「Distribution Pattern」を含む例文一覧(1621)

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  • To provide a semiconductor wafer processing system for improving the manufacturing yield of a semiconductor by drastically making uniform the thickness distribution of a photoresist film on a wafer, for reducing the deviation of the line width of a pattern, and efficiently suppressing the contamination of the wafer in a housing by dust or the like.
    ウェハ上のフォトレジスト膜の厚さ分布が格段に均一になってパターンの線幅の偏差が減少し、しかも塵埃等によるハウジング内におけるウェハの汚染を効率よく抑制することによって、半導体の製造収率を向上させることができる半導体ウェハプロセッシングシステムを提供すること。 - 特許庁
  • To establish a technology capable of making patterning materials uniformly distribute in a cast molding even when a large-sized patterning material is used, thereby obtaining an artificial marble with a large-sized color pattern of high quality excellent in design, deluxe feeling and natural feeling, and with less distribution of product strength.
    サイズの大きい柄材を使用した場合でも、注型成形体内に該柄材を均一分布させることができ、その結果として、色柄模様が大柄で意匠性、高級感および天然感に優れ、しかも製品強度のバラツキも少ない高品質の色柄模様付き人造大理石を得ることのできる技術を確立すること。 - 特許庁
  • A pedestal 24 loaded with an aircraft beacon light 12 is rotated continuously following a prescribed light distribution pattern of the aircraft beacon light 12 by a pedestal control part 34, and light from the aircraft beacon light 12 is received by a photodetection part 25, and illuminance or chromaticity is detected by a plurality of optical sensors arranged linearly.
    架台制御部34により、航空標識灯12の所定の配光パターンに従って航空標識灯12を搭載した架台24を連続的に回動させ、航空標識灯12からの光を光検出部25で受光し直線上に配置された複数の光センサで照度や色度を検出する。 - 特許庁
  • This is a production system which includes partially variations in presentation pattern by combination of a color material and illumination, and realizes a large color variation by preparing illumination light having a sharp peak of spectral distribution and by selecting and using the illumination light with the peak coinciding with a peak of spectrum reflectance of the color material and the one not coinciding.
    色材と照明の組合せによる表現パターンの変化を一部に含んでなる演出システムであって、照明光に鋭い分光分布のピークを持つものを用意し、そのピークが色材の分光反射率ピークと一致するものとしないものを選択して用いることで大きな色変化を実現する。 - 特許庁
  • Wave front distribution in the measurement optical system of the wave front sensor is calculated from the light reception results of each calibration pinhole pattern image PHI' and then the wave front aberration determined from light reception results of the CCD under a state where the entire surface of the measurement opening 46 is illuminated is corrected thus calibrating the wave front aberration measuring equipment.
    各較正用ピンホールパターン像PHI’の受光結果から波面センサの測定用光学系における波面の分布を算出し、測定用開口46の全面を照明した状態でのCCDの受光結果から求めた波面収差を補正して、波面収差測定装置を較正する。 - 特許庁
  • Intensity of light reaching a resist film on a solid sample has a value suitable even to an upper part and a bottom part of the solid by imparting a function of attenuating light to a liquid for immersion exposure, and a suitable exposure intensity distribution is then formed over the entire sample surface, thereby surely reducing formation of an abnormal pattern due to reflected light.
    液浸露光の液体に、光減衰の機能を加えることにより、立体サンプル上のレジスト膜に到達する光強度を、立体の上部にも底部にも適正な値にでき、サンプル表面上の全体に適正な露光強度分布を形成できるので、反射光による異常パターンの発生を確実に低減できる。 - 特許庁
  • A density distribution mask 10 in which patterns 6 of a translucent film are provided on a transparent substrate 1, fine dot figures 4 of pattern of a light-shielding film are provided on the patterns 6 of the translucent film and a opening ratio W of gaps between the fine dots figures 4 is set as the square root of a light transmittance T is produced.
