「Distribution Pattern」を含む例文一覧(1621)
＜前へ 1 2 .... 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 次へ＞- To enhance the contrast of a light intensity distribution by exposure light transmitting a main pattern, even in an arbitrary layout where main patterns, comprising light transmitting parts provided in a light shielding part of a photomask are close to each other, at a distance shorter than the exposure light wavelength.
フォトマスクの遮光部中に設けられた透光部よりなる主パターン同士が露光波長以下の間隔で近接する任意のレイアウトにおいても主パターンを透過した露光光による光強度分布のコントラストを強調できるようにする。 - 特許庁 - The first lighting fixture unit 20A is provided with a first projection lens 24, a first reflector 26 converging and reflecting the light from a first semiconductor light emitting element 22 frontward, and a first shade 21 forming a cut-off line of a light distribution pattern.
第１の灯具ユニット２０Ａは、第１投影レンズ２４と、第１半導体発光素子２２からの光を前方に向けて集光反射させる第１リフレクタ２６と、配光パターンのカットオフラインを形成する第１シェード２１とを備える。 - 特許庁 - In addition, each of the electric power consumers corresponding to the selected pieces of electric power consumption pattern information is output from an input/output part 31 as a candidate of power distribution destination of electric power supplied by the power producer according to the electric power supply contract candidate information.
また、選択された電力使用消費パターン情報の電力需要者各々を、電力供給契約候補情報に従って発電業者から提供される電力の配電先の候補として、入出力部３１から出力する。 - 特許庁 - To provide a pigment dispersion composition for an organic black matrix of color filter that has excellent light resistance, color permeability, grain size distribution, coating properties and pattern uniformity and shows stabilized environmental affinity and storability.
優秀な耐光性、色相透過度、粒度分布、コーティング性及びパターンの均一性を持ち、安定した環境親和性及び貯蔵性を有したカラーフィルターの有機ブラックマトリックス用顔料分散体組成物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming device which detects the concentration distribution of a test pattern with high sensitivity, by using a reflection-type optical sensor of a simple configuration, and corrects an image forming position of a recording head with high precision, and to provide a method of correcting the image forming position.
簡易な構成の反射型の光学センサを用いてテストパターンの濃度分布を高感度で検出し、記録ヘッドの画像形成位置を高い精度で補正することができる画像形成装置と画像形成位置の補正方法とを提供する。 - 特許庁 - To achieve faithful and high-throughput transfer of fine pattern under appropriate illumination conditions, through the use of an illumination optical system capable of forming a ring-shaped illumination pupil distribution in a circumferential polarization state while efficiently reducing a light quantity loss.
光量損失を良好に抑えつつ周方向偏光状態の輪帯状の照明瞳分布を形成することのできる照明光学装置を用いて、適切な照明条件のもとで微細パターンを忠実に且つ高スループットで転写する。 - 特許庁 - A host computer refers an identification information of a tray read by a scanner 5 with a merchandise information table and an arrangement pattern information of the distribution bays, determines which sorting lines L1 to L6 the concerned tray is to be lead into, and controls a sorter 3.
ホストコンピュータ４０は、スキャナ５により読み取ったトレイの識別情報と、商品情報テーブル及び配分間口の配置パターン情報とを参照して、当該トレイを仕分けラインＬ１〜Ｌ６のいずれに導入するかを決定し、ソータ３を制御する。 - 特許庁 - The light source 15 makes the alignment arrangement where a lengthwise demarcation line 33 between the adjoining luminous elements 30 crosses the turning direction of the mirror 22, and the horizontal demarcation line 35 runs in line with the same, getting rid of horizontal stripes or dark spots from the light distribution pattern.
光源１５は、隣接する発光素子３０の縦方向の境界線３３をミラー２２の回動方向と交差させ、横方向の境界線３５を回動方向から遮る素子配列を備え、配光パターンから横縞や暗部を解消する。 - 特許庁 - In case of failure, a low-beam emitting device 8 controls the reflected light L6 from a reflection type digital light deflection device 2 during non-energization period to use it as a light distribution pattern P for low beam and emit it to a road surface.
故障が発生した場合において、ロービーム照射装置８により、無通電時の反射型デジタル光偏向装置２からの反射光Ｌ６を制御してすれ違い用の配光パターンＰとして使用して路面などに照射することができる。 - 特許庁 - To provide a vehicular lamp unit capable of preventing a reflector from projecting from the right and left of a lens in the front view, of making a bulb hardly seen from the front side, and of providing an optimum light distribution pattern by easy lamp manufacturing.
