「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • To provide a developing device which can prevent the generation of a scratch or a line as a defect on an image on the surface of a developer thickness regulating member, which can apply toner uniformly on a developing sleeve and which can obtain a high quality image having uniform durability without unevenness.
    現像剤層厚規制部材の表面に画像上に欠陥として現れるような傷やスジの発生を防ぎ、現像スリーブ上に均一なトナー塗布を行うことのできる、耐久においても均一でムラのない、高品位の画像を得ることのできる現像装置を提供することにある。 - 特許庁
  • According to the substrate inspection method, electron beams are irradiated by an optical axis E1 to the part on a semiconductor wafer W, where the defect D is present with the use of an SEM apparatus which detects by a single electron beam detector, secondary electron beams emitted, when electron beams are applied onto the semiconductor wafer W.
    本発明の基体検査方法は、半導体ウェハW上に電子ビームを照射することにより放出される二次電子線を単一の電子線検出器で検出するSEM装置を用い、半導体ウェハ上の欠陥Dが存在する部位に光軸E1で電子ビームを照射する。 - 特許庁
  • To provide a printer in which circuit boards are secured to upper portions of supporting frames which prevents FFC extending downward from the circuit boards from swinging with a simple constitution without increasing cost and causes neither an obstruction during assembling operation nor a defect on interference with an operating portion after assembling.
    回路基板が支持フレームの上部に固定されたプリンタにおいて、回路基板から下方へ延びるFFCをコストアップを招かない簡単な構成で揺れ止めし、組立て作業時に邪魔にならず、組立て後は作動部分に干渉して故障が生じないようにする。 - 特許庁
  • To provide a program which is capable of enhancing and monitoring influence contrast per element in a precision area, which in turn has not conventionally been determined due to deviation, interactions, etc., regardless of use of components conforming to standards and is capable of analyzing causes of habitual characteristic defect problems while manufacturing products at a site.
    規格内部品を使っても、偏ったり、相互作用などで、従来判別が効かなかった精度域の一要素ごとの影響対照を際立たせてモニターでき、現場で生産をしながら慢性的な特性不良問題の原因分析を可能とするプログラムを提供する。 - 特許庁
  • To attain extremely high magnetic flux density B8 and further to effectively solve the defect of film characteristics substantially inherent in Bi- containing steel, at the time of producing a grain oriented silicon steel sheet, by solving the instability of secondary recrystallization which has been feared in the case Bi is utilized as an inhibitor.
    方向性電磁鋼板の製造に際し、インヒビターとしてBiを利用した場合に懸念された2次再結晶の不安定性を解消して、極めて高い磁束密度B_8 を達成すると共に、Bi含有鋼に本質的に内在する被膜特性不良を効果的に解消する。 - 特許庁
  • Besides as the ultraviolet rays of ≤180 nm wavelength hardly pass through a transparent electrically conductive oxide such as ITO, the rays can be used to remove a polyimide alignment layer, with a defect such as defective printing, on a color filter substrate on a dyestuff part surface of which an ITO transparent electrode pattern is formed.
    また、180nm以下の紫外線は、ITOなどの透明導電酸化物をほとんど透過しないので、色素部の表面にITOの透明電極パターンが形成されたカラーフィルター基板上の、印刷不良などの欠陥のあるポリイミド配向膜を除去するのに用いることができる。 - 特許庁
  • Lattice matching property and matching property of thermal expansion coefficient between the (0001) plane of diboride monocrystal and a nitride semiconductor layer are high, lattice defect of a formation layer can be reduced, the layer is thermally stabilized, heat dissipation of a substrate is raised and performance of a semiconductor device is raised.
    二硼化物単結晶の(0001)面と窒化物半導体層との格子整合性と熱膨張率の整合性が高く、成長層の格子欠陥を低減でき、成長層が熱的に安定化され、基板の放熱特性を高めて、半導体装置の性能を高める。 - 特許庁
  • To provide an insulated gate transistor which has a plurality of striped gate electrodes arranged side by side, the insulated gate transistor being capable of being manufactured inexpensively without characteristic change while a coverage defect of a metal wiring layer is hardly caused when the metal wiring layer is wiring-connected to a semiconductor substrate through a contact hole.