    透明基板1の上に半透光膜のパターン6を有し、前記半透光膜のパターン6の上に、遮光膜のパターンの微小網点図形4を有し、前記微小網点図形4間の間隙の開口率Wが光透過率Tの平方根に設定された濃度分布マスク10を製造する。 - 特許庁
  • The two-dimensional code 11-15 is disposed with an article number information code Cd from which an article code is obtained as a reading result, and an RS code Ce from which an RS code for correcting an error of the article number code is obtained as a reading result inside an information code recording area 106 as a distribution pattern of a cell.
    二次元コード11〜15は、品番符号が読取り結果として得られる品番情報コードCdと、品番符号の誤りを訂正するためのRS符号が読取り結果として得られるRSコードCeとを、情報コード記録領域106内にセルの分布パターンとして配置している。 - 特許庁
  • To provide an image forming method employing a photoreceptor having a projecting and recessed pattern on the surface, the photoreceptor having uniform charge distribution when charges are applied to the photoreceptor, having blade slipping performance ensuring a high-speed process and improved cleaning property even when a polymerization toner having a small diameter is used, and giving stable image quality.
    感光体に電荷をかけた時、均一な電荷分布が得られ、高速化に対応可能なブレードの滑り性を有し、小径の重合トナーを使用してもクリーニング性が向上し、安定した画像品質が得られる表面に凹凸形状を有する感光体を用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁
  • The correction function creation step creates the optical condition correction function that corrects a lighting parameter other than an exposure amount to be used in exposure processing onto the first substrate based on exposure coordinates within the first substrate surface on the basis of a substrate in-surface size distribution of a pattern formed on a second substrate.
    補正関数作成ステップでは、第1の基板上への露光処理に用いる露光量以外の照明パラメータを前記第1の基板面内の露光座標に基づいて補正する光学条件補正関数を、第2の基板上に形成したパターンの基板面内寸法分布に基づいて作成する。 - 特許庁
  • In a differentiated value image displayed on a display device, each coordinate at a crossing point of a first differentiated value ΔF0 and a second differentiated value ΔΔF0 at the same time position is plotted on a differentiated value plane, and the distribution of these coordinates become a characteristic pattern corresponding to technique used at singing.
    表示装置に表示される微分値画像は、同一時間位置における一次微分値ΔF0と二次微分値ΔΔF0との交差する座標がそれぞれ微分値平面上にプロットされたものとなっているが、これら座標の分布は、歌唱時に用いられる技巧に応じた特徴的なパターンとなる。 - 特許庁
  • To provide a vehicle headlamp, thin and compact with superior designability, and with good visibility for a driver and without glare on an oncoming vehicle, in one having a low-beam light distribution pattern formed by a low-beam use light source unit structured of a plurality of projection type optical units.
    複数の投影型光学ユニットで構成されたすれ違いビーム用光源ユニットによりすれ違いビーム用配光パターンが形成される車両用前照灯において、運転者にとって視認性が良好で対向車にとって眩惑がなく、且つ薄型小型で意匠性に優れた車両用前照灯を提供することにある。 - 特許庁
  • To provide a headlight for a vehicle with good visibility for a driver and without giving glare to an on-coming vehicle, and yet thin, compact, and excellent in designability, in one in which a low-beam light distribution pattern is formed by a low-beam light source unit structured with a plurality of optical units.
    複数の光学ユニットで構成されたすれ違いビーム用光源ユニットによりすれ違いビーム用配光パターンが形成される車両用前照灯において、運転者にとって視認性が良好で対向車にとって眩惑がなく、且つ薄型小型で意匠性に優れた車両用前照灯を提供する。 - 特許庁
  • An image is scanned sequentially in a horizontal direction, then a histogram having a line segment length by measuring each length and the number of line segments which are continuous in a scan (vertical or horizontal) direction is produced after each pixel is binarized, then feature amount such as radius etc. is calculated from the histogram and probability distribution of each line segment length of each image pattern to be measured.
    画像を順次横方向に走査し、画素を2値化して走査(縦または横)方向に連続する線分の長さおよび個数を計測して線分長のヒストグラムを作成し、このヒストグラムおよび計測する画像パターンの線分長の確率分布から、半径などの特徴量を算出するようにした。 - 特許庁
  • To provide an optical three-dimensional shaping apparatus capable of manufacturing a three-dimensional shaped product excellent in dimensional precision, appearance and strength by irradiating a shaping surface, which comprises a photosetting resin composition, with light enhanced in energy intensity and having a uniform optical intensity distribution in a predetermined shape pattern through a sheet drawing mask.