正面視においてレンズの左右からリフレクタが突出せず、また、バルブを正面から見え難くすることが可能となり、しかも、最適な配光パターンを、容易な灯具製造によって実現することができる車両用灯具ユニットを提供する。 - 特許庁 - When a permission generating means 16 permits an access for a prescribed time with respect to data requesting this access, every time the access interval, obtained on the basis of the distribution speed of data on request of access and contents of access pattern information, elapses.
そして、許可発生手段１６が、アクセスの要求されたデータの配信速度とアクセスパターン情報の内容とに基づいて得られるアクセス間隔を経過する度に、このアクセスの要求されたデータに対する一定時間のアクセスを許可する。 - 特許庁 - As a shield layer, a conductive layer 4 of a thick resistor on a surface is arranged and the conductive layer 4 is not connected to any pattern inside a wiring board, so that the distribution of electric fields inside the board can be made smooth and high frequency noises can be reduced.
シールド層として、表面にある抵抗である厚さを持つ導電層４を配置し、かつ該導電層４を配線基板内のどのパターンにも接続しないことにより、基板内の電界分布が緩やかになり、高周波ノイズを低減させる。 - 特許庁 - The vehicle headlamp 70 includes a light source 64 having a light emitting surface 64a with at least one linear side, and a reflector 62 forming a light distribution pattern having a first cut-off line and a second cut-off line each having an angle.
車両用前照灯７０は、少なくとも一辺が直線状の発光面６４ａを有する光源６４と、互いに角度を持つ第１カットオフラインおよび第２カットオフラインを有する配光パターンを形成するリフレクタ６２と、を備える。 - 特許庁 - A Levenson phase shift mask 4 is subjected to projection exposure and the intensity distribution of the light which transmitted through the Levenson phase shift mask 4 is detected by a CCD camera 6, to obtain the relation between the defocus quantity on the CCD camera 6 and the dimension of the optical pattern.
レベンソン位相シフトマスク４を投影露光し、このレベンソン位相シフトマスク４を透過した光の強度分布をＣＣＤカメラ６により検出し、ＣＣＤカメラ６上のデフォーカス量と、光学的パターン寸法との関係を求める。 - 特許庁 - Thereby, when the light source 22a moves to the front movement position, the reflected light from the additional reflection face 24a1 is converged at the rear focus F and the central luminous intensity of the low-beam light distribution pattern is increased and, thereby distant visibility becomes superior.
これにより、光源２２ａが前方移動位置へ移動したとき、付加反射面２４ａ１からの反射光を後側焦点Ｆに収束させて、ロービーム用配光パターンの中心光度を高め、これを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁 - A training data conversion means 105 converts training data of a line B stored in a B2 training data storage means 106 by using conversion parameters stored in a conversion parameter storage means 104 so that they approximates the data distribution of a line A, and passes the data to a standard pattern generating means 108.
105は、変換パラメータ記憶手段104に格納された変換パラメータを用いて、B2訓練データ記憶手段106に格納された回線Bの訓練データを、回線Aのデータ分布に近くなるように変換して標準パタン作成手段108に渡す。 - 特許庁 - The density or distribution pattern of the spherical fine particles on the surface of the tubular heat-shrinkable plastic material are set so that the spherical fine particles do not interfere with each other even after the tubular heat-shrinkable plastic material is thermally shrunk by predetermined quantity.
チューブ状熱収縮性プラスチック材表面の球状微粒体の密度又は分布パターンはチューブ状熱収縮性プラスチック材が所定の量熱収縮した後においても、球状微粒体が相互に干渉しないよう構成される。 - 特許庁 - On the basis of whether a frequency distribution pattern corresponding to the vibration of a micro bubble is included in the power spectrum waveform 46 obtained by the frequency analysis part 24, a decision part 26 decides whether the reception signal corresponds to micro bubbles.
判定部２６は、周波数解析部２４によって求められたパワースペクトラム波形４６内に、マイクロバブルの振動に対応した周波数分布パターンが含まれるか否かに基づいて、その受信信号がマイクロバブルに対応するものか否かを判定する。 - 特許庁 - The greenhouse makes the pollination insects I accurately perform direction recognition by achieving a light distribution condition equal to the sky polarized pattern in the field 2 and making the pollination insects I check visually ultraviolet polarization from a plurality of directions.
