「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 324 325 326 327 328 329 330 331 332 .... 366 367 次へ＞- The magnetic materials are formed in plural columns on a continuous substrate by a magnetic material applying means 14, and the defective places are specified in such a manner that the defects are recognized by a defect detecting means 15 at each column and the identifying information is imparted by an identifying information imparting means 16.
連続した基体上に磁性体を磁性材塗布手段１４により複数列形成し、それぞれの列で欠陥を欠陥検出手段１５で認識させて識別情報付与手段１６により識別情報を付与することで欠陥個所を特定する。 - 特許庁 - A picture image fetched by a camera as analog data is converted into digital data by an analog-to-digital converter, and an inspection standard area and an inspection objective area different in accordance with the type of the defect are each set on the picture image by a matrix setting means 18.
カメラによってアナログデータとして取り出された画像のアナログデータの画像がＡ／Ｄ変換器によってデジタルデータに変換されると、マトリクス設定手段１８によって、画像上にて、欠陥の種類に応じて異なった検査基準領域および検査対象領域がそれぞれ設定される。 - 特許庁 - To provide a decorative sheet which contains a pattern layer arranged between a transparent resin film and a base material film, for which a specific film having no heating defect and good adhesion with a resin molded product and exhibiting good film forming property of its own is used.
透明性樹脂フィルムと基材フィルムとの間に図柄層が配置されている加飾シートであって、基材フィルムとして、加熱欠点がなく、しかも、樹脂成形物との密着性にも優れ、更には、それ自体の製膜性にも優れる、特定のフィルムを用いた加飾シートを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a color filter, in which the flatness of a colored pixel layer can be made superior, a color blend can be prevented from occurring due to intermixture of coloring inks of different colors between the adjacent colored pixel layers, and the generation of a pixel defect such as a local white void can be prevented.
色画素層の平坦性に優れるとともに、隣接する色画素層間における異色インクの混入により発生する混色を防止することができ、局部的な白抜けなどの画素欠陥が発生するのを防止することができるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To overcome poor pattern accuracy of chemical etching and adhesive defect when adhering an aluminum layer onto a transparent base material, which are the problems generated when the material of a metal pattern is replaced with cheap aluminum from copper, and to provide a low-cost and practicable transparent conductive member with the use of aluminum.
金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる課題である、ケミカルエッチングのパターン精度不良及びアルミニウム層を透明基材上に接着する際の接着不良を解消して、アルミニウムを用いた安価で而かも実用可能な透明導電部材を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a stamper capable of reducing a height defect of a pattern and fluctuation of a pattern width and accurately forming a more minute pattern shape by reducing scattering of an electron beam when a conductive layer is formed under a resist layer to draw a pattern on the resist layer.
レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radioactive waste disposal container which has little internal defect, is excellent in ability of shielding radioactive rays, and has a rectangular parallelopiped section so that it can be efficiently installed in a storage space, a method of manufacturing the container, and an apparatus of manufacturing the container.
内部欠陥が少なく放射線の遮蔽能力に優れ、かつ、断面が四角筒状をなして収容スペースに効率良く配置することができる放射性廃棄物処分容器、この放射性廃棄物処分容器の製造方法及び放射性廃棄物処分容器の製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a sublimable thermal transfer recording medium in which an antistatic layer arranged in a part does not peel during printing and thermal transfer recording is carried out without generating printing defect caused by static electricity generated during printing.
一部に設けられている帯電防止層が印画の際に剥離せず、しかも印画時に発生する静電気に起因する印画不良が生じないで熱転写記録が行われるようにしたことを特徴とする昇華性熱転写記録媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a hard stainless-steel wire which is superior in workability and mechanical characteristics such as strength and fatigue properties, also prevents a structural defect due to hydrogen from occurring or growing when having been used under the environment of high-pressure hydrogen, and is superior in hydrogen resistance, and to provide a formed product made by forming the same.
加工性に優れ、強度及び疲労等の機械的特性とともに、高圧水素環境下で使用される際の水素に対する組織的欠陥の発生・拡大を防ぎ、耐水素性に優れた硬質ステンレス鋼線、並びにこれを成形加工したステンレス鋼成形品を提供する。 - 特許庁 - The exposure frequency Ey is calculated at which the value of the function f(Ex) of the size Sn of the defects reaches a preset size Sy of the defect for reducing the yield of the wafer, after that, the photomask is not inspected, and the photomask is cleaned when the exposure frequency Ex reaches Ey.