    ストライプ状のゲート電極が複数本並んで配置されてなる絶縁ゲートトランジスタであって、コンタクトホールを介して半導体基板に配線接続する場合に金属配線層のカバレッジ不良が起き難く、且つ安価で特性変化なく製造できる絶縁ゲートトランジスタを提供する。 - 特許庁
  • The method mounted on one computer includes the determination of the three-dimensional map of a signal-to-noise ratio value to a test piece and data to be acquired for the potential defect of the test piece by the light-scattering inspection system over the entire scattering hemisphere of the inspection system.
    一つのコンピュータに実装された方法は、検査システムの散乱半球全体に亘って、光散乱検査システムによって試験体および試験体の電位欠陥に対して取得されるであろうデータに対して、信号対雑音比値の三次元マップを決定することを含んでいる。 - 特許庁
  • To suppress splashing of a UV curing liquid crystal solution without impairing the alignability of a polymer liquid crystal layer formed on an alignment layer and to lower the rate of defect occurrence in the polymer liquid crystal layer after curing in manufacturing an optical retardation plate using the polymer liquid crystal layer.
    UV硬化型液晶を用いる光学リタデーション板の製造時において、配向膜上に形成される高分子液晶層の配向性を損なうことなく、UV硬化型液晶溶液のハジキを抑制し、硬化後の高分子液晶層における欠陥発生率を低下させる。 - 特許庁
  • When the retry requirement-judging means 69 judges that a pattern defect exceeding an amount being specified within a region range that is specified in advance exists during inspection, the repeated inspection instruction means 61 automatically inspects a region including the range at least for two times.
    リトライ必要性判定手段69により、検査中にあらかじめ指定された領域範囲内に指定された量以上のパターン欠陥があると判定した場合に、繰り返し検査命令手段61によりそこを含む領域に関して、自動的に2回以上繰り返し検査する。 - 特許庁
  • To provide a decorative sheet having a sufficiently stereo-design by the inside embossing thereof, also without the appearance of a design defect comprising an embossing return, a silver eye or the like, and can retain a satisfactory stereodesign.
    所謂内部エンボス構造を有する化粧シートにおいて、内部エンボスによる十分に立体的な意匠を有し、且つ、折り曲げ加工や立体成形加工を施しても、エンボス戻りや銀目などの意匠欠陥を発生することなく、良好な立体的な意匠を保持可能な化粧シートを提供する。 - 特許庁
  • By using the dark image data captured by the dark data capturing processing and conducting correction arithmetic processing, the photographed image data can be corrected with respect to image quality deterioration such as a dark current noise generated from an image pickup element and a pixel defect due to a flaw specific to the image pickup element.
    このダーク取り込み処理で取り込んだダーク画像データを用いて補正演算処理を行うことにより、撮像素子の発生する暗電流ノイズや撮像素子固有のキズによる画素欠損等の画質劣化に関して、撮影した画像データを補正することができる。 - 特許庁
  • To provide a coordinate correction method between different apparatuses which enables access to a defective position simply and precisely with a defective review system, based on coordinate information of an arbitrary defect obtained by a shape defective inspection device, and to provide an inspection method using the coordinate correction method.
    外観欠陥検査装置で取得した任意の欠陥の座標情報に基づき欠陥レビュー装置で当該欠陥位置に容易に且つ精度良くアクセス可能にする異なる装置間の座標補正方法及びこの座標補正方法を用いた検査方法を提供する。 - 特許庁
  • To improve efficiency of condition setting, to shorten inspection time, and to improve reliability of an inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting, with an electron beam, a defect, foreign substance, residue, or the like of the same design pattern of a semiconductor device on a wafer in a manufacturing process of the semiconductor device.
    半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥,異物,残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。 - 特許庁
  • To provide an image processing method and an image processor which accurately detect the number of defective pixels existing in an imaging device, not only the total number of the defective pixels but also the number of the defective pixels for each range of a signal level, and which minimize adverse effects of the defective pixel on picture quality and provide a suitable pixel defect correction signal.
    撮像素子に存在する欠陥画素の個数をその総数のみならず信号レベルの範囲毎に正確に検出し、画質に与える悪影響を最小限に抑え良好な画素欠陥補正信号を得る画像処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide an image forming apparatus which can prevent a transfer defect caused when the tip of an electrode for transfer electric field production begins to come into contact with a transfer member and retransfer caused right before the rear end of the electrode for transfer electric field production leaves the transfer member to form am image of high picture quality.