圃場２内において天空の偏光パターンと同等の配光状態を実現し、受粉用昆虫Ｉに対して紫外線偏光を複数方向から視認させることにより、受粉用昆虫Ｉに方向認識を的確に行わせる。 - 特許庁 - According to what is a distribution pattern of a plurality of total points obtained in that manner and reflects a state of dispersion of the plurality of total points, the system classifies the users' constitution into one of the plurality of predetermined types and makes a judgement (S36 and S38).
それにより取得された複数の合計得点の分布パターンであってそれら複数の合計得点の散らばり具合を反映したものに基づき、ユーザの体質を、予め定められた複数のタイプのいずれかに分類して判定する(S36,S38)。 - 特許庁 - When a switch is in the ON state, a load distribution pattern is sensed by taking signals from load sensors arranged in each small region (S2), and succeeding load data are standardized by primary load data determined by averaging all the load data up to a set time T0 (S6).
スイッチがＯＮされている場合、小領域毎に配置した荷重センサからの信号を取込んで荷重分布パターンをセンシングし（Ｓ２）、設定時間Ｔ０までの全荷重データを平均化した初期荷重データでその後の荷重データ標準化する（Ｓ６）。 - 特許庁 - Hence, the lens body 10 does not have a part where high-brightness light of a light source 16 goes through, thus, the problems of giving an effect to the light distribution pattern due to high-brightness light of the light source 16 and its appearance can be solved.
このためレンズ体１０には、光源１６の高輝度光が素通りする部分が存在せず、よって、光源１６の高輝度光による配光パターンに影響を与えるという問題、及び見栄えの問題を解消することができる。 - 特許庁 - A pilot port 76 and a main port 77 are opened or closed in accordance with the fuel pressure to adjust the fuel distribution amount to the pilot fuel passage and to the main fuel passage at each fuel pressure, and timing of opening or closing the pilot port 76 and the main port 77 is changed to adjust the change-over timing of fuel distribution in accordance with the operation pattern of the engine.
また、燃料圧力に応じて、パイロットポート７６およびメインポート７７を開弁または閉弁させて、各燃料圧力時におけるパイロット燃料通路およびメイン燃料通路への燃料分配量を調整するとともに、エンジンの運転パターンに応じて、パイロットポート７６およびメインポート７７の開弁または閉弁タイミングを切り替えて燃料分配の切替タイミングを調整する。 - 特許庁 - A device includes a light source 14 for irradiating a sample 30 with light; a camera 32 for detecting fluorescence from the sample 30; and a means for determining degreasing uniformity and a degreasing condition of the sample 30 by using at least two indexes, namely, a first index acquired by subjecting a fluorescence intensity distribution to space pattern analysis and a second index acquired, by subjecting the fluorescence intensity distribution to statistical analysis.
試料３０に光を照射する光源１４と、試料３０からの蛍光を検出するカメラ３２と、蛍光の強度分布を空間パターンの解析で得られる第１の指標と、蛍光の強度分布を統計解析して得られる第２の指標の少なくとも２つの指標を用いて、試料３０の脱脂の均一性及び脱脂の度合いを判定する手段を有する。 - 特許庁 - A luminous energy distribution adjusting filter 52 is formed so as to have a structure that a transmittivity is determined by a ratio of an area of a pattern 63 to one or a plurality of unit areas, wherein an area for not transmitting light surrounded by circumferences and two radiuses of two cocentrical circles around a center of the luminous energy distribution adjusting filter 52 is the unit area.
カラー陰極線管の蛍光面形成用露光装置において、光量分布調整フィルター52を、その中心を中心とする２つの同心円の円周と２つの半径とにより囲まれた光を透過しない領域を単位領域とし、この単位領域の１個または複数個の占めるパターン63の面積の割合により透過率が決定される構造に形成した。 - 特許庁 - Each LED element 3 for composing an LED array panel 1 is arranged around an optical axis 72 at angles having a difference of 90 degrees, a light having an intensity distribution with a fixed pattern being outputted from each LED element 3 is overlapped for averaging, and the intensity distribution of illumination light outputted from the LED array panel 1 becomes nearly uniform over the irradiation surface.
