure with high precision by single imprint, is low in defect generation and can form a micropattern efficiently, and the mold structure.
モールド構造体の複製を１回のインプリントで高精度に行え、欠陥の発生が少なく、微細パターンを効率よく形成することができるパターン形成方法、基板加工方法、モールド構造体の複製方法、及びモールド構造体の提供。 - 特許庁 - To obtain a defect-free welded body in a butt welding method by a friction stir welding method between metallic materials, between organic materials, or a metallic material and a organic material, different in physical characteristics or mechanical characteristics.
物理的特性または機械的特性の異なる金属材料同士，有機系材料同士または金属材料と有機材料とを、摩擦攪拌接合方法によって突合せ接合する方法において、欠陥のない健全な接合部を得る。 - 特許庁 - To provide a weighing system for diagnosing quickly an abnormality of a weighing head in a weighing head abnormality diagnosis mode for generating a state wherein a specific weighing head supposed to be a cause of weighing defect is used without fail.
計量不良の要因と想定される特定の計量ヘッドを必ず使用する状況を作り出すという計量ヘッド異常診断モードによって、その計量ヘッドにおける異常の存否を迅速に診断する計量システムを提供する。 - 特許庁 - To provide an ultraviolet irradiation device which can cure good an ultraviolet curable color ink of a plurality of colors adhered on a recording medium for the purpose of multi-color printing such as full-color printing without the defect of bleeding and color mixture caused.
フルカラー印刷等の多色印刷のために記録媒体上に付着された複数色の紫外線硬化型のカラーインクを、にじみや色混じりという不具合を招くことなく、良好に硬化させることのできる紫外線照射装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a cassette for an infusion pump with which changeover is reliably kept between a free-flow state and an anti-free-flow state, response is easily performed to naturally dropping infusion, the number of components is drastically reduced, and also a defect hardly occurs in an operation.
フリーフローの状態とアンチフリーフローの状態とを確実に切り換え維持でき、自然落下による輸液にも容易に対応できるだけでなく部品点数が極めて少なく動作不良が発生し難い輸液ポンプ用カセットを提供する。 - 特許庁 - The oxide solid lubricant film comprises a compound oxide that has a layer oxygen defect perovskite structure represented by composition formula (1): Sr_xCa_1-xCuO_y (wherein X shows a number of 0.0-1.0; y is a number of 1.8-2.2).
下記組成式（１） Ｓｒ_ｘＣａ_１−ｘＣｕＯ_ｙ （１） （式中、Ｘは０．０〜１．０の数を示し、ｙは１．８〜２．２の数を示す）で表される層状酸素欠陥ペロブスカイト構造を有する複合酸化物からなる酸化物系固体潤滑膜。 - 特許庁 - The polarization (alpha)(an angle (alpha) from s-polarization) of light irradiated to a sample, an object under defect detection, is calculated by substituting the condition of the circuit pattern of the sample, and the azimuth angle, and incident angle of irradiation light into a prescribed formula.
欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光（アルファ）（ｓ偏光からの角度（アルファ））を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。 - 特許庁 - Since a lower layer electrode 31 formed on the top face of the core 11 is unerringly covered by a light-emitting layer 32 formed on the top face, a defect such as a disconnection or a short circuit can be prevented from occurring in the light-emitting element 30.
上記構造によれば、コア１１上面に形成される下層電極３１を、その上面に成膜される発光層３２が確実に被覆できるため、発光素子３０に断線や短絡という欠陥が発生することを確実に防止できる。 - 特許庁 - Then, the kind of a defect is discriminated within the image photographed by the imaging device 1, under the condition where the inspected object is lighted by the oblique light source 4, based on a form of density change in the area of the defective portion, in the image processing part 7.
その後、画像処理部７は、斜方光源４により検査対象を照明した状態で撮像装置１に撮像された画像内において不良部分を含む領域の濃度変化の形により不良の種類を識別する。 - 特許庁 - The magnetic recording layer 3b which needs to be heated or cooled prior to recording is disposed on one surface of a base material 2 provided with a IC module 4, printings 5a and 5b and the like and coated thereon with a masking layer 7b having high thermal conductivity to eliminate the defect.
ＩＣモジュール４、印刷５ａ、５ｂ等を備えた基材２の片面に、記録に先立って、加熱もしくは冷却を要する磁気記録層３ｂを有し、その上を熱伝導性の高い隠蔽層７ｂで被覆し、課題を解消することができた。 - 特許庁 - The pattern inspection device 1 is equipped with an ideal pattern generation part 30 which automatically generates an ideal pattern PR and a comparison decision part 50 which decides a defect of an inspected pattern by using the result of a comparison between the ideal pattern PR and inspected pattern PS.
