「Distribution Pattern」を含む例文一覧(1621)
＜前へ 1 2 .... 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 次へ＞- An information aquiring system for fetching information on the shape, pattern, temperature distribution, etc., of an object from the object is provided with a sensor 14 for detecting a relative positional relation with the object and a setting supporting means 20 for guiding setting of a fetching object range in accordance with the output D2 of the sensor 14.
対象物からそれがもつ形状、模様、温度分布などの情報を取り込む情報取得システムにおいて、対象物との相対位置関係を検出するセンサ１４と、センサ１４の出力Ｄ２に応じて取込み対象範囲の設定を案内する設定支援手段２０とを設ける。 - 特許庁 - The crystallization apparatus forming the crystalline semiconductor film is equipped with a lighting system (2) which illuminates a phase-shifting mask (1), and irradiates an amorphous semiconductor film (4) with light having a light intensity distribution of an inverted peak pattern showing that light is reduced to a minimum in intensity at a point corresponding to the phase shifting part of the phase-shifting mask.
位相シフトマスク（１）を照明する照明系（２）を備え、位相シフトマスクの位相シフト部に対応する点において光強度の最も小さい逆ピークパターンの光強度分布を有する光を非晶質半導体膜（４）に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁 - To enhance uniformity of film thickness distribution on a plurality of substrate faces in a vacuum vapor-deposition method in which an organic electroluminescent element is fabricated by using a mask for vapor-depositing the substrate and pixel pattern, and using a mask holder and a vapor deposition source provided with alignment mechanism in order to carry out positioning of the substrates and the masks.
基板と画素パターンを蒸着するためのマスクと、基板とマスクの位置合わせをするためのアライメント機構を備えたマスクホルダと蒸着源とを用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する真空蒸着方法において、複数個の基板面内上での膜厚分布均一性を高める。 - 特許庁 - Thereby, a low beam light distribution pattern P is formed such that a horizontal cutoff line CL1 on the oncoming lane side formed by reflected light from its own lane side reflective area 20aR is lowered relatively to a horizontal cutoff line CL2 on its own lane side formed by reflected light from an oncoming lane reflective area 20aL.
これにより、対向車線反射領域２０ａＬからの反射光により形成される自車線側の水平カットオフラインＣＬ２に対して、自車線側反射領域２０ａＲからの反射光により形成される対向車線側の水平カットオフラインＣＬ１が段下がりとなったロービーム配光パターンＰを得る。 - 特許庁 - Each corner part of a rectangular chip resistor 11(R), and a pair of electrodes 12a and 12b provided at the opposite ends on the lower surface of the rectangular chip resistor 11(R) is rounded so that current distribution becomes uniform at the joint of a pattern forming a current path and the resistor 10.
抵抗器１０を構成する角形チップ抵抗体１１（Ｒ）、および抵抗体１１（Ｒ）の下面両端に設けられた一対の電極１２ａ，１２ｂの各角部をそれぞれＲ面取りして、電流路を形成するパターンと抵抗器との接合部に於ける電流分布が一様になるようにした。 - 特許庁 - In an encoder, pattern strings of a scale 20 are periodically aligned in a Y direction perpendicular to an X direction and comprises a plurality of areas 23A, 25A having pitches different from each other in the X direction, such that an energy distribution amplitude of the area 25A changes in accordance with a position of the scale in the X direction.
エンコーダにおいて、スケール２０のパターン列はＸ方向に垂直なＹ方向に周期的に配列され、Ｘ方向にそれぞれ異なるピッチを有する複数の領域２３Ａ、２５Ａを有し、領域２５Ａのエネルギー分布の振幅がスケールのＸ方向の位置に従って変化するように構成されている。 - 特許庁 - To easily and effectively suppress failures, such as transfer dust, dot image reproduction failure, toner scattering, and reverse transfer of a previous process transfer toner to an image carrier, by preventing the transfer of the toner in slight gaps on upstream and downstream of a transfer nip at the time of transfer without depending on a surface potential distribution (toner sensible image pattern) of an image carrier in developing.
転写時における転写ニップ上流、及び下流の微少空隙でのトナー転移を、現像時の像担持体の表面電位分布（トナー顕像パターン）によらず防止して、転写チリ、ドット画像再現不良、トナー飛散、前工程転写トナーの像担持体への逆転写等の不具合を容易、且つ効果的に抑制する。 - 特許庁 - When a ram 5U is lowered during the pressing operation, the ram is rapidly lowered at the approaching speed according to a pattern preset by an upper part table speed distribution unit 63, and a speed switching valve 45 is switched by the command from a speed switching command unit 65, and the ram is lowered at the pressing speed to perform the pressing.