    エネルギー強度が高く、光強度の分布が均一な光を面状描画マスクを介して所定の形状パターンで光硬化性樹脂組成物よりなる造形面に照射して、寸法精度、外観、強度などに優れる立体造形物を速い造形速度で製造できる光学的立体造形装置の提供。 - 特許庁
  • When there are a plurality of specific normalized transient operation modes, a transient test is conducted for a transient operation mode having commonly a change pattern of control value of control factor included in a plurality of transient operation modes, and data are fetched with a limitation of data within distribution in a remarkable data region to form a transient engine model.
    所定の規格化された過渡運転モードが複数有るときには、これら複数の過渡運転モードに含まれる制御因子の制御値の変更パターンを共通に有する一つの過渡運転モードにより過渡試験を行い、着目すべきデータ領域の分布内のデータに限定してデータを取り込み過渡エンジンモデルを作成する。 - 特許庁
  • To provide a vehicular headlamp configured to form a predetermined light distribution pattern by light irradiation from the plurality of lamp units, wherein the headlamp is improved in that a lamp is made thinner and the plurality of lamp units are adjusted in their optical axes altogether in the condition that the optical axes of the individual lamp units are aligned.
    複数の灯具ユニットからの光照射により、所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具の薄型化を図った上で、複数の灯具ユニットの光軸調整を、各灯具ユニットの光軸を揃えた状態で一括して行えるようにする。 - 特許庁
  • Accordingly, light L1 from light source bulbs 4T, 4S is reflected with an number color and a red color at a reflection surface when the light source bulbs 4T, 4S are lit, and reflection light L2T, L2S that are colored with umber color and red color are irradiated with a prescribed light distribution pattern to the outside through a lens 2.
    この結果、光源バルブ4T、4Sを点灯すると、光源バルブ4T、4Sからの光L1が反射面11T、11Sでアンバー色、赤色に着色されて反射され、アンバー色、赤色に着色された反射光L2T、L2Sがレンズ2を経て外部に所定の配光パターンで照射される。 - 特許庁
  • Various elements (44) of light scattering or optical absorption performance are installed on the surface (42), thereby, the intensity of light which reflects to a region (214) upper than the light-shade boundary line (206) of the light distribution pattern (202) is made smaller than the case wherein the light scattering or optical absorption elements (44) are not installed.
    表面(42)に、光散乱性または光吸収性の諸要素(44)を設け、これによって、配光パターン(202)の明暗境界線(206)より上の領域(214)へ反射する光の強度を、光散乱性または光吸収性諸要素(44)が設けられなかった場合よりも小さくする。 - 特許庁
  • A solder resist layer 42 is formed on the pad 31a and the distribution layer 31b to form a solder resist pattern 42a through patterning process and plating is effected on the pad 31a and the ball lands 31c to obtain a substrate 100 for semiconductor device having ball lands 51 and pad 52, on which a plating film is formed.
    パッド31a及び配線層31b面にソルダーレジスト層42を形成し、パターニング処理してソルダーレジストパターン42aを形成し、パッド31a及びボールランド31c上にめっきを行い、めっき被膜が形成されたボールランド51及びパッド52を有する半導体装置用基板100を得る。 - 特許庁
  • In a scanning probe microscope, such as a scanning tunnel microscope, one part of the layer 4 is selectively etched away by scanning the surface of the layer 4 with a probe 5 to make the layer 3 partially exposed, and a strain distribution to respond to the shape of the pattern of the layer 4 is formed on the surface of a sample.
    走査型プローブ顕微鏡、例えば走査型トンネル顕微鏡において、プローブ5でGaAs層4の表面を走査することによりGaAs層4を選択的にエッチング除去してInGaAs層3を部分的に露出させ、試料表面にGaAs層4のパターン形状に応じた歪分布を形成する。 - 特許庁
  • By enlarging the displacement of the fine displacement distance generated by the fine displacement generation part 46 by a displacement enlargement arm 44, the movable shade 38 is made stopped at an arbitrary position in the middle other than a complete advancing position or a complete retreating position to form an intermediate light distribution pattern corresponding to its stopped position.