欠陥の大きさＳｎの関数ｆ（Ｅｘ）の値が予め設定したウエハの歩留まりが低下する欠陥の大きさＳｙに達する露光回数Ｅｙを算出し、以後はフォトマスクの検査を行わず、露光回数ＥｘがＥｙに達したらフォトマスクの洗浄を行う。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an AlGaInP compound semiconductor, hard to generate small protrusions of surface defect, which has low oxygen atom concentration without raising the growth temperature of the AlGaInP compound semiconductor, and to provide an AlGaInP compound semiconductor substrate obtained thereby.
ＡｌＧａＩｎＰ化合物半導体の成長温度を高くすることなく、低い酸素原子濃度を有し、表面欠陥の小突起が発生しにくいＡｌＧａＩｎＰ化合物半導体の製造方法、およびそれにより得られるＡｌＧａＩｎＰ化合物半導体基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a formation method for a recording magnetic pole by which ruthenium oxide caused on a surface of a ruthenium seed layer for plating is converted to ruthenium metal, thereby the occurrence of void defect and layer-peel-off on a recording magnetic pole plating-formed by using the ruthenium seed layer is suppressed.
鍍金用のルテニウムシード層の表面に生じるルテニウム酸化物をルテニウム金属に変換して、そのルテニウムシード層を用いて鍍金形成された記録磁極にボイド欠陥および層剥離が生じることを抑制することが可能な記録磁極の形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a production process management system capable of flexibly coping with a change in a product production plan, the occurrence of a defect or the like by recording production process information obtained when the production of products is interrupted on the way of the production process in a database and reproducing the recorded information.
製品の生産を生産工程の途中で中断した時点の生産工程情報をデータベースに記録し再現することによって、製品の生産計画の変化や不良の発生などに対し柔軟に対応することが可能な生産工程管理システムを提供することを目的とする。 - 特許庁 - An image processing device 10 sets an inspection area of ≥45° per image, for areas other than an area 11 of a handhold 2a, and inspects presence or absence of a defect by comparing the density distribution (light quantity value) for the whole 360° circumference.
記憶装置９に格納された画像に基づいて、画像処理装置１０は取っ手部２ａの領域１１以外に対して、１画像当たり４５°以上の検査領域を設定し、３６０°全周の濃淡分布（光量値）を比較することにより欠陥の有無を検査する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus which has a lubricant coating device and wastes a less amount of lubricant and an image forming apparatus which can apply a lubricant to an image carrier of a proper amount even if image formation conditions are changed and form many visible images free of an image defect.
潤滑剤塗布装置を有し、無駄になる潤滑剤量が少ない画像形成装置、並びに、画像形成条件の変化があったときにも、像担持体に適正量の潤滑剤を塗布することができて画像不良のない可視画像を多数形成できる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - This sensor is acquired by improving a magnetic flaw detection sensor formed from a ferromagnetic material core and a search coil wound thereon which are used for detection of a magnetic flux leaking from a defect existing on a magnetized inspection material arranged between magnetic poles of a magnet disposed along a running line of the inspection material.
被検査材の走行ラインに沿って配設した磁石の磁極間に配置され、磁化された該被検査材に存在する欠陥から漏洩する磁束の検出に用いられる強磁性体コアとそれに巻回したサーチコイルとで形成された磁気探傷用センサを改良した。 - 特許庁 - To provide a composition to be injection-molded which does not cause a defect or deformation in a sintered compact obtained through a short period of degreasing time, and has more excellent injection-moldability and dimension stability than a conventional well-known composition to be injection-molded.
短時間での脱脂によっても得られる焼結体に欠陥や変形が生じないことを特徴とする射出成形用組成物であって、従来公知の射出成形用組成物よりも射出成形性、寸法安定性に優れる射出成形用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a toner conveyance device which prevents scattering, electrostatic charging and grain coarsening of toner during conveyance of toner, also prevents an image defect by replenishing the toner at a constant rate with high accuracy, and further, achieves cost reduction and space saving without obstructing the flexibility of designing, and also to provide an image forming apparatus provided with the same.