プレス加工時にラム５Ｕを下降させる際に、上部テーブル速度分配処理部６３により予め設定されているパターンに従って接近速度で急速下降した後、速度切換え指令部６５からの指令により速度切換え弁４５を切り換えて加工速度でラムを下降させてプレス加工を行う。 - 特許庁 - The shade mechanism 29 is provided with a first movable shade 33 which moves between a shield position to form a cut-off line and a shield relaxation position and a second movable shade 37 which moves between an additional shield position which increases shielding volume more than the light distribution pattern which the first movable shade 33 forms at the shield position and a retreating position.
シェード機構２９は、カットオフラインを形成する遮蔽位置と遮蔽緩和位置との間を移動する第１可動シェード３３と、第１可動シェード３３が遮蔽位置において形成する配光パターンよりも遮蔽量を増加させる付加遮蔽位置と退避位置との間を移動する第２可動シェード３７と、を備える。 - 特許庁 - The aligner exposes a pattern formed in a negative plate on a substrate, such as a wafer and a plate, while irradiating the negative plate, such as a reticle and a mask via a lighting optical system by exposing light from an exposure light source, including at least respectively one air supply port and one exhaust port in the stage space so as to control air current distribution in the space.
露光光源からの露光光により照明光学系を介してレチクル、マスク等の原板を照明し、前記原板に形成されたパターンをウエハ、プレート等の基板上に露光する露光装置であって、ステージ空間に少なくとも１個づつの給気ポートと排気ポートを備え、その空間内の気流分布を制御する。 - 特許庁 - Temporary reading performed in advance of real reading determines a reading range at the real reading on the basis of a missing part that misses due to the shade of the original in a distribution pattern of reflectance formed in the pressing face 134 of the original 14 formed by the reflectance changing device 133.
本読み取りに先立って行われる仮読み取りにより、反射率変更装置１３３によって構成される原稿１４の押さえ面１３４に形成された反射率の分布パターンにおける原稿の陰になって欠落している欠落部分に基づいて、本読み取り時の読取範囲が決定される。 - 特許庁 - A reinforcing layer for a pneumatic tire is produced by drawing out a plurality of cords 52 for the reinforcing layer to arrange them in a desired distribution pattern and the cords are simultaneously coated with an unvulcanized rubber by an insulation system and the contour of the reinforcing layer to which coating is applied is molded into a desired shape.
本発明による空気入りタイヤ用補強層の製造方法は、複数本の補強層用コードを引き出し、これらのコードを所望の分布パターンに配列した後、インシュレーション方式により未加硫ゴムで同時にコーティングし、そのコーティングが施された補強層の外郭形状を所望の形状に成形するものである。 - 特許庁 - When a first semiconductor light-emitting element 4a of a first light source unit 3 is lit, the emission light is reflected toward a projection lens 2 side by a first reflector 5, then a part of the reflected light is blocked by a shade 6, and a low-beam light distribution pattern PL is formed having a cut-off line CL at an upper end edge.
第１光源ユニット３の第１半導体発光素子４ａを点灯すると、その出射光は第１リフレクタ５により投影レンズ２側に向けて反射され、その反射光の一部がシェード６により遮断されて、上端縁にカットオフラインＣＬを有するロービーム配光パターンＰＬが形成される。 - 特許庁 - At that time, in a first lighting mode, a specific light chip 12aB arranged to be aligned of its front end edge on a focusing line FL of the parabolic cylindrical surface, and a pair of specific chips on both right and left sides of the previous chip, are simultaneously lit, so that a landscape light distribution pattern with a narrow width of its upper and bottom parts is formed.
その際、第１の点灯モードでは、上記放物柱面の焦線ＦＬ上に前端縁を揃えるようにして配置された特定発光チップ１２ａＢおよびその左右両側の１対の特定発光チップを同時点灯させ、これにより上下幅が狭い横長の配光パターンを形成する。 - 特許庁 - This design support device 100 has a design pattern data input part 810, a process variation input part 820, a materialization value generation part 854 of process variation, a minimum interval calculation part 855, a cumulative distribution function decision part 856 of a dielectric breakdown time, and a materialization value generation part 857 of the dielectric breakdown time.