    転写電界形成用電極の先端が転写部材と接触を開始するときの転写不良や、転写電界形成用電極の後端が転写部材から離れる直前に起こるリトランスファを防止し、高画質の画像が得られる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • Also, by arranging the main seal pattern 2 by bending it in the corrugated shape in the line width of a conventional straight pattern, the peeling load of the main seal pattern 2 per unit area of glass is improved and the serious defect of seal peeling is hardly induced in the process of cutting stuck glass into a panel individual piece size.
    また、本シールパターン2を従来の直線パターンの線幅で波状に曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりの本シールパターン2の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなる。 - 特許庁
  • To provide a method for inspecting substrates, whereby an inspection time for observing or inspecting the substrate can be shortened, and the discrimination for shapes of parts including defect present on the substrate, and the resolution for images and shape information obtained by observing or inspecting the substrate can be improved fully.
    基体の観察叉は検査を行う際の検査時間を短縮できると共に、基体上に存在する欠陥を含む部位の形状識別性、及び、基体の観察叉は検査で取得される画像及び形状情報の分解能を十分に向上できる基体検査方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an electrophotographic photoreceptor which has high sensitivity and a low residual potential even in the beginning, has a small variation in sensitivity and maintains the high sensitivity even after repetitive use, and hardly causes the residual potential and an image defect, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device.
    初期において高感度かつ残留電位が低く、更に繰り返し使用によっても感度の変動が小さく高感度を持続し残留電位及び画像欠陥の生じ難い電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁
  • Although a portion grown on the exposed part and below the facet has at first many dislocations between the ground substrate and itself, the dislocation density in the portion is gradually reduced because the dislocations are eliminated to outside by the growth of the facet and accumulated in the crystal defect aggregation region H, and the portion adjacent to the region H becomes a single crystal.
    露呈部の上でファセットの下に成長した部分は初めは下地基板との間に多数の転位を持つが、ファセット成長によって転位が外側へ排除され、結晶欠陥集合領域Hに蓄積されるので次第に低転位となり、この隣接部分は単結晶となる。 - 特許庁
  • The light receiving surface of the front surface of the semiconductor substrate 11 has a specific texture structure having a top portion formed in flat, and its surface area is reduced compared to a conventional general texture structure having a pointed top portion, and thus, as the amount of defect on the surface front surface of the semiconductor substrate 11 decreases, the more amount of incident lights increases.
    半導体基板11の表面の受光面は、頂部が平坦に形成された特定のテクスチャ構造とされており、従来一般の頂部が尖ったテクスチャ構造に較べて表面積が減少しているため、その分、半導体基板11の表面欠陥量が減少する。 - 特許庁
  • Hereby, even if the illuminance distribution in the illumination spot by the actual illumination optical system is not necessarily the Gaussian distribution, each accuracy of the particle size calculation of the foreign matter or the defect to be detected and the coordinate position on the inspection object surface can be improved.
    これにより、実際の照明光学系による照明スポット内の照度分布が必ずしもガウス分布とならない場合においても、検出される異物・欠陥の粒径算出および被検査物体表面上での座標位置の精度を向上させることが可能になる。 - 特許庁
  • To provide an image forming apparatus where color fogging is prevented by cleaning a wax component which leads to an image defect and is remaining on a recording medium by using a cleaning means to remove fog in the image forming apparatus which adopts a recording medium whose surface is made smooth by using toner containing wax.
    ワックス入りトナーを用い、表面が平滑である記録媒体を用いた画像形成装置において、画像欠陥につながる記録媒体上に残ったワックス成分をクリーニング手段を用いてクリーニングし、曇りを除去することで色にごりを防ぐことのできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a device for electronic component mounting that can correctly detect thickness abnormality of a substrate and prevent a height position error and a flatness defect of the substrate due to the thickness abnormality, and to provide a substrate underside supporting method of the device for mounting the electronic component.
    基板の厚み異常を正しく検出することができ、厚み異常に起因する基板の高さ位置誤差や平面度不良を防止することができる電子部品実装用装置および電子部品実装用装置における基板下受け方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To prevent any defect from being generated in a semiconductor substrate when a thermal stress is changed due to STI when forming a high breakdown voltage driving MOS transistor whose gate oxide is relatively thick, and whose gate length is long on a semiconductor substrate on which a field insulating film is formed by STI.
