「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 320 321 322 323 324 325 326 327 328 .... 366 367 次へ＞- To prevent a stripe defect in the spreading direction which is generated on a film flow-cast on a metal supporting body from occurring when a plastic polymer film is manufactured by a solution casting method, and at the same time, manufacture the film which is excellent in surface smoothness and thickness uniformity at a favorable productivity.
プラスチックポリマーのフィルムを溶液キャスト法で製造する際、金属支持体上に流延されたフィルムに発生する流延方向のスジ欠陥を防止するとともに、表面平滑性及び厚み均一性も優れたフィルムを生産性よく製造できるようにする。 - 特許庁 - Also, the mold powder is so prepared that 6 to 20wt% alumina is contained therein and the basicity of the mold powder is within a range from 1.3 to 2.0 and, thereby the hydrogen absorbency can be improved, the heat extraction defect due to the hydrogen can be surely prevented and the operation can be stabilized.
また、モールドパウダーを、６〜２０ｗｔ％のアルミナを含有しているものとし、さらにモールドパウダーの塩基度が１．３〜２．０の範囲内とすることによって、水素分吸収能を向上させることができ、より確実に水素起因の抜熱不良を防止して操業を安定させることができる。 - 特許庁 - If an object 12 to be examined does not have the defect and is normal, a light attenuated by the plate 18 from the illuminator 14 arrive at the unit 16 through an examining point of the object 12, and hence the light is detected in the intensity attenuated by the plate 18 by the unit 16.
被検査物１２に欠点がなく正常な場合には、照明装置１４から拡散板１８によって減衰された光が、被検査物１２の検査点を通過して撮像装置１６に到達するために、撮像装置１６では、拡散板１８によって減衰された強度で検出される。 - 特許庁 - To provide the outer electrode pattern of an electronic component of a structure that in the outer electrode pattern, the generation of a short- circuit between terminal electrodes is absolutely eliminated, a state that the terminal electrode provided on almost the central part of a printed board is soldered to the printed board also can be inspected and moreover, the defect of conduction between the terminal electrodes also can be absolutely eliminated.
電子部品の外部電極パターンにおいて、端子電極間ショートの発生を皆無とし、且つ、基板のほぼ中央部に設けた端子電極の半田付け状態も検査することができ、更に、導通不良も皆無にし得る電極パターンを提供すること。 - 特許庁 - Since the spacers 4 have the sticking layers 5, the sticking force of the substrates 1a and 1b increases and the movement of the spacers 4 by the impact and vibration in a liquid crystal injection process can be prevented and the damage of pixel regions by the movement, the occurrence of a cell gap defect, etc., can be prevented.
また、スペーサ４が固着層５を有するので、基板１ａ、１ｂとの固着力が増加し、液晶注入工程において衝撃・振動によるスペーサ４の移動を防止できるとともに、移動による画素領域２の傷つき、セルギャップ不良の発生等を防止できる。 - 特許庁 - To provide a stand for building up a concrete leveling form and a construction method therefor capable of adjusting unevenness of a leveling concrete surface, capable of eliminating a cross-sectional defect of a corrugated steel plate panel and nonuniformity of a slab thickness, capable of reducing a cost capable of improving a construction quality and capable of shortening a construction period.
捨てコンクリート面の不陸調整ができ、コルゲート鉄板パネルの断面欠損やスラブ厚の不均一が解消でき、コストの低減、施工品質の向上、施工期間の短縮を達成することができるコンクリート捨て型枠建込み用架台及びその施工方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a fragrant sheet produced by a simple production step, having a rework property, free from residue of paste to a surface to be attached, free from defect of adhesive force by addition of a fragrance, radiating adequate aroma for a long period, preferably further excellent in see-through property and suitable for surface protection.
本発明は、製造工程が簡単で、リワーク性があり、被着面への糊残りがなく、且つ芳香剤添加による接着力不良が無く、適度の芳香が長期間放散され、好ましくはさらに透視性が優れた、表面保護用に適した芳香性シートを提供する。 - 特許庁 - A part 6-7 which requires a defect check and is selected out of parts (e.g. a gate transistor region of a logic part), having a large effect on performance characteristics of a semiconductor device and furthermore being provided with circuit patterns that are fine and apt to be affected by micro defects, is considered as the specific region of the mask.