設計支援装置１００は、設計パターンデータ入力部８１０と、工程ばらつき入力部８２０と、工程ばらつきの実現値生成部８５４と、最小間隔算出部８５５と、絶縁破壊時間の累積分布関数確定部８５６と、絶縁破壊時間の実現値生成部８５７とを備えている。 - 特許庁 - In addition, the coating machine is provided with a speed distribution-adjusting means (13) which adjusts the distribution of shaping air jetting speeds, in accordance with a coating pattern to be formed, by changing the aperture shape of the outer lip (11) to partially change the aperture width of the circular slit (7).
回転霧化頭（５）が取り付けられた塗装機本体（２）の先端側に、回転霧化頭（５）の背面側からシェーピングエアを吹き出す環状スリット（７）が形成されて成り、その環状スリット（７）が環状のインナーリップ（１０）及びアウターリップ（１１）で形成され、アウターリップ（１１）の開口形状を変化させて環状スリット（７）の開口幅を部分的に変化させることにより、形成しようとする塗装パターンの形状に応じてシェーピングエアの吹出速度の分布を調整する速度分布調整手段（１３）を備えた。 - 特許庁 - In the luminance-uniformiazing sheet 1, a white diffusion layer 12 containing at least one kind of an ultraviolet absorbent from among cyanoacrylate base, oxalic acid anilide base, malonic ester base is formed in a pattern adjusted so as to equalize and emit an incident light having nonuniformized luminance distribution, on at least one surface of a translucent substrate 11.
透光性基材１１の少なくとも片面に、不均一な輝度分布を有する入射光を均斉化して出射できるよう調整されたパターン状に、シアノアクリレート系、蓚酸アニリド系、マロン酸エステル系の内、少なくとも１種の紫外線吸収剤を含む白色拡散層１２が形成されていることを特徴とする輝度均斉化シート１である。 - 特許庁 - To provide a method for producing a metal nanoparticle in a high yield through a simple heat-treatment of a metal alkanoate, which is environmentally friendly because it does not use any other solvent or additive and is economical because it does not require any expensive equipment, and to provide the metal nanoparticle having a uniform pattern and particle distribution and a conductive ink excellent in electrical conductivity.
金属アルカノアートを簡単な熱処理によって高い収率を有し、別途の溶媒や添加剤を使用しないので親環境的であり、高価の装備を要しないので経済的である金属ナノ粒子の製造方法と、均一な模様及び粒子分布を有する金属ナノ粒子及び優れた電気伝導度を有する導電性インクを提供する。 - 特許庁 - This coating device that covers the coating formation parts of an optical fiber or optical part or the like with UV-curing resin is characterized in that UV light sources 12a and 12b which irradiate uncured UV-curing resin covering above mentioned coating formation parts with ultraviolet whose intensity varies from their position, having inclined distribution pattern, are provided.
光ファイバや光部品などの被覆形成部をＵＶ硬化樹脂にて覆って被覆する被覆装置において、光ファイバや光部品などの被覆形成部を覆う未硬化のＵＶ硬化樹脂に、位置により受ける紫外線強度が漸次異なるよう傾斜分布パターンを呈する紫外線を照射するＵＶ光源12a,12bを設けたことを特徴とする。 - 特許庁 - A sample is irradiated simultaneously with two X-rays X1, X2 by an X-ray source 2, and one-time scanning is executed for detecting simultaneously photo-electron spectrums of two photo-electrons E1, E2 emitted from the sample by an energy analyzer 3 over a prescribed solid angle spread from the irradiation spot, to thereby acquire a photo-electron intensity distribution pattern.
Ｘ線源２により２つのＸ線Ｘ１，Ｘ２を試料に同時照射し、この試料から放出された２つの光電子Ｅ１，Ｅ２の光電子スペクトルを、エネルギー分析器３によりこの照射スポットから張った所定立体角にわたって同時検出する走査を１回実行して光電子強度分布パターンを取得する。 - 特許庁 - The phase diffraction optical device has random phase distribution, in which a large number of unit patterns having different phase modulation functions are arranged with each unit pattern, consisting of recesses and projections having a period shorter than the wavelength of the light to be used, and different phase modulation functions in the unit patterns are obtained, by varying the width ratio of the recesses and projections in the recessed and projected part.
異なる位相変調能を有する単位パターンを多数配置したランダムな位相分布を有し、各単位パターンは、使用光の波長以下の周期をもった凹凸部により構成され、凹凸部における凹部と凸部の幅の比の相違により単位パターン間の位相変調能が異なったものとされている位相型回折光学素子。 - 特許庁 - The vehicle headlamp is provided with: a second reflecting surface 16 which reflects the light L2 shielded by a shade 5 in a prescribed direction when light from a discharge lamp 2 is reflected by a first reflecting surface 9; and a third reflecting surface 17 which reflects the reflection light L3 from the second reflecting surface 16 to the front of the vehicle as an additional light distribution pattern SP, WP.