    STIによりフィールド絶縁膜を形成した半導体基板に、比較的ゲート酸化膜が厚くゲート長が長い高耐圧駆動MOSトランジスタを形成する時、STIに起因して熱応力に変化が生じて、半導体基板に欠陥が生じることを防止する。 - 特許庁
  • This is a defect detection device for a coaxial flexible piezoelectric cable in which a piezoelectric tube 3 is provided in the hole 61 of an inspection electrode means 6 and DC voltage is impressed on the coaxial flexible piezoelectric body 2 by moving the piezoelectric tube 3, and a marking device for making a mark to the defective part is provided.
    検査用電極手段6の孔61に配設された圧電体チューブ3を移動させながら同軸状可撓性圧電体2に直流電圧を印加する構成の同軸状可撓性圧電体ケーブル欠陥検出装置と欠陥部にマークをつけるマーキング装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method and a device for diagnosing a failure of an evaporated fuel treatment system capable of accurately recognizing the size of a hole, especially, accurately recognizing that the size of the hole is relatively large when a defect such as the hole is formed on a fuel tank.
    燃料タンクの孔明き等の故障が発生している場合に、その孔の大きさを正確に認識し、特に、孔の大きさが比較的大きいことを正確に認識可能とする蒸発燃料処理システムの故障診断装置及び故障診断方法を提供する。 - 特許庁
  • An initial period growth layer containing an amorphous material and a lattice defect in the vicinity of the boundary between the magnetic recording layer and a base layer is reduced or eliminated by heating a substrate at 100 to 250°C before the magnetic recording layer is formed and satisfactory crystal growth is performed from the boundary.
    磁気記録層の形成前に100〜250℃の範囲で基板加熱を行うことにより、磁気記録層における下地層との界面付近で非晶質や格子欠陥を含む初期成長層を低減若しくは無くし、該界面から良好な結晶成長を行う。 - 特許庁
  • A defect of the joint such as being made of urethane rubber is removed by removal of the lead part by using not a general-purpose press machine but a dedicated press machine with the view of above status, without providing a lead part, and by making the part to be welded overlapped, heated and pressed.
    本発明は前記の状況に鑑み、汎用のプレス機ではなく専用のプレス機を用いて、口出し部を設けずに、溶着する部分をオーバラップさせた後に加熱した後プレスすることにより口出し部を除去し、前記のウレタンゴム製等のジョイント部の欠点を除去したことに特徴を持つ。 - 特許庁
  • To provide an injection molding composition which does not cause a defect and deformation in the obtained sintered body even by cleaning in a short time and is superior in moldability and dimensional stability to the injection molding composition known in the past.
    短時間での脱脂によっても得られる焼結体に欠陥や変形が生じないことを特徴とする射出成形用組成物であって、従来公知の射出成形用組成物よりも射出成形性、寸法安定性に優れる射出成形用組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a steel pipe which suppresses the formation of oxide scale in diameter reduction compression working at a high temperature and suppresses the occurrence of a plating defect during the diameter reduction working, the adhesion of the plating to diameter reduction rolls and the galling, etc., of the steel pipe to the diameter reduction rolls, a method for manufacturing the same and automotive parts using such steel pipe.
    高温での縮径圧加工に際して酸化スケールの生成を抑制し、また縮経加工時のめっき欠陥の発生、めっきの縮経ロールへの付着、鋼管の縮径ロールへのかじりなどを抑制する鋼管、その製造方法及びその鋼管を用いた自動車部品を提供する。 - 特許庁
  • Measuring light 124 from a light source 126 is reflected by a reflection part 121 of a cone mirror 108 through a lens system 107, and output to the measuring object 150 side through openings of light shielding members 105, 106 as wide radial light 119 for measuring a defect.
    光源126からの測定用光124は、レンズ系107を介してコーンミラー108の反射部121によって反射され、光遮蔽部材105、106の開口を介して、幅広で放射状の欠陥測定用光119として測定対象150側に出力される。 - 特許庁
  • To manufacture a magnetic disk medium with few defects by detecting original defects without detecting a groove of a magnetic film and a pattern of unevenness or the like as a defect in an error inspection process of a step for manufacturing the discrete track magnetic disk medium or a bit patterned magnetic disk medium.