マスクの特定領域としては、半導体装置の動作特性に多大な影響を与え、かつ、回路パターンが微細で微小欠陥の影響を受けやすい部分（例えばロジック部のゲートトランジスタ領域）における欠陥検査が必要な部分６−７が挙げられる。 - 特許庁 - When a SYNC pattern is composed of six symbols, the SYNC pattern and read data are made to 6C2=15 sorts of groups G1 to G15 composed of four symbols including a symbol overlapping a part of other groups and collated in a group unit in order to correspond to, e.g. a defect being ≤2 symbols.
ＳＹＮＣパターンが６シンボルから構成されているときに、例えば２シンボル以下のディフェクトに対応するために、他の一部のグループと重複するシンボルを含む４シンボルからなる_6Ｃ_2 ＝１５通りのグループＧ１〜Ｇ１５に、当該ＳＹＮＣパターン及びリードデータをグループ分けして、グループ単位で照合する。 - 特許庁 - When position functions corresponding to time series T1-Tn of the moving body whose defect is to be detected are expressed by X(T1)-X(Tn) (n: a natural number that is fully large) and an arbitrary natural number that is smaller than (n) and is larger than 1 is expressed by j, X (T1)=X(Tj) results.
欠陥の検出対象である動体の時刻系列Ｔ１〜Ｔｎに対応する位置関数をＸ（Ｔ１）〜Ｘ（Ｔｎ）で表し（ｎは十分に大きい自然数）、ｎより小さく１より大きい任意の自然数をｊで表すと、Ｘ（Ｔ１）＝Ｘ（Ｔｊ）である。 - 特許庁 - In the main mask MM, it is not necessarily needed that all the split masks MDM are respectively constituted of a split mask having no defect, the substantial yield of the manufacture of the exposure mask is raised, a shortening of the forming time of the exposure mask is enabled and a reduction in the cost of the exposure mask can be realized.
主マスクＭＭは必ずしも全ての分割マスクＭＤＭが欠陥のない分割マスクで構成される必要はなく、露光用マスクの実質的な製造歩留りを向上し、露光用マスクの作製時間の短縮を可能にして低コスト化が実現できる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an electrooptical apparatus which can flexibly deal with the variations in the amount of a dropped liquid crystal when a liquid crystal dropping method is used, and which can easily prevent the deterioration in display quality such as the display unevenness, due to a seal cut, an air bubble defect, or variations in cell thickness.
液晶滴下法を用いる場合に液晶の滴下量ばらつきに柔軟に対応でき、シール切れや気泡不良、あるいはセル厚ばらつきに起因する表示ムラ等の表示品位の低下を容易に抑制し得る電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for evaluating a wafer including a step of measuring an infinitesimal internal crystal defect in which a BMD from the front surface of a wafer to be measured to the depth of about 10 μm can be observed with high resolution of a depthwise direction of the wafer and with a difficulty to measure so far.
被測定ウェーハの深さ方向の高い分解能を有し、かつ、今まで測定することが困難であった被測定ウェーハの表面から１０μｍ程度の深さまでのＢＭＤを観察可能とした微小内部結晶欠陥の測定によるウェーハの評価方法を提供する。 - 特許庁 - To highly accurately measure a projection defect of a height exceeding a projected structure, by scanning of a stylus, in a color filter having the projected structure such as a partition wall for which the end edge parts of adjacent colored layers are laminated with each other at the boundary part of the colored layers.
着色層の境界部分に、隣接する着色層の端縁部分を相互に積層した隔壁などの突起状構造物を有するカラーフィルタにおいて、触針の走査によって、突起状構造物を越える高さの突起欠陥を高精度に測定できるようにする。 - 特許庁 - To provide an original paper for thermal stencil printing and the manufacturing method of the same, permitting highly precise stencil processing as well as the acquisition of a high-grade printing image without generating any defect, such as dimming or the like, improved in resistance to printing and in durability, facilitated in the manufacture of the same and inexpensive in the manufacturing cost thereof.
高精細な穿孔製版が可能であり、高品位な印刷画像を得ることができ、白抜け等の欠点が発生することがなく、耐刷性および耐久性が向上し、しかも製造が容易であり、製造コストも低廉な感熱孔版印刷用原紙とその製法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a wiper device capable of performing wiper wiping action by one direction rotation of a wiper motor even if the wiper device is brought into a state that a defect occurs in normal/reverse rotation control for reciprocating the wiping action of a wiper, and the wiper motor is brought into a state of one direction rotation from normal/reverse rotation.