パターン検査装置１は、理想パターンＰＲを自動生成する理想パターン生成部３０と、理想パターンＰＲおよび被検査パターンＰＳとの比較結果を用いて被検査パターンの欠陥を判定する比較判定部５０とを備えている。 - 特許庁 - To obtain large relieving efficiency with small area by using a common fuse set for row/column common relieving for arbitrary one side of row relieving or column relieving, according to that the defect of row being more or the defects of column being more in a memory chip and to enhance relieving efficiency.
メモリチップにロウ不良が多いかカラム救済が多いかに応じてロウ／カラム共通救済用フューズセットをロウ救済あるいはカラム救済の任意の一方に使用し、救済の効率を高め、少ない面積で大きな救済効率を得る。 - 特許庁 - To provide a laminated ceramic electronic component which prevents inner defect during baking such as delamination and crack, prevents crack in a thermal impact test, is excellent in print property of conductive paste, and has small characteristic dispersion, and to provide its manufacturing method.
デラミネーション、クラックなどの焼成時の内部欠陥を防止するとともに、熱衝撃試験におけるクラックを防止し、かつ導電性ペーストの印刷性が良好で、特性ばらつきが小さい積層セラミック電子部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Preferred embodiments of the present invention can be used to rapidly navigate to one single bit cell in a memory array or similar structure, for example to characterize or correct a defect in individual bit cells in the memory array or similar structure.
例えばメモリ・アレイまたは類似の構造内の個々のビット・セルの欠陥を特徴づけまたは補正するために、本発明の好ましい実施形態を使用して、メモリ・アレイまたは類似の構造内の単一のビット・セルへ迅速にナビゲートすることができる。 - 特許庁 - To provide a camera, which has a lens frame unit containing driving mechanisms so that a defect of the lens frame can be detected in an early production stage and minimizes the scale of an electric circuit to suppress the rise of the cost, and an electric driving unit.
カメラのレンズ鏡枠の不良を早い工程で検出可能なようにレンズ鏡枠単体で駆動機構の簡潔したカメラであり、電気回路の規模を最小限に抑えコストアップを抑えたカメラと電動駆動ユニットを提供すること。 - 特許庁 - The wafer appearance inspection device 201 includes: a measuring stage 205; a monitor camera 203 for imaging a surface shape of a wafer 204 placed on the stage; and a control computer 202 for executing detection processing of surface shape defect of the wafer 204.
ウェーハ外観検査装置２０１は、測定ステージ２０５と、その上に載置されたウェーハ２０４の表面形状を撮像するモニタカメラ２０３と、ウェーハ２０４の表面形状欠陥の検出処理を実行する制御用コンピュータ２０２を備える。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device which eliminates the need for tapering a connection hole by wet etching to reduce the aspect ratio of the connection hole and can reduce the generation rate of a connection hole formation defect.
本発明は、接続孔のアスペクト比を低減するために、ウェットエッチングにより接続孔にテ−パを施す必要がなく、接続孔形成不良の発生率を低減することができる半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a lighting device for inspection which is capable of irradiating a long-sized object to be inspected like a cable with uniform illuminance so that a defect of appearance can be stably detected by an image processing system, when inspecting the appearance of the object to be inspected.
ケーブルのような長尺物の被検査物の外観検査を行うに当たって、画像処理システムで安定して外観の欠陥を検出できるよう、一様な照度で被検査物を照射することができる検査用照明装置を提供する。 - 特許庁 - In this defect inspection apparatus, the inspection face of a monolithic carrier which has an outer edge in a prescribed shape and in which a regular lattice-shaped pattern is formed in a region surrounded by the outer edge is imaged by a low-magnification camera 20, and the imaged inspection face is output to a microcomputer 70 as image data.
低倍率カメラ２０により、所定形状の外縁を有し、この外縁によって囲まれる領域に規則的な格子状パターンが形成されるモノリス担体の検査面を撮像し、画像データとしてマイクロコンピュータ７０に出力する。 - 特許庁 - To provide a developer replenishing device capable of preventing a defect such as the scattering of developer to the outside of the device, maldistribution, clogging and the sticking of the developer in a circulation carrying path or the unstable detection of a developer residual amount sensor.
現像剤補給装置において、装置外への現像剤の飛散、循環搬送経路内での現像剤偏りと詰まりや固着、現像剤残量センサーの不安定検出といった欠点を防いだ現像剤補給装置を提供する。 - 特許庁 - The device does not generate transfer defect in the case of adopting the recording material P of the small size with high resistance by constituting the transfer system 15, so as to make dynamic impedance per unit length of the transfer nip N2 in the lengthwise direction to be 0.3 MΩ.m or less under all environment.