トナー搬送時の飛散、帯電、粗粒化を防止し、トナーを高精度に定量補給することにより、画像不良を防止し、更には、設計の自由度を阻害することなく低コスト、省スペースを図ることができるトナー搬送装置とこれを備える画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a structure that can prevent a defect caused by vibration transmitted from a guide axis from occurring surely without placing a buffer component on sliding surfaces in an optical head device possible to move along the guide axis a frame with a light source, a lens holder and, etc.
光源およびレンズホルダ等が搭載されたフレームをガイド軸に沿って移動可能にした光ヘッド装置において、摺動面に緩衝部材を配置しなくても、ガイド軸から伝わった振動で不具合が発生することを確実に防止することのできる構成を提案すること。 - 特許庁 - Since the metal oxide membrane 11a is arranged between the glass substrate 20a and the metal membrane 12a in the peripheral part of the substrate, when the dielectric 13a is etched by hydrofluoric acid, the etchant does not penetrate into the interface, thereby the metal membrane 12a (electrode) is not separated from the substrate, preventing a defect.
基板周縁部には、ガラス基板２０ａ，金属膜１２ａ間に金属酸化膜１１ａが配置されていることにより、誘電体１３ａをフッ酸でエッチングした場合に、エッチャントがその界面に浸透することはなく、金属膜１２ａ（電極）が基板から剥離する不具合を防止できる。 - 特許庁 - To provide a diagnostic device of a rolling bearing unit capable of highly accurate detection without overlooking a defect of a rotating part of a mechanical device, when performing an inspection test periodically, while rotating the device, without decomposing the mechanical device requiring much labor for decomposition.
分解するのに多くの手間がかかるような機械装置の分解を行なうことなく、回転させながら定期的に検査試験を行う場合、その機械装置の回転部品の欠陥を見落とすことなく高精度な検出が可能な転がり軸受ユニットの診断装置を提供する。 - 特許庁 - The Cl group of the silicon source gas is reduced to a hydrogen chloride(HCl) by the hydride compound gas and is removed together with an exhaust gas, it is possible to prevent a visual defect due to a SiClx crystal obtained by coupling chloride to silicon, and an abnormal growth of the lower polysilicon film.
水素化合物ガスによりシリコンソースガスのＣｌ基を塩化水素（ＨＣｌ）に還元し、排気ガスと共に除去するので、塩素とシリコンが結合したＳｉＣｌｘ結晶による視覚不良、ならびに下部のポリシリコン膜の異常成長を防止することができる。 - 特許庁 - To provide an inkjet recording device and a discharge recovery control method by which the recovery treatment during recording can be done properly responding to each grade in which a plurality of nozzles generate discharge defect when recording using the plurality of nozzles with different sizes of discharged ink droplets.
吐出するインク滴の大きさが異なる複数のノズルを用いて記録を行なう際の記録中の回復処理を複数のノズルそれぞれの吐出不良を生じる程度に適切に対応して行なうことができるインクジェット記録装置および吐出回復制御方法を提供する - 特許庁 - To weld at high speed without being accompanied by an defect such as undercut, to improve the heat resistance and durability of an insulation tip itself as well and to keep connections between the insulation tip and a power feed tip and between the insulation tip and wire tip in good condition.
アンダーカットなどの不具合を伴うことなく高速での溶接が可能であり、これと同時に、絶縁チップそれ自体の耐熱・耐久性を良好なものにできると共に絶縁チップと給電チップおよびワイヤガイドチップとの間での結合をも良好な状態に維持できるようにする。 - 特許庁 - To provide a method for estimating a contact defect position where electric connection between solder balls of an integrated circuit device and a metallic foil of a printed board is different from design in a ball grid array (BGA) type integrated circuit device mounted on the printed board by using solder.
プリント基板上にはんだを用いて実装されたＢＧＡ（ボール・グリッド・アレイ）タイプの集積回路デバイスが、集積回路デバイスのはんだボールとプリント基板の金属箔との間で設計通りの電気的な接続をしていない接触不良箇所を推定する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an oxide magnetic material having improved residual magnetic flux density that has been difficult heretofore by improving "the ratio of the residual magnetization to the saturation magnetization", that is thought a defect in dry molding, in dry molding higher in molding speed in comparison with wet molding.