ワイパの往復払拭動作のための正逆反転制御に欠陥が生じてワイパモータが正逆回転から一方向回転となる状況に陥っても、そのワイパモータの一方向回転によりワイパ払拭動作を行うことができるワイパ装置を提供する。 - 特許庁 - To solve a problem that it is impossible to sufficiently eliminate a noise due to a defect in a solid-state image pickup element or the like by only adding a low frequency component of one color to a high frequency component of other color when a change it the signal of the one color is inverse to a change in the signal of the other color in the case of eliminating the noise.
固体撮像素子の欠陥などによるノイズを除去するとき、自分の信号の低域成分と他色の信号の高域成分を加算しただけでは自分の信号と他色の信号の変化が反対のときにノイズを十分に除去できないので、これを解消すること。 - 特許庁 - To provide an intermediate transfer body with which a resistance change by a transfer voltage is little, the uniformity of electric resistance is improved, the change in the dependence on electric fields and the electric resistance by the environment is little and the occurrence of an image defect is suppressed and an image forming device having the same.
転写電圧による抵抗変化が少なく、電気抵抗の均一性を改善し、電界依存性および環境による電気抵抗の変化が少なく、画質欠陥の発生が抑制された中間転写体およびそれを備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pressure bonding device for an ornament sheet applying a woodgraining treatment to the peripheral end of the ornament sheet while press bonding the the ornament sheet to the surface of a trim body in which defect such as floating and peeling of the end portion of the ornament sheet is eliminated, and end treatment is simply carried out at low cost.
トリム本体の表面に装飾シートを圧着して装飾シートの周縁端末を木目込み処理する装飾シートの圧着装置において、装飾シートの端末部の浮き、剥がれ等の不良をなくすとともに、端末処理を簡単かつ廉価に実施する。 - 特許庁 - To provide a recorder by which the fluctuation of resistance is not caused by environmental change and the transferring of printing on a back surface, the mark of electronic discharge on a transfer medium and an image transfer defect such as developer image scattering do not occur even in the case of the miniaturization of a device, and fogging on the end part of the transfer medium does not occur.
環境変化や裏面印字転写等で抵抗の変動を生じたり、装置が小型化しても、転写媒体に対して放電跡、現像剤像チリ等の画像転写欠陥が生じず、且つ転写媒体端部のカブリ等が発生しない記録装置を提供せんとするものである。 - 特許庁 - To solve the problem of the conventional disk drive that cannot have optimally compensated a deteriorated signal level due to missing of a signal caused by a defect such as a flaw or due to dirt such as a fingerprint in accordance with a reproduction speed of an optical disk when a time constant of an AGC circuit and a cut-off frequency of an HPF(High Pass Filter) are fixed.
ＡＧＣ回路の時定数やＨＰＦのカットオフ周波数が固定であると、傷などのディフェクトに起因する信号の欠落や指紋などの汚れに起因する信号レベルの低下に対して、光ディスクの再生速度に応じた最適な補償が行えない。 - 特許庁 - To provide a holding method which can prevent defects in contact with such as supporting member when handling a silicon wafer, especially, a split caused from crack growth that is with a contact defect apt to occur as a stating point in a wafer which is with a {110} surface as a main surface; and to provide a holding jig.
シリコンウェーハをハンドリングする際の支持部材などとの接触傷の発生と、特に、｛１１０｝面を主表面とするウェーハにおいて生じやすい接触傷を起点としたクラック伸展に起因する割れを防止できる保持方法および保持治具を提供する。 - 特許庁 - Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.
遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a solar battery device capable of obtaining desired photovoltaic power over a long period without generating a defect that gaps may be formed among a lead out electrode, an upper electrode and a lower electrode even when the solar battery device is curved.
太陽電池装置を湾曲したとしても、引き出し電極と、上部電極および下部電極との間に間隙が形成される不良が発生せず、長時間に亘り、所望の光起電力を得ることのできる太陽電池装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To solve a problem that an irregular white streak or a banding (density unevenness) is generated due to interfering beams as a visible defect on a photoreceptor when an optical scanner is used in which the power and the oscillation wavelength are the same for two beams.