ＬＥＤアレイパネル１を構成する各々のＬＥＤ素子３を、その光軸７２の回りに９０度異なる角度で配置し、個々のＬＥＤ素子３から出力される一定のパターンの強度分布を持つ光を重ね合わせて平均化し、ＬＥＤアレイパネル１から出力される照明光としては照射面で強度分布がほぼ一様となるようにする。 - 特許庁 - A train control system for supporting or controlling the train traveling on a track specifies a section where the wavy wear tends to occur on the track; produces a speed pattern with respect to each of the train so that speed distribution of the train is dispersed in the section; and decides supporting information or a notch instruction to a motorman on the basis of the travel speed pattern.
軌道を走行する列車を支援あるいは制御する列車制御システムにおいて、列車制御システムは、前記軌道のうち波状摩耗の生じやすい区間を特定し、該区間における列車の速度分布が分散するように各列車に対する速度パターンを生成し、前記走行速度パターンに基づき運転士への支援情報あるいはノッチ指令を決定する。 - 特許庁 - In a manufacturing step of the photomask, a crack assembly area 17 comprising a crack 16 distribution is formed in the mask 6 by irradiation with a femto-second pulse laser, the flatness of the mask 6 is improved by a tensile stress operated thereto and, thereby, the precision of drawing position of the circuit pattern 5 and the yield of the semiconductor wafer on which the circuit pattern is formed can be improved.
フォトマスクの製造工程において、フェムト秒パルスレーザを照射することによりマスク６内にクラック１６の分布からなるクラック集合領域１７を形成させ、そこに働く引張応力によってマスク６の平坦度を改善することで、回路パターン５の描画位置精度および回路パターンが形成される半導体ウエハの歩留まりを向上させることができる。 - 特許庁 - A pattern coating device includes a device body having a supply device for heated and melted hot-melt adhesive and a transfer tool 2 in which a transfer roll is pivotally installed at a support frame and is characterized in that the heated and melted hot-melt adhesive is supplied to the surface of the transfer roll in a pre-determined pattern distribution and the transfer roll is detachable from the device body having the supply device.
加熱溶融したホットメルト接着剤の供給装置を有する装置本体と、転写ロールを支持フレームに軸架してなる転写用具２とよりなり、前記転写ロールの表面に、所定のパターン分布で加熱溶融ホットメルト接着剤が供給されるとともに、前記転写ロールは、前記供給装置を有する装置本体に対し、離脱自在であることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a computer-readable recording medium recording a program for making a computer execute a method of determining a pattern of a mask and an effective light source distribution with which the mask is illuminated, both of which are used for an exposure apparatus including an illumination optical system which illuminates a mask with light from a light source and a projection optical system which projects a pattern of the mask onto a substrate.
光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンとマスクを照明する際の有効光源分布とを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータで読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁 - In the membrane mask manufacturing method whereby an absorber 14 is formed on a membrane 12, a stress of a lower absorber 14a is adjusted and the thickness of the lower absorber 14a is determined according to a typical pattern size W to reduce the stress distribution in the thickness direction of the absorber 14, thereby obtaining a membrane mask having an absorber pattern formed at a high position accuracy.
メンブレン１２上に吸収体１４を成膜するメンブレンマスクの製造方法において、下部吸収体１４ａの応力を調整し、下部吸収体１４ａの厚さは代表的パターンサイズＷに対応して決定することによって、吸収体１４の厚さ方向の応力分布を小さくし、吸収体パターンが高位置精度のメンブレンマスクを得る。 - 特許庁 - In the microlens array in which several microlenses ML are irregularly formed so as to be different from a basic pattern by which each of the apex intervals of microlenses adjacent with each other is the same interval L or are formed to have regularity in terms of probability distribution, the apex positions T of all microlenses are within a circle having the radius of ≤0.3L by centering the apex position in the basic pattern.
複数のマイクロレンズＭＬが、相互に隣接するマイクロレンズの頂点間隔を全て等間隔Ｌとした基本パターンとは異なるように不規則に又は確率分布的な規則性をもって形成されたマイクロレンズアレイにおいて、全てのマイクロレンズの頂点位置Ｔが、上記基本パターンにおける頂点位置を中心とした０．３Ｌ以下の半径を有する円内に位置するようにする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a resin mold having a mold surface to which a prominent concave and convex pattern is transferred reflecting a state of distribution of each soft potion and each rigid portion in a base plate, and to provide a manufacturing method of a construction plate using the manufactured resin mold.