    微細変位発生部46により発生した微細変位距離の変位が変位拡大アーム44により拡大されることによって可動シェード38を完全進出位置及び完全退避位置以外の中間の任意の位置に停止させて、その停止位置に対応した中間配光パターンを形成する。 - 特許庁
  • The lamp unit 40 includes a reflector 47 to reflect direct light of an LED 25 arranged backward of a projection lens 45 to the front, and a shade 49 to form a cutoff line of the light distribution pattern by shielding one part of reflected light from the reflector 47 and one part of the direct light from the LED 25.
    灯具ユニット40は、投影レンズ45の後方に配置されたLED25の直接光を前方に反射させるリフレクタ47と、リフレクタ47からの反射光の一部及びLED25からの直接光の一部を遮蔽して配光パターンのカットオフラインを形成するシェード49と、を備える。 - 特許庁
  • To provide an illumination lamp for vehicle to form a variable light distribution pattern for high beam in which, when running on a flat straight road, the front visibility of its own driver is enhanced without giving glare to a preceding vehicle driver or the like, and in other running situations, it does not give botheration to the own driver.
    ハイビーム用の可変配光パターンを形成する車両用照明灯具において、平坦な直線路を走行する際には、前走車ドライバ等にグレアを与えてしまうことなく自車ドライバの前方視認性を高める一方、それ以外の走行状況下においては自車ドライバに煩わしさを与えてしまわないようにする。 - 特許庁
  • In the reflecting surface 24a of a reflector 24, a part of a reflective region 24a1 contributing to formation of the opposing lane side horizontal cutoff line of a light distribution pattern for the low beam is formed as a reflecting surface 24e for condensation to reflect light from a light source 22a toward the vicinity of the rear side focus F of a projection lens 28.
    リフレクタ24の反射面24aにおいて、ロービーム用配光パターンの対向車線側の水平カットオフラインの形成に寄与する反射領域24a1の一部を、光源22aからの光を投影レンズ28の後側焦点F近傍へ向けて反射させる集光用反射面24eとして構成する。 - 特許庁
  • A body casing 4 is provided with a sample liquid circulation system 1 having a dispersion bath 11 connected to a flow cell 15 through a circulating passage 14 and a measuring system 2 for emitting laser beam to a sample liquid carried in the flow cell 15 to measure the particle size distribution of the sample on the basis of the diffracted light pattern at that time.
    分散バス11とフローセル15とを循環流路14を介して接続した試料液循環系1と、フローセル15内を流れる試料液に対してレーザ光を照射し、そのときの回折光パターンに基づいて試料の粒度分布を測定する測定系2とを本体筐体4に設ける。 - 特許庁
  • The signal intensity of a pixel is acquired while changing the size of a spot recognizing region and a spot recognizing parameter is calculated from the mean value and average value of a signal intensity distribution while a pattern changed in the spot recognizing parameter according to a change in the size of the spot recognizing region is used to recognize the spot image.
    スポット認識領域のサイズを変化させながら画素のシグナル強度を取得し、シグナル強度分布の中央値及び平均値からスポット認識パラメータを計算し、スポット認識領域のサイズの変化に従がって前記スポット認識パラメータが変化するパターンを用いて、スポット画像を認識する。 - 特許庁
  • In the lithographic equipment, in which each of an individually controllable elements provides a pattern to beam of radiation 6 respectively, then the beam is projected on a substrate 9, a detector 20 for detecting intensities of radiation measures the loss of radiation in a radiation distribution system 7, determines the amount of loss, and feeds back the information to a compensating system.
    個々に制御可能な素子のそれぞれは放射のビーム6にパターンを付与し、その後ビームが基板9上に投影されるリソグラフィ装置であって、放射線強度の検出器20は放射分配システム7における放射の損失を測定し、損失量を決定し、この情報を補償システムにフィードバックする。 - 特許庁
  • To provide a vehicle head lamp device with a lighting fixture unit whose light source is a discharge lamp, which can form a light distribution pattern for a low beam without hindrance utilizing instant lighting property of a semiconductor light emitting element, even in case that power control or the like is not employed for shortening a starting time of the discharge lamp after its starting.