転写系１５を、転写ニップＮ２の長手方向の単位長さ当たりの動的インピーダンスが、全環境で０．３ＭΩ・ｍ以上となるようにすることにより、記録材Ｐが高抵抗の小サイズの場合の転写不良が防止される。 - 特許庁 - To provide an ink for ink jet recording, having high jetting stability and further capable of forming such a picture image as to be excellent in color, light stability, and water resistance, to have no defect in picture quality, such as bleeding of a narrow line, and to exhibit excellent image preservability under a severe condition.
吐出安定性が高く、しかも得られる画像の色相、耐光性、耐水性にも優れ、細線の滲みなど画質についての欠点が無く、過酷な条件下での画像保存性が優れたインクジェット記録用インクを提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device, wherein the existence of a bright spot defect generated by a minute foreign matter and the like invaded in an assembling step can be made inconspicuous up to a level practically having no problem while cost increase is suppressed; and to provide a bright spot suppressing method.
組立工程中の微小な混入異物などにより発生する輝点欠陥の存在を、コストアップを抑制しつつ実使用上問題ないレベルまで目立たなくさせることができる液晶表示装置及び輝点抑制方法の提供。 - 特許庁 - To stably grow an Si single crystal having no defective region by clearly detecting the type of a defective region or a defect-free region of an Si single crystal grown with a certain pull speed profile and feeding back such data for the subsequent pulling.
ある引き上げ速度プロファイルで育成されたSi単結晶の欠陥領域あるいは無欠陥領域のタイプを明確に検出し、このデータを次の引き上げにフィードバックすることよって、欠陥領域のないSi単結晶を安定して育成する。 - 特許庁 - To provide a cargo protective member wherein a shock and vibration can be effectively prevented to keep a cargo from being broken or damaged, movement due to a shift of the cargo is suppressed, and a defect of a precision instrument due to static electricity can be prevented from occurring.
衝撃や振動を効果的に防止して、荷物の破損や損傷を防止するとともに、荷物のズレによる移動を抑止し、かつ静電気による精密機器の欠陥の発生を防止することができる荷物保護部材を提供すること。 - 特許庁 - A bit which may cause a retention defect of a data retention capability resulting from random changes with time is screened by repeating a pause refresh test for checking a data retention function in the whole chip surface and the whole bits by an optimized frequency.
データ保持機能を調べるポーズ・リフレッシュ試験を、チップ全面全ビットにおいて、最適化された回数分繰り返すことで、データ保持能力のランダムな経時変化に起因したリテンション不良を生じる可能性のあるビットをスクリーニングする。 - 特許庁 - An image processing unit 1 includes a range-updating means 10 for adding a captured image of an object 4 to be inspected to an image memory 14 for setting as an image for setting, when a defect determining means 13 determines that the object is a conforming article.
画像処理装置１は、欠陥判定手段１３で良品と判定された場合に、当該検査対象物４の撮像画像を設定用画像として設定用画像メモリ１４に追加する範囲更新手段１０を有している。 - 特許庁 - To provide a glass blank designed to prevent the fogging defect of formed articles by accompanying the fusion of glass and dies at a high temperature and the degradation in the surface roughness of the dies and to improve a parting property in manufacturing of optical elements and a method for manufacturing the same.
高温におけるガラスと型の融着、および、型の表面粗さの低下に伴う成形品の曇不良、更には、光学素子の製造に際しての離型性の向上を意図したガラスブランクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for inspecting a loop material capable of quickly specifying a formation position of a specific shape site on the whole circumference of a loop material and of forming a condition in which the presence of a defect on the specific shape site can be inspected.
ループ材の全周における特異形状部位の形成位置を迅速に特定し、この特異形状部位における欠陥の有無を検査することができる状態を迅速に形成することができるループ材検査装置を提供すること。 - 特許庁 - To realize grounding of high reliability without continuity defect even in the case that the outside surface of the end part of a photoreceptor is worn due to contact with a photoreceptor support part with respect to a base body of the photoreceptor body made of resin of which a conductive layer is formed on the surface.
表面に導電性層が形成された樹脂製の基体について、感光体の端部の外側表面が感光体支持部と接触して摩耗した場合でも、導通不良を生ずることなく、信頼性の高い接地を可能とする。 - 特許庁 - To eliminate a defect of a prior-art, due to the fact that a distance between a conductor track and an aluminum layer is short a high electrostatic capacity is formed there, and that a time constant of electron for deciding a signal for electron beam control is increased.
導体トラックとアルミニウム層との間の短い距離により、そこに高静電容量が形成され、これが電子線制御用の信号の決定のための電子の時定数を増加させるという従来技術の欠点を改善する。 - 特許庁 - To provide a mask defect inspection apparatus which can inspect defects of a mask at once and can easily identify the kinds of defects even when illumination light has shorter wavelengths and even when the mask pattern has larger film thickness.
照明光の短波長化にもかかわらずかつマスクのパターンの膜厚が厚くなってもマスクの欠陥検査を一度に行うことができかつその欠陥の種類の識別も容易に行うことができるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
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