    ディスクリートトラック磁気ディスク媒体またはビットパターンド磁気ディスク媒体の製造段階のエラー検査工程において、磁性膜の溝、凹凸などのパターンを欠陥として検出することなく本来の欠陥を検出し、欠陥の少ない磁気ディスク媒体を製造する。 - 特許庁
  • To obtain a water-absorbing thin film generating little appearance defect even if the thin film is exposed during daylight outside the room for a long time when the water-absorbing film is formed on a window glass for an automobile or a cover glass for a display unit.
    吸水性の薄膜が自動車用窓ガラスや表示装置用カバーガラス上等に形成されたときに、当該薄膜が日中等に室外で長期間さらされる場合であっても、前記したような外観不良を発生させることが少ない吸水性の薄膜を得ることを課題とする。 - 特許庁
  • To provide a floor structural body for electromagnetic wave shield capable of forming a floor surface without electromagnetic projection easily, necessitating no work space below the floor surface, and capable of eliminating a problem of cost increase when a welding panel construction method is used and preventing weakening of concrete floor and the occurrence of shield defect.
    電磁気的な突起のない床面を容易に形成でき、床面の下に作業空間が必要なく、溶接パネル工法使用時におけるコスト増加の問題がなく、更に、コンクリート床の脆弱化やシールド欠陥の発生を防止できる電磁波シールド用床構造体を提供する。 - 特許庁
  • To make it secure and easy to visually detect a extremely small defect of an interface part by properly setting the irradiation direction of light to the face part of a panel and then causing light transmitted through the interface part to have necessary light characteristic variation by effectively using the diffraction of the light.
    パネルのフェース部に対する光の照射方向を適切に設定した上で、光の回折を有効利用して該フェース部を透過する透過光に所要の光特性変化を生じさせ、フェース部の微小欠点を確実且つ容易に目視で検出できるようにする。 - 特許庁
  • To provide a water-in-oil emulsion-based makeup cosmetic whose use feeling does not become heavy even when a large amount of pigment grade titanium oxide, by improving the defect such that the use feeling becomes heavy and the commercial value is lost when a large amount of pigment grade titanium oxide is incorporated.
    顔料級酸化チタンを大量に配合した場合の使用感が重くなり商品価値が失われるという欠点を改良した、顔料級酸化チタンを大量に配合しても使用感が重くならない油中水型乳化ベースメイクアップ化粧料を提供する。 - 特許庁
  • Wipe information is imparted to individual information on a substrate to be extracted from a solder printing device because of a defect in printing state of solder and to have solder wiped (ST12), and a wiping state of solder is inspected with respect to a substrate having a wipe history (ST4).
    半田の印刷状態が不良であるとして半田印刷装置から抜き取って半田の拭き取りを行う基板について、基板の個体情報に抜き取り情報を付与しておき(ST12)、抜き取り履歴のある基板については半田の拭き取り状態を検査する(ST4)。 - 特許庁
  • The inclination detecting means installed on a water tank determines by its detecting output whether a rotational axis of a rotary drum placed inside the water tank is within a specified range (S11) and in case it detects any defect in the positioning of the water tank 1 is assigned to an error flag (S13).
    水槽に取り付けた傾き検知手段の検知出力によって、水槽内に配置されている回転ドラムの回転軸が所定の範囲内であるか否かが判定され(S11)、水槽の配置状態が異常である場合には、エラーフラグに1が代入される(S13)。 - 特許庁
  • To provide an optical modulation element which has a gradation function, alignment stability, high contrast, little hysteresis, high resolution and excellent stability of an associated product, and in which a defect is repaired, in an optical modulation element using a ferroelectric liquid crystal.
    強誘電性液晶を用いた光変調素子において、階調機能を持たせると共に、配向安定性を有し、しかも、コントラストが高く、ヒステリシスが少なく、欠陥修復が可能であって、高解像度が可能である、会合体の安定性に優れた光変調素子を提供する。 - 特許庁
  • A machine and a method for laser cutting are provided with which a log composed of such information as the program number of the cutting program corresponding to the performed retry operation, the time when the defect is generated and the sequence number or the like is stored in a storage 11 and the log is displayed on a display panel 15.