基板における各軟質部と各硬質部との分布状態を反映し、際立った凹凸模様が転写された型面を有する樹脂型を製造する方法及び作製した樹脂型を用いて建築板を製造する方法を提供すること。 - 特許庁 - A brightness and darkness boundary forming part 41C which cuts off a part of the reflection light from a reflector 34 for reflecting frontward the direct light from the light source 12a and forms a cut-off line CL of the light distribution pattern is formed at the front end part of the brightness and darkness boundary formation board 41.
光源１２ａからの直接光を前方に反射するリフレクタ３４からの反射光の一部を遮蔽して配光パターンのカットオフラインＣＬを形成する明暗境界形成部４１Ｃが、明暗境界形成板４１の前端部に形成される。 - 特許庁 - Then, discrete Fourier transformation is performed to the calculated adjacent angle distribution (a step S5), and processing to remove unnecessary data from data after the discrete Fourier transformation, that is, filter processing is operated (a step S6), and the pattern matching of the data after the Fourier transformation is executed (a step S7).
次に、計算された接角分布に対して離散フーリエ変換を行い（ステップＳ５）、この離散フーリエ変換後のデータの内、必要でないものを除く処理、すなわちフィルタ処理を施し（ステップＳ６）、フーリエ変換後のデータのパターンマッチを行う（ステップＳ７）。 - 特許庁 - To provide a treatment apparatus capable of making the distribution of the dissolution amount and the etching amount of copper foils in an entire substrate and in the front and rear face seven and suppressing unevenness of the width of a conductor of wiring patterns in the wiring pattern directions by solving the formation of a liquid pool in the center part of the substrate at the time of etching treatment.
エッチング処理時に基板中央部の液溜まりを解消し、基板全体及び表裏銅箔溶解量の分布とエッチング量の均一化と配線パターン方向による配線パターンの導体幅のバラツキを少なくする処理装置を提供する。 - 特許庁 - When the respective movable shades move from the left (right) direction, that is, from a light shielding release position to a light shielding position, the light source on the left (right) side is switched off in the moving range up to the vicinity of its optical axis, so that the right (left) side light distribution pattern PAR (PAL) is not formed.
各可動シェードが遮光解除位置から遮光位置へ向けて左（右）方向へ移動する際、その光軸近傍までの移動区間では、左（右）側の光源を消灯して、右（左）側の配光パターンＰＡＲ（ＰＡＬ）を形成しないようにする。 - 特許庁 - As the RFID tag uses an built-in antenna having a specialized irradiation pattern, signals transmitted from the RFID tag through the RDID reader are received even when the RFID tag is attached to a large object for physical distribution.
また、ＲＦＩＤタグが特化された放射パターンを有する内蔵型アンテナを用いることにより、大型の物流用の物にＲＦＩＤタグが取り付けられてもＲＦＩＤリーダを通じてＲＦＩＤタグから伝送される信号を受信するように構成する。 - 特許庁 - A TFT array inspection apparatus includes: an inspection signal applying means for applying an inspection signal to a TFT array in the panel, and forming a potential distribution in a predetermined pattern on the panel; and a signal processing means for detecting a panel defect by using a secondary electron detection signal.
ＴＦＴアレイ検査装置は、パネルのＴＦＴアレイに検査信号を印加して、パネル上に所定パターンの電位分布を形成する検査信号印加手段と、二次電子の検出信号を用いてパネル欠陥を検出する信号処理手段とを備える。 - 特許庁 - Consequently, it is recognized by the user whether technique to be used in singing is suitably performed, depending it on whether distribution of coordinates of ΔF0-ΔΔF0 become the characteristic pattern corresponding to the technique used in singing.
そのため、微分値画像において、ΔＦ０−ΔΔＦ０座標の分布が、歌唱時に用いた技巧に対応する特徴的なパターンとなっているか否かにより、歌唱時に用いるべき技巧が適切に行われているか否かをユーザに認識させることができるようになる。 - 特許庁 - To provide a method for eliminating the need for measuring the electric field distribution of the total steric surface surrounding a measured antenna and directly, conveniently and accurately calculating the far-field radiation pattern, from a measured result in a short-distance Fresnel region of one required plane.