    放電灯を光源とする灯具ユニットを備えた車両用前照灯装置において、放電灯の起動後に始動時間を短縮するための電力制御等を行わなくとも、半導体発光素子の瞬時点灯性を利用してロービーム用配光パターンの形成に支障を来たさないようにする。 - 特許庁
  • The learning support program downloaded from a server 10 to each of the terminals 21, 22 by a distribution means 12 contains a program enabling acquisition of contents from the server 10 in response to requirement, display of the contents, acquisition of annotations from the server 10 in response to requirement, and selection operation of a display pattern of the contents and annotations.
    配信手段12によりサーバ10から各端末21、22にダウンロードされる学習支援プログラムには、サーバ10からの必要に応じたコンテンツの取得と、コンテンツの表示と、サーバ10からの必要に応じたアノテーションの取得と、コンテンツとアノテーションの表示パターンの選択操作とを可能とするプログラムが含まれている。 - 特許庁
  • Light which leaks from the side face of the light guide plate is interrupted by a light reflection pattern 220 formed on the light reflective surface of the light guide plate 200 for modification of brightness distribution and the prevention of a moire phenomenon so that an effective display region is not divided into a bright area IV, a boundary area and a dark area V.
    輝度分布の変更及びモアレ現象の防止のために導光板200の光反射面に形成された光反射パターン220により有効ディスプレー領域が明るい領域IV、境界領域、暗い領域Vに分割されないように、導光板の側面から漏洩する光を遮断する。 - 特許庁
  • Then, the front-side surface 14a of the lens 14 is formed with a first free curved surface along a surface shape of a vehicle body 2, and thereafter its rear-side surface 14b is formed with a second free curved surface according to the first free curved surface, whereby the horizontally-long light distribution pattern is accurately formed.
    その際、レンズ14の前方側表面14aを車体2の表面形状に沿った第1の自由曲面で構成した上で、その後方側表面14bをこの第1の自由曲面に応じた第2の自由曲面で構成することにより、横長配光パターンを精度良く形成可能とする。 - 特許庁
  • The projector type lamp unit has a pair of vertical cutoff lines CLv formed on both right and left sides of a lateral central region which is a dark region PA1a in an additional light distribution pattern PA1 by moving a variable shade of the lamp unit to a first light-shielding position located on the rear focal point surface of a projection lens.
    プロジェクタ型の灯具ユニットにおいて、その可動シェードを投影レンズの後側焦点面に位置する第1遮光位置に移動させることにより、付加配光パターンPA1において暗部PA1aとなっている左右中央領域の左右両側に1対の上下カットオフラインCLvを形成する。 - 特許庁
  • In such a condition where rotated second image patterns of various sizes include a first image pattern, the whole display area is divided into a plurality of predetermined divided areas, so that non-uniform distribution is adjusted, the image patterns are automatically created, and a variety of games are provided each time.
    このように、種々のサイズ、回転方向の第2の画像パターンの中に第1の画像パターンが混在する状況において、全体の表示領域を予め定められた複数の分割領域に区分することで、偏り具合を調整することを可能とし、自動生成され、毎回、バラエティに富んだゲームを提供することができる。 - 特許庁
  • The charged particle beam aligner for exposing a work to a pattern with a charged particle beam is characterized in that a region exposed en block has a maximum length of 1 mm or more on the work and the half- value width of an aperture angle distribution over the work is 1 mrad or less.
    荷電粒子線によってパターンを被露光物上に露光する荷電粒子線露光装置であって、一括露光する領域の大きさが、被露光物上で最大長が1mm以上とされており、かつ被露光物上での開き角分布の半値半幅が1mrad以下とされていることを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 特許庁
  • To provide an exposure mask, a designing method and a manufacturing method of the exposure mask, an exposure method and equipment, a pattern lithography method, a fabrication method of devices or the like by which mask constitution with electric field distribution peculiar to a near field considered is easily prepared without conducting complicated and a longer time simulation.