    リトライ動作を実行した該当の切断プログラムのプログラム番号や異常発生時刻やシーケンス番号等の情報から構成されるログを記憶部11に記憶し、前記ログを表示パネル15に表示するようになっているレーザ切断機及びレーザ切断方法を提供する。 - 特許庁
  • In the culturing container, uniform and even feed of liquid is made possible by using a liquid feed means 3, a layered culture medium 7, etc., and distribution of water in the culture medium is made even and growth defect and uneven growth of the plant are prevented and temperature variation of the culture medium can effectively be alleviated.
    また、給液手段3や層状の培地7等を用いることによって、均一でムラのない給液を行うことが可能となり、培地内の水分配分が均等となって、植物の生育不良・生育ムラを防止するとともに、培地の温度変化を効果的に緩和することができる。 - 特許庁
  • To provide a method of a transfer mask capable of inexpensively manufacturing a transfer mask having excellent transferring accuracy in which a fatal defect such as deformation of a transfer mask itself due to compression stress of a BOX layer or deformation of a membrane generated on the transfer mask employing an SOI wafer is prevented.
    SOIウェハを用いた転写マスクにて発生する、BOX層の圧縮応力に起因する転写マスク自体の変形やメンブレンの変形といった致命的な欠陥を防止した優れた転写精度の転写マスクを廉価に製造できる転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an organic functional device in which an organic functional element constituting section optimal for the organic functional element can be formed on a substrate inexpensively with high precision, miniaturization and large area can be attained easily, and defect of stripping of a protrusion surrounding the organic functional element constituting section is hard to occur.
    有機機能素子に最適な有機機能素子構成部を基板上に安価にかつ高精度に形成することができ、微細化及び大面積化が容易であり、かつ有機機能素子構成部を取り囲む凸部の剥離による欠陥が生じ難い有機機能デバイスを提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for repairing gas turbine blades, which prevents the generation of a defect such as a crack in build-up welding and performs highly reliable repair when repairing a thickness-reduced portion of a blade tip of the gas turbine blades and to provide the gas turbine blades repaired by the repairing method.
    ガスタービン動翼の翼先端の減肉部を補修する際、肉盛溶接におけるき裂等の欠陥の発生を防止し、信頼性の高い補修を行うことができるガスタービン動翼の補修方法、およびその補修方法により補修されたガスタービン動翼を提供する。 - 特許庁
  • To solve the problem of display unevenness or the like caused by direct contact between the wiring and a liquid crystal, by suppressing the ruggedness of a cutting end face small caused by laser cutting for repairing a wiring defect, and coating the face with an insulating layer formed thereafter.
    配線欠陥を修復するためのレーザ切断により生じる切断端面の凹凸を小さく抑制し、その後形成する絶縁層で被覆することにより、配線が直接液晶に接触することにより生じる表示上のムラ等の問題を解消する。 - 特許庁
  • To provide a medical tool that helps minimize the outside diameter of a tube portion to which a metal ring is attached and can be easily inserted into a celom, and a method for manufacturing the medical tool that can very easily manufacture the medical tool without causing a defect to the tube portion.
    金属リングが取り付けられるチューブ部分の外径を極力小さくでき、体腔内への挿入性に優れた医療器具と、その医療器具を、チューブに欠陥を生じさせることなく、きわめて容易に製造することができる医療器具の製造方法を提供することこと。 - 特許庁
  • By mounting two calibration samples 453 and 454 on a wafer mounting surface of a wafer chuck 23 to selectively use the two calibration samples 453 and 454 according to a large-size wafer 18a and a small size wafer 18b, the defect inspection of inspection objects having different sizes can be handled.
    ウエハチャック23のウエハ載置面に校正試料453と校正試料454の2個、設け、大サイズウエハ18aと小サイズウエハ18bに応じて、これら2個の校正試料453、454を使い分けることにより、サイズの異なる被検査物の欠陥検査に対応するようにしたもの。 - 特許庁
  • For example, power source lines 124 which are formed on the same substrate 10 and are set at the same potential as each other are subjected to defect inspection right after the formation thereof and repair wiring 128 is formed by directly covering the power source lines 124 so as to connect the loss defective (disconnected) portions thereof.
    同一の基板10の上に形成され、互いに同一電位に設定される例えば電源ライン124の形成後、直ちに欠陥検査を行ってその欠損欠陥(断線)部分を繋ぐように電源ライン124を直接覆って修復配線128を形成する。 - 特許庁
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