湿式成形に比べて成形速度が速い乾式成形において、乾式成形の欠点であるといわれる「（残留磁化／飽和磁化）の比」を改善して、従来より困難であるとされていた残留磁束密度を向上させることのできる酸化物磁性体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The circuit pattern inspection apparatus is configured to display, on a monitor 50, images for detection 522, 523 and 524 in respective chip regions and inspects defect of their circuit patterns by using such displayed images, when it inspects a semiconductor wafer having a plurality of chip regions (dies) whose circuit patterns are identical.
回路パターン検査装置では、同一の回路パターンを有する複数のチップ領域（ダイ）を有する半導体ウエハを検査するとき、チップ領域毎の検出用画像５２２，５２３，５２４をモニタ５０に表示し、チップ領域毎の検出用画像５２２，５２３，５２４から、回路パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁 - To mass-produce group III nitride semiconductor light emitting elements in an industrial scale by reducing the defect rate of light emitting elements for extracting light from the substrate side, and improving light extraction efficiency as to a group III nitride semiconductor light emitting element using an n-type conductive substrate.
ｎ型導電性基板を用いたＩＩＩ族窒化物半導体発光素子において、基板側より光を取り出す発光素子の不良率の低減および光り取り出し効率を向上させ、工業的規模でＩＩＩ族窒化物半導体発光素子の量産を図る。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a thermoplastic resin sheet using a static electricity applying casting method, drastically increasing the upper limit of a sheet molding speed caused by the applying irregularity defect generated in the thermoplastic resin sheet, and a static electricity applying casting method used therein.
静電印加キャスト法を用いた熱可塑性樹脂シートの製造方法において、熱可塑性樹脂シートに発生する印加むら欠点によるシート成形速度の上限を飛躍的に増加させる熱可塑性樹脂シートの製造方法およびこれに用いる静電印加装置を提供すること。 - 特許庁 - In the third inspection process, the solid-state imaging device is inspected per predetermined range set in advance, and the number of peculiar pixels within each range is counted, and at the same time, the sum of brightness data of the individual peculiar pixels within each range is calculated as a defect level.
第３検査工程では、予め設定されている所定範囲ごとに固体撮像素子の検査が行われ、この所定範囲内の特異画素の個数が計数されると同時に、この所定範囲内の各特異画素の輝度データの合計値が欠陥レベルとして算出される。 - 特許庁 - The Li-deficient manganese complex oxide is represented by a formula: Li1-xMO2 with a part of lithium lacking from proportional composition having a lamellar crystal structure (where, M denotes manganese or a metal of two or more kinds with manganese as a main component, and x as a Li defect volume satisfies 1/5<x).
リチウムの一部が定比組成から欠損し、層状型結晶構造を有し、 Ｌｉ_１−ｘＭＯ_２…（Ａ） （式中のＭはマンガン又はマンガンを主成分とする二種以上の金属、リチウム欠損量ｘは１／５＜ｘを満たす）で表されるＬｉ欠損マンガン複合酸化物である。 - 特許庁 - The defect detection step includes: a step for capturing use cases associated with the software application, and for checking their validity; a step for providing an automatic invocation of property monitors for model checking; a step for visualizing one or more defects in the software application for diagnosis.
この欠陥検出段階は、ソフトウェアアプリケーションと関連する使用状況を捕らえ、その有効性を確認する段階と、モデルチェックのための特性モニタの自動起動を与える段階と、診断のためにソフトウェアアプリケーションにおける１又はそれ以上の欠陥を視覚化する段階とを有する。 - 特許庁 - To provide a PVA extrusion method using a twin-screw extruder for manufacturing a product of good quality with high productivity by removing such a defect that a PVA solution of good quality not generating undissolved lumps and air bubbles can not be manufactured in a conventional twin-screw extruder and productivity is also bad, and the twin-screw extruder.
従来の２軸押出機ではママコが無く、気泡の無い良品質のＰＶＡ溶液が製造出来なく、生産性も悪いと言う欠点を取り除き、生産性が高く良品質の製品が生産される２軸押出機によるＰＶＡの押出方法と２軸押出機を提供すること。 - 特許庁 - To provide a droplet discharge apparatus in which the discharge defect and the displacement of the discharge position of ink are prevented even when a discharge recovery operation such as a wiping operation or a flashing operation is not carried out for a little while in the discharge of the ink on a large sized substrate using the droplet discharge apparatus, an electro-optic device and electronic equipment.