２本のビームのパワーと発振波長がほぼ同一となる光走査装置を利用した場合に生じる感光体上での目に見える欠陥として、干渉するビームによって感光体上で不規則な白筋が発生したり、バンディング（濃淡のムラ）が発生等の問題が生じる。 - 特許庁 - A microcomputer 15 judges a defect when the pushed-up dark level output is not a prescribed value while at least one of the low luminance range output and the high luminance range output in effective pixels not to be the object of light shielding is a saturated value or a minimum value.
マイコン１５は、遮光の対象とならない有効画素における低輝度レンジ出力および高輝度レンジ出力の少なくとも一方が飽和値または最小値になっている時に、押し上げておいた暗レベル出力が所定値となっていないと不良であると判定する。 - 特許庁 - Toner particles forming an image on the intermediate transfer belt 70 receive vibrations from from the toner layer diffusion member 10 to be peeled off a surface of the intermediate transfer belt 70 and dispersed in carrier liquid, so that the secondary transfer defect at the secondary transfer unit 80 can be prevented.
中間転写ベルト７０上で画像を形成するトナー粒子は、このトナー層拡散部材１０からの振動を受け中間転写ベルト７０表面から剥がされ、キャリア液中に分散するような状態となり、二次転写ユニット８０での二次転写不良の発生を防止することができる。 - 特許庁 - This carbon nanotube can be manufactured through a defect introducing process for introducing defects into a raw material carbon nanotube, and a heating process for heating the raw material carbon nanotube into which the defects have been introduced, to a temperature of 1,000 to 2,000°C in a vacuum or in an innert gas atmosphere.
このカーボンナノチューブは、原料カーボンナノチューブに欠陥を導入する欠陥導入工程と、欠陥を導入された原料カーボンナノチューブを、真空中又は不活性ガス雰囲気中で１０００〜２０００℃に加熱する加熱工程と、を経て製造することができる。 - 特許庁 - Another constitution of this method is to form a semiconductor film having a low crystal-defect density and a large crystal-grain size by irradiating a crystalline semiconductor film formed by a thermal crystallization method utilizing metal elements with a laser light and by heat-treating again.
また、本発明の他の構成は、金属元素を用いる熱結晶化法を行って形成された結晶性半導体膜に対して、レーザ光を照射し、再度熱処理を行うことで、結晶欠陥の少ない大粒径の結晶粒を有する半導体膜を形成することを特徴としている。 - 特許庁 - Under an insulating film formed under the pixel electrode 10, there is formed a capacity electrode 22 for defect restoration for forming an auxiliary capacity with the pixel electrode 10 and the insulating film when a black spot mark 24 is irradiated wit laser light and connected with a gate bus line 4.
画素電極１０の下層に形成された絶縁膜の下層には、黒丸印２４にレーザ光を照射してゲート・バスライン４と接続されると、画素電極１０と絶縁膜とで補助容量を形成する欠陥修復用容量電極２２が形成されている。 - 特許庁 - In the inspection of short circuit defect of conductor, the method for detecting the current variation accompanied by the resistance variation by the laser light irradiation, while applying an electric bias on the conductor.
導線のショート欠陥の検査において、導線へ電気バイアスを印加しながら、レーザ光照射による抵抗変化がもたらした電流変化を検出する方法において、検査対象となる領域として、パネル回路基板１１が中央線Ｃを中心として左右に二分される。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor wafer which can manufacture a semiconductor wafer by a simple manufacturing process which wafer has lattice strain sufficient to improve mobility of electrons in spite of comparatively simple lamination structure and is provided with an Si layer having little crystal defect.
比較的単純な積層構造にもかかわらず、電子の移動度を高めるのに十分な格子歪みを有し、かつ、結晶欠陥の少ないＳｉ層を有する半導体ウェーハを簡便な製造プロセスにより製造することのできる半導体ウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - In a laminated material composed of at least a resin film substrate layer 11, a barrier layer 11a, and a sealant resin layer 15, the sealant resin layer is made an oxygen absorbent sealant resin layer by a resin added with titanium oxide having an oxygen defect.