被測定アンテナを取り囲む全立体面の電界分布の測定を必要とせず、また、必要な１つの平面内の近距離フレネル領域での測定結果から直接、遠方界放射パターンを簡便に精度よく計算できる方法を提供する。 - 特許庁 - A high quality weld bead without defects such as a blowhole can be obtained by discharging a plating component from a fused part by quickly evaporating the plating component at a welding part including a heat affected part by the beam strength distribution peculiar to the irradiation pattern and rotational movement of the converging beam L2.
前記照射パターンの特有のビーム強度分布と集束ビームＬ２の回転運動により、熱影響部を含めた溶接部のめっき成分が急速に蒸発して溶融部から排出され、ブローホール等の欠陥のない高品質な溶接ビードが得られる。 - 特許庁 - To provide a technology whereby a terminal side can easily detect a reproduction start point in received data by controlling a data transmission pattern in units of packets in a communication protocol at a distribution server side so as to stabilize a video signal at reproduction start by the terminal side.
配信サーバ側で通信プロトコルのパケット単位のデータ送信パターンを制御することにより、端末側で受信データ中の再生開始ポイントを容易に検出できるようにし、端末側の再生開始時の映像信号が安定することを目的とする。 - 特許庁 - To form a landscape light distribution pattern having a large horizontal diffusion angle by light radiation from a lamp tool unit after enhancing a luminous flux utilization ratio for light from a light emitting element, in a vehicular lamp tool unit using the light emitting element as a light source.
発光素子を光源とする車両用灯具ユニットにおいて、発光素子からの光に対する光束利用率を高めた上で、該灯具ユニットからの光照射によって水平方向の拡散角が大きい横長配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - To provide a system which performs color conversion based on a profile to an input image, to output from a printer, and further optimizes a color pattern of a color patch in a color chart for producing the profile in consideration of a color distribution of the image as a printing object.
入力画像に対してプロファイルに基づく色変換を施し、プリンタから出力するシステムにおいては、印刷対象となる画像の色分布を考慮して、プロファイル作成用のカラーチャートにおけるカラーパッチの配色を最適化することが有効である。 - 特許庁 - To make a light distribution pattern for a high beam formed by an irradiation light have superior distant visibility in addition to a constitution of beam switching of a low beam and a high beam in a projector type vehicular headlight unit in which a light-emitting element is a light source.
発光素子を光源とするプロジェクタ型の車両用前照灯ユニットにおいて、ロービームとハイビームとのビーム切換えを行い得る構成とした上で、その照射光により形成されるハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁 - To provide a vehicular signal lamp fitting capable of solving problems such as giving an effect to a light distribution pattern due to light source light and its appearance in a vehicular signal lamp fitting including a lens body having a corner part with a large curvature radius, by improving the corner part.
曲率半径の大きいコーナー部を有するレンズ体であって、そのコーナー部を改善することにより、光源光による配光パターンに影響を与えるという問題、及び見栄えの問題を解消することができる車両用信号灯具を提供する。 - 特許庁 - Processing that extracts a message from received data is performed while classified with data showing a pattern of a network address being a distribution source of the message and data showing extraction procedures and attributes to correspond to diversity of data distributed through a network.
また、受信したデータからメッセージの抽出を行なう処理をメッセージの配信源であるネットワーク・アドレスのパターンを示すデータと抽出手順及び属性を示したデータにより分類して行ない、ネットワークを介して配信されるデータの多様性に対応する。 - 特許庁 - To provide a lighting fixture for a vehicle for irradiating the direction of the light-dark boundary of a light distribution pattern with a light-guide optical device, which reduces the unwanted lighted region over the boundary generated by a chromatic dispersion.
ライトガイドを用いた光学系により、配光パターンの明暗境界の方向に光を照射する場合に、明暗境界の上側に色分散による意図しない照明領域が発生する不具合を軽減することができる車両用灯具を提供する。 - 特許庁 - To provide a lithographic apparatus which applies a desired angular intensity distribution to a radiation beam by using an array of mirrors, this radiation beam overcoming or alleviating one or more shortcomings of a lithographic apparatus used for projecting a pattern onto a target part of a substrate.
所望の角度強度分布を放射ビームに与えるためにミラーのアレイが使用され、この放射ビームが続いて、基板のターゲット部分上へパターンを投影するために使用されるリソグラフィ装置の１つまたは複数の短所を克服しまたは軽減する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