液滴吐出装置を用いて大型の基板上にインクを吐出し、ワイピング操作やフラッシング操作等の吐出回復操作を暫時行わない場合でも、インクの吐出不良及び吐出位置のズレを防止した、液滴吐出装置、電気光学装置、及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - Thus, a shielding effect of the signal line is raised, the aperture ratio is raised by reducing width of a black matrix, parasitic capacity between the signal line and the common potential lines is reduced, a defect when the signal line and the floating film are short-circuited is minimized to raise the display quality.
これにより信号線のシールド効果を高め、ブラックマトリクスの幅を縮小して開口率を向上させることができ、信号線と共通電位線との寄生容量を小さくし、信号線とフローティング膜とが短絡した場合の欠陥を最小限に抑えて表示品位を向上させる。 - 特許庁 - To provide a shielded electric wire braid processing device and a braid processing method that can surely remove cutting wastes after cutting the braid of a shielded electric wire and that can prevent the occurrence of failures including a cutting defect arising from cutting wastes remaining in the braid processing device.
シールド電線の編組を切断した後の切断屑を確実に除去することができ、編組処理装置に残留した切断屑に起因する切断不良等の不具合の発生を防止することができるシールド電線の編組処理装置及び編組処理方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for cutting a filter sheet which suppresses the falling of particles from, the cut surface during and after the cutting of a filter sheet in which particles are held between two sheets of water permeable substrates and reduces the contamination of the circumference and the appearance defect of the filter sheet by the falling of the particles.
２枚の透水性基材間に粒体を挟持してなるフィルターシートの切断時及び切断後における切断面からの粒体の脱落を低減し、該粒体の脱落による周囲の汚染やフィルターシート外観不良を低減したフィルターシートの切断方法を提供する。 - 特許庁 - The surface inspection apparatus irradiates an outer peripheral surface to be an inspecting surface of an object to be inspected with an optical beam from a light source through light irradiation means, receives reflected light from the inspecting surface by light receiving means and detects a defect existing on the inspecting surface based on the light quantity of the received reflected light.
光源からの光ビームを光照射手段を介して被検査物の被検査面である外周面に照射し、受光手段により被検査面からの反射光を受光し、受光した反射光の光量に基づいて被検査面上に存在する欠陥を検出する装置である。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for deciding pass/fail of a nonmetallic inclusion defect that can prevent excessive incidence of rejects and make a release decision to satisfy customers' quality requirements by making a decision in consideration of the position of an inclusion in the thickness direction of a metal band.
金属帯の板厚方向における介在物の位置を考慮した判定も行うことで、過剰な不合格品の発生を防止し、かつ顧客の要求品質を満たす出荷判定が可能な非金属介在物欠陥の合否判定方法および合否判定装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a highly accurate drift correction method with which a photomask is scarcely damaged, by solving problems associated with the conventional photomask correction method using a one-point-drift correction such as occurrence of a scan damage on a place other than a place with a defect on the photomask, inability to open any pin hole in the case of a fine pattern, and so on.
ワンポイントドリフト補正を用いた従来のフォトマスク修正方法の抱えるフォトマスク上の欠陥以外の箇所にスキャンダメージが生じる、微細パターンの場合にピンホールを開けることができないといった問題を解決し、ダメージの少ない、精度のよいドリフト補正方法を提供する。 - 特許庁 - In the production process of the resin optical waveguide, the core pattern of the waveguide is embedded after executing heat treatment of ≥150°C, thus the deformation and embedding defect of the waveguide core pattern are prevented, thereby forming the resin optical waveguide low in loss and excellent in the optical characteristics.
樹脂光導波路の作製工程において、１５０℃以上の熱処理を実施した後、導波路のコアパターンを埋め込むことにより、導波路コアパターンの変形および埋め込み不良等を防止し、低損失で、光学特性に優れた樹脂光導波路の作製方法を提供するものである。 - 特許庁 - To provide a resist surface modifying liquid and a method for forming a resist pattern using the resist surface modifying liquid used as a surface treatment liquid prior to the post exposure baking (PEB) processing of a resist film to reduce the water repellency of the resist film to thereby restrain the occurrence of a defect.