    複雑で、長時間を要するシミュレーションを行うことなく、近接場特有の電場分布が考慮されたマスク構成が容易に作製可能となる露光用マスク、露光用マスクの設計方法及び製造方法、露光方法及び装置、パターン形成方法、デバイスの作製方法等を提供する。 - 特許庁
  • Analysis areas for analyzing shading characteristic are set at a plurality of positions in the read image area of the test pattern (S15), histogram of an image signal in each analysis area is generated, and a gradation value corresponding to the predetermined percentage point of the histogram is obtained, and then distribution information showing the shading characteristics is generated (S44).
    テストパターンの読取画像領域内における複数の位置に、シェーディング特性を解析するための解析領域を設定する(S15)、各解析領域内の画像信号のヒストグラムを生成し、そのヒストグラムの所定パーセント点に対応する階調値を求め、シェーディング特性を示す分布情報を生成する(S44)。 - 特許庁
  • By using a control server computer 7 at this time to automatically compute a combination of the impressed voltage and the quantity of flow on the basis of a prescribed pattern table according to a measurement value of the ammeter 10 and creating optimum measuring conditions, it is possible to highly accurately measure the wide-range grain diameter distribution of the ion clusters in the atmosphere.
    このときコントロールサーバコンピュータ7を用いて、印加電圧と流量の組み合わせを電流計10の測定値に応じた一定のパターンテーブルに基づいて自動的に演算し、最適な測定条件を生成する事により、大気中のイオンクラスタの広範囲な粒径分布を高精度に測定することができる。 - 特許庁
  • Since white streaks caused by "end kink" in the first recording element array C1 can be interpolated by the recording elements of the second recording element array SC2, streaks caused by "end kink" can be corrected effectively even if the recording rate distribution of mask pattern in multipass recording is not biased.
    これにより、第1の記録素子列C1で生じる「端部よれ」に起因する白スジを、第2の記録素子列SC2の記録素子によって補間することができるので、マルチパス記録のマスクパターンの記録率分布に偏りを持たせなくとも、「端部よれ」に起因する白スジを効果的に補正することが可能となる。 - 特許庁
  • By laminating and arranging an iris diaphragm mechanism constituted of a plurality of diaphragm blades and the ND filter having a multistage density pattern in one unit, the consecutive control of the f-number, the multistage control of a dimming rate by the ND filter, a nearly circular diaphragm aperture and the uniformity of transmittance distribution in the diaphragm aperture are simultaneously realized.
    複数の絞り羽根で構成される虹彩絞り機構と、多段階濃度パターンを有したNDフィルタを1ユニット内に積層配置し、Fナンバの連続制御、NDフィルタによる減光率の多段階制御、略円形の絞り開口、絞り開口内の透過率分布一様性を同時に実現した。 - 特許庁
  • To provide a vehicular head light configured to form a predetermined light distribution pattern having a cutoff line on its upper edge by the light irradiation from a plurality of lighting fixture units, optical axes of which units are adapted to be collectively adjusted while the thickness reduction of the lighting fixtures are achieved without complicating the lighting fixture structure.
    複数の灯具ユニットからの光照射により、上端縁にカットオフラインを有する所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具の薄型化を図った上で、灯具構成を複雑化することなく、複数の灯具ユニットの光軸調整を一括して行えるようにする。 - 特許庁
  • This headlamp 10 for a vehicle includes a light source array 2 of arranging a plurality of light emitting elements 21, etc. in a plane shape, and a projection lens 3 for projecting the light emitted from the light source array 2 on the vehicle front, and a light distribution pattern of illuminating individual areas by the light emitting elements 21, etc. is formed in front of the vehicle.
    車両用前照灯10は、複数の発光素子21,…が平面状に配列された光源アレイ2と、光源アレイ2から出射された光を車両前方に投影する投影レンズ3とを備え、発光素子21,…が個別の領域を照明してなる配光パターンを車両前方に形成する。 - 特許庁
  • The crystallization apparatus producing a crystalline semiconductor film is equipped with a lighting optical system (2) which illuminates a phase-shifting mask (1), and irradiates an amorphous semiconductor film (4) with light having a light intensity distribution of an inverted peak pattern showing that it is reduced to a minimum intensity at a point corresponding to the phase-shifting part of the phase-shifting mask (1).