少なくとも樹脂フィルム基材層１１、バリア層１１ａ、シーラント樹脂層１５から構成される積層材料において、前記シーラント樹脂層を、酸素欠陥を有する酸化チタンを添加した酸化チタン添加樹脂による酸素吸収性層兼用のシーラント樹脂層とした。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device having an improved detection ability by inspecting a film or a pattern comprising an inorganic substance/inorganic compound by using a light in a wavelength range suitable for wavelength dependency carried by a refractive index, an extinction coefficient and a surface reflectivity of the substance.
無機物／無機化合物から成る膜またはパターンを、その物質の屈折率，消光係数、および表面反射率が持つ波長依存性に関して好適な波長範囲の光を用いて検査することにより、向上した検出能力をもつ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern for evaluation and a photomask for forming the pattern for evaluation capable of evaluating irregularity defect detection capacity and capacity for detecting and analyzing periodicity of irregularity defects in an inspection device for inspecting irregularities of a body to be inspected having a periodic pattern.
周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ検査をする検査装置の、ムラ欠陥検出能力やムラ欠陥の周期性を検出・解析する能力を評価することが可能な、評価用パターンおよびその評価用パターンを形成したフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a defect detecting method for a multilayer electronic component, which is useful to improve manufacturing processes and can improve the development speed of the multilayer electronic component which is made more compact, thinner, and more multilayered, and to provide a method of manufacturing the multilayer electronic component using the same.
製造プロセスの改善に役立ち、小型化、薄層化および多層化が進んでいる積層型電子部品の開発速度を向上させることができる積層型電子部品の不良検出方法と、その方法を利用した積層型電子部品の製造方法とを提供すること。 - 特許庁 - To provide a new zeolite catalyst which improves the defect of the conventional zeolite catalyst that the DMA (dimethylamine) selectivity rapidly decreases when the conversion of methanol comes to 95% or more, has a higher methanol consumption reaction activity, and gives a high DMA selectivity and a low TMA (trimethylamine) selectivity.
従来のゼオライト触媒が有するメタノールの転化率が９５％以上になるとＤＭＡ選択率が急激に低下するという欠点を改善し、より高いメタノール消費反応活性で、かつ高いＤＭＡ選択性と低いＴＭＡ選択性を与える新規なゼオライト触媒を提供する。 - 特許庁 - To provide the growth method of a nitride semiconductor layer which is capable of reducing a pit-type crystalline defect on the surface of a nitride semiconductor layer formed on a substrate whereby capable of obtaining a high-quality nitride semiconductor layer reduced in defects across the whole surface of the substrate.
基板上に形成される窒化物半導体層の表面におけるピット状の結晶欠陥を低減することができ、基板表面の全面にわたって低欠陥の、高品質な窒化物半導体層を得ることができる窒化物半導体層の成長方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - By detecting first intensity of yellow luminescence 49 which is based on a defect, generated in the nitride semiconductor layer 17 by the first excitation light 47, and emitted from the back surface of the sapphire substrate 15, the nitride semiconductor layer 17 is evaluated from the first intensity.
そして、第１励起光４７によって窒化物半導体層１７に発生し、かつサファイア基板１５の裏面から出射される、欠陥に基づくイエロールミネッセンス４９の第１強度を検出することによって、第１強度から窒化物半導体層１７の評価を行う。 - 特許庁 - To provide a dental alginate impression material composition that solves defect of conventional alginate impression material composition with susceptibility to discoloration, using a pH indicator that the confirmation of the finish of gelling is not accurate and difficult, and poor compatibility with water in mixing.
従来のｐＨ指示薬を用いた変色性の歯科用アルギン酸塩印象材組成物のゲル化終了の確認が不正確で且つ確認が難いこと、及び練和時に用いる水との馴染みが悪いという欠点を解消した歯科用アルギン酸塩印象材組成物を提供する。 - 特許庁 - A weighted operation means 404 performs operation processing by applying optional weighting respectively to the projection data of the defect inspection object of this time which is obtained in the means 403 and shading correction data used for correction processing to the preceding processing object.
重み付け演算手段４０４は、射影取得手段４０３にて得られた今回の欠陥検査対象物の射影データと、前回の処理対象物に対する補正処理に用いたシェーディング補正データとのそれぞれに対して任意の重み付けを行なっての演算処理を行なう。 - 特許庁 - To provide an image forming method which is an image forming method using an amorphous silicon photoreceptor and is excellent in image reproducibility even in long-term use by reducing the load in a cleaning section by toners remaining after transfer and preventing the image defect by toner fusion to the photoreceptor etc.