レジスト膜の露光後加熱処理（ＰＥＢ）工程前の表面処理液として用いられるレジスト表面改質液であって、レジスト膜の撥水性を低下させ欠陥の発生を抑制できるレジスト表面改質液及びこれを利用したレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The manufacturing method and the inspection method of organic EL element comprise a step for applying a voltage between the upper surface side and the lower surface side of the protection layer 26, and a step for deciding presence or absence of a defect of the protection layer 26 on the basis whether a current flows through the protection layer 26.
本製造方法および検査方法は、前記保護層２６を挟んで上面側と下面側から電圧を印加する工程と、前記保護層２６に電流が流れたか否かによって該保護層２６の欠陥の有無を判定する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The defects of a plurality of steel materials are detected with the positions, and stored as defect data, and cutting specification data related with the ordering of steel materials are stored, and a yield rate is calculated by using those data, and the sets of a plurality of base materials and a plurality of orders are selected and decided by using the yield rate.
複数の鋼材の欠陥を位置と共に検出して欠陥データとして記憶しておくと共に、鋼材の注文に係る切断仕様データを記憶しておき、これらデータを用いて歩留率を算出し、この歩留率を用いて複数の母材と複数の注文の組を選択決定する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a tube for a pneumatic tire capable of preventing a defect in manufacture from being caused because a green tube is bent to cause a flaw and the flaw is worsened to produce the unevenness of the gage of the green tube, and to provide a cushioning material, an expansion-contraction apparatus and a turning apparatus.
本発明は、グリーンチューブに折れ傷が発生し、該折れ傷が悪化することによってグリーンチューブのゲージが不均一になり、製造不良に繋がることを抑制することのできる空気入りタイヤ用チューブの製造方法、緩衝材、拡縮装置及び回転装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a printer capable of printing while conveying a continuous sheet in a forward and rearward direction and capable of preventing the generation of conveying defect such as jam caused by that the continuous sheet introduced from the outside of the device contacts or collides with the member near a sheet introducing port.
本発明は、装置外部から導入される連続用紙が、用紙導入口付近の部材と接触したり衝突したりしてジャム等の移送不良が発生するのを防止することができる、正逆方向に移送して印字を行うプリンタを提供することを課題とする。 - 特許庁 - Since the adhesive overflowing from the adhesive accumulation part is kept in a space among the chamfers and the outer peripheral face of the shaft member, it is possible to prevent adhesive from going around onto one end face of the thrust member which becomes a thrust bearing face and avoid a defect such as reduction of performance of the thrust bearing.
また、接着剤溜まりから溢れ出た接着剤は、チャンファと軸部材の外周面との間の空間に保持されるため、スラスト軸受面となるスラスト部材の一端面への接着剤の回り込みを防止でき、スラスト軸受性能の低下等の不具合を回避できる。 - 特許庁 - To detect an envelope defect of a read signal caused by a fingerprint on the surface of a disk, the inter-layer interference of a dual-layer disk or the like which is a factor of a read error of an optical disk, and to improve the read capability of an optical disk drive while avoiding a read error by performing appropriate processing.
光ディスクのリードエラー要因となるディスク表面上の指紋や２層ディスクの層間干渉などに起因する再生信号包絡線の異常を検出し、適切な処理を行うことによりリードエラーを回避し光ディスクドライブの再生性能を向上する。 - 特許庁 - To provide a substrate with a reduced step to eliminate a defect of an upper layer caused by the step of an edge of an insulation layer when the insulation layer such as an dielectric layer on the substrate and various layers are formed thereon; and to provide its manufacturing method.
基板上に誘電体層等の絶縁層を設け、その上に種々の層を形成する際に、絶縁層のエッジの段差に起因して生じる上層の欠陥の解消を図り、段差を少なくした基板およびその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - METHOD FOR INSPECTING TRANSLUCENT ARTICLE MADE OF TRANSLUCENT MATERIAL, METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING DEFECT OF GLASS SUBSTRATE, GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, MASK BLAND AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, MASK FOR EXPOSURE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
透光性材料からなる透光性物品の検査方法、ガラス基板の欠陥検査方法及び装置、マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法、並びに、マスクブランク用ガラス基板、マスクブランク、露光用マスク、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
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