    位相シフトマスク(1)を照明する照明光学系(2)を備え、位相シフトマスクの位相シフト部に対応する点において光強度の最も小さい逆ピークパターンの光強度分布を有する光を非晶質半導体膜(4)に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁
  • To provide a fine vehicular lighting fixture structured so as to form a prescribed light distribution pattern by light radiation from a lighting fixture unit having a semiconductor light emitting element as a light source, and so as not to produce glare even if its surface shape goes around toward the rear side of a vehicle.
    半導体発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、所定の配光パターンを形成するように構成された車両用灯具において、その表面形状が後方へ回り込んでいる場合においても、グレアを生じることがない良好な車両用灯具を提供する。 - 特許庁
  • Thermal distribution 11 corresponding to a desirable pattern is given to a raw material substrate 10, which is formed by adding a second material composed of a catalyst metal such as iron (Fe) in a first material formed of a semiconductor of silicon (Si) with radiation of the energy beam 12 using a diffraction grating 13 to melt a surface of the raw material substrate.
    シリコン(Si)などの半導体からなる第1の物質中に、鉄(Fe)などの触媒金属からなる第2の物質が添加された素材基板10に対して、回折格子13を用いたエネルギービーム12の照射により所望のパターンに応じた熱分布11を与え、素材基板10の表面を溶融させる。 - 特許庁
  • The first reflection layer 32 and the second reflection layer 34 are formed by vacuum vapor deposition or sputtering, the light made incident from the translucent window 31 repeats total reflection on the first reflection layer 32, the second reflection layer 34 and the total reflection surface, illumination distribution is equalized and the light is emitted from the translucent pattern 33.
    第1反射層32及び第2反射層34は真空蒸着あるいはスパッタによって成膜され、前記透光窓31から入射した光が、第1反射層32、第2反射層34及び全反射面で全反射を繰り返し、照度分布が均一化されて透光パターン33より出射される。 - 特許庁
  • A signal processor 12 normalizes a strength distribution of measured three-kinds of image signals, calculates a change polarity and a change amount of light intensity signals of different polarized lights of a flaw to a normal part, compares the calculated change polarity and change amount respectively with a preliminarily set pattern, thereby discriminating types of flaws.
    信号処理部12は測定した3種類の画像信号の強度分布を正規化し、正常部に対する疵部の異なる偏光の光強度信号の変化極性と変化量とを算出し、算出した変化極性と変化量とをそれぞれあらかじめ定めたパタ−ンと比較して疵種を判定する。 - 特許庁
  • The headlight device control ECU 40 reduces the illuminance of the light distribution pattern for high beam by controlling the lighting fixture 20H for high beam when the present area of a forward road detected by the navigation system 144 includes an undectable area deviated from the detection area of the vehicle detector 150.
    前照灯装置制御ECU40は、ナビゲーションシステム144によって検出された前方の道路の存在領域が車両検出装置150の検出範囲から外れる検出不能領域を含むときは、ハイビーム用灯具20Hを制御してハイビーム用配光パターンの照度を低減せしめる。 - 特許庁
  • To provide a resin having a uniform composition distribution, to provide a production method for supplying the same in excellent reproducibility, to provide a positive type photosensitive composition having an improved resist performance (LER (line edge roughness), further exposure latitude) by a positive type photosensitive composition containing the resin and to provide a method for forming a pattern, using the same.
    組成分布が均一な樹脂、およびそれをを再現性良く供給できる製造方法を提供し、さらに、それを含有するポジ型感光性組成物によってレジスト性能(LER(ラインエッジラフネス)・露光ラチチュード)が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To facilitate vapor deposition for forming a main reflection face, to reduce the thickness of a module as a whole, to secure an expanded light emission area per an LED, and to effectively use light in the acquisition of a desired light distribution pattern as vehicle signal light.
    主反射面を形成するための蒸着が容易であると共に、モジュール全体の薄型化が可能であるばかりでなく、LEDの1個当たりの拡大した発光面積を確保することができると共に、車両信号灯としての所望の配光パターンを得るときの光の有効利用をも図ることができること。 - 特許庁
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