アモルファスシリコン系感光体を用いた画像形成方法において、転写残余のトナーによるクリーニング部での負荷を軽減し、感光体へのトナー融着等による画像不良を防止することにより、長期使用においても画像再現性に優れた画像形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor substrate of an HOT structure sufficient for intrinsic practical use by suppressing the occurrence of the crystal-defect at the boundary between the crystal regions having different crystal orientations of a functional substrate when the semiconductor substrate of the HOT structure is manufactured using a DSB substrate.
ＤＳＢ基板を用いてＨＯＴ構造の半導体基板を作製するに際し、その機能性基板の、互いに異なる結晶方位を有する結晶領域の境界における結晶欠陥の発生を抑制し、本来的な実用に足る前記ＨＯＴ構造の半導体基板を提供する。 - 特許庁 - To provide an electronic component mounting device and a bonding defect detection method by which bonding defects can be detected even for an object incapable of securing temperature uniformity in a plurality of electrodes in the electronic component mounting of bonding the plurality of electrodes at the same time.
同時に複数電極を接合する電子部品実装において、複数電極に対して温度均一性が保障されない対象であっても、接合不良を検出できる電子部品実装装置及び接合不良検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a porous cordierite honeycomb structure capable of being shortened in firing time and improved in productivity, while preventing a crack and molten defect generated during burning of a combustible poring agent.
気孔率の大きな多孔質コージェライトハニカム構造体であっても、可燃性造孔剤が燃焼するときに発生するクラックや溶損の問題を防止して、焼成時間の短縮が可能で生産性を向上させることのできる多孔質コージェライトハニカム構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a process for facilitating manufacture of field effect semiconductor devices, capable of employing a carbon nanotube having reduced defect in wall face structure and proper characteristics, having a current passage, such as a channel layer dispersed uniformly with the carbon nanotubes and exhibiting superior device characteristics such as high mobility.
壁面構造の欠陥がより少なく特性の良いカーボンナノチューブを用いることができ、このカーボンナノチューブを均一に分散させたチャネル層等の電流通路を有し、高移動度を有する等のデバイス特性に優れた電界効果半導体装置を容易に製造する方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide liquid for liquid immersion exposure exhibiting a large refractive index in the liquid immersion exposure, capable of preventing elution or dissolution of the components of a photoresist film or its overlying film, and suppressing defect at the time of forming a resist pattern.
液浸露光方法において、屈折率が大きく、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分の溶出や溶解を防ぎ、レジストパターンの生成時の欠陥を抑えることができる液浸露光用液体およびその液体を用いた液浸露光方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - The objective quartz glass crucible for pulling a silicon single crystal is free from ultraviolet absorption at specific wavelength within the wavelength range of 150-400 nm or free from ultraviolet absorption at wavelength of 163 nm or 245 nm caused by the oxygen-deficient defect in a region from the inner surface to the depth of 200 μm.
(1)内表面からの深さが200μmまでの部位の石英ガラスに、波長150〜400nmの範囲で特定波長の紫外線吸収がないか、または酸素欠損型欠陥による波長163nm、または波長245nmの紫外線の吸収がないシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼ。 - 特許庁 - Therefore, even when it is required that an internal address signal is supplied to a defective data storing memory 22 and an input address signal is supplied to a defect history storing memory 24, the requirement can be realized by only one time test without performing test for two times.
そのため、不良データ格納メモリ２２に内部アドレス信号を供給し、不良履歴格納メモリ２４に入力アドレス信号を供給する要求がある場合であっても、２度の試験を行うことなく、１度の試験により、上記要求を実現することが可能となる。 - 特許庁 - By doing so, a sudden increase of engine rotation and a defect that torque exceeding assumption is successively inputted to an automatic transmission are avoided by controlling the torque increasing state to a short time, even when the rotation synchronous torque is apt to be suddenly increased due to some reason such as noise and malfunction.
これにより、ノイズや誤動作等の何らかの理由で回転同期トルクが急激に増加しそうになった場合にもそのトルク増加状態を短時間に抑えて、想定を超えたトルクが自動変速機に入力し続ける不都合や急激なエンジン回転上昇を回避する。 - 特許庁
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