この発明は、放電灯２からの光のうち第１反射面９で反射された場合シェード５により遮られる光Ｌ２を所定方向に反射させる第２反射面１６と、その第２反射面１６からの反射光Ｌ３を付加配光パターンＳＰ、ＷＰとして車両の前方に反射させる第３反射面１７と、を備える。 - 特許庁 - In a method for exposure comprising the steps of illuminating a reticle Ri and a substrate 4 with slit-like illumination light IL while synchronously moving the reticle Ri and the substrate 4, and sequentially transferring an image of a pattern formed at the reticle Ri onto the substrate 4, a density filter Fj having an attenuator for gradually reducing the illuminance distribution of the light IL is moved in synchronization with the movement of the reticle Ri.
レチクルＲｉと基板４とを同期して移動しつつスリット状の照明光ＩＬで照射してレチクルＲｉに形成されたパターンの像を基板４上に逐次転写する露光方法において、レチクルＲｉの移動に同期して、照明光ＩＬの照度分布を除々に減少させる減衰部を有する濃度フィルタＦｊを移動する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, satisfactory line width roughness and satisfactory density distribution dependency in microfabrication of a semiconductor element using actinic rays or radiation, particularly KrF excimer laser light, electron beams or EUV light, and a pattern forming method using the same.
活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - The micro-structures (56) are designed to homogenize light which emits the monolithic optical element (50) via the macro-optical characteristic (54) by diffusion and to direct the light so that a predetermined light distribution pattern, wherein the intensity smoothly and continuously varies, is formed by substantially the entire optical output of the monolithic optical element (50).
微小構造（５６）は、マクロ光学的特徴（５４）を介してモノリシック光学要素（５０）を出射する光を拡散によって均質化するとともに、モノリシック光学要素（５０）の光出力のほぼ全体によって、その強度が滑らかに連続的に変化する所定の光分布パターンが形成されるように方向付けるよう適合されている。 - 特許庁 - A distribution shape pattern is divided into a plurality of rectangular sections in the form of a grid for a plane of defined analysis target data, and a density value capable of taking a multiple value in a certain numeral range is defined for each of the rectangular sections so that the density value indicates a relative magnitude relationship to characteristic values of the analysis target data (step S101).
分布形状パターンを、解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、各矩形領域毎に、解析対象データの特性値の相対的な大小関係を表すように或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義する（Ｓ１０１）。 - 特許庁 - By this method, AC voltage electrification based upon a specific electrification pattern is repeated in steps and the water tree generation type of the cable insulator is evaluated by using a distribution of residual electric charge quantities measured in the steps of the AC voltage electrification.
ＣＶケーブルに直流電圧を課電した後に接地し、その後に交流電圧を課電して残留電荷を測定する方法において、所定の課電パターンからなる交流電圧課電をステップ状に複数回行い、各ステップの交流電圧課電時に測定される残留電荷量の分布からケーブル絶縁体の水トリー発生態様を評価することを特徴とする。 - 特許庁 - The frame body 52 is so structured that a first surface 56a on which an image by dispersed reflection light at light irradiation is projected further upward than a cutoff line of the low-beam light distribution pattern has a lower reflection rate than that of a second surface 52b on which an image by dispersed reflection light at light irradiation is projected further downward than the cutoff line.
枠体５２は、光が照射されたときの拡散反射光による像がロービーム用配光パターンのカットオフラインより上方に投影される第１表面５６ａが、光が照射されたときの拡散反射光による像がカットオフラインより下方に投影される第２表面５２ｂよりも反射率が低くなるよう設けられている。 - 特許庁 - This vehicular lighting fixture system 100 includes a vehicular lighting fixture 70 capable of forming the light distribution pattern for a high beam divided into a plurality of irradiation areas in the vehicle width direction and switching the existence of irradiation of respective irradiation areas, and a control part for controlling the vehicular lighting fixture based on information for indicating a vehicle front state.
車両用灯具システム１００は、車幅方向で複数の照射領域に分割されそれぞれの照射領域の照射の有無が切り替えられるハイビーム用配光パターンを形成可能な車両用灯具７０と、車両前方状況を示す情報に基づいて車両用灯具を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁 - To provide a vehicular headlamp configured to form a predetermined light distribution pattern having a cut-off line at an upper end edge by light irradiation from a plurality of lamp units, wherein the vehicular headlamp is improved in that a lamp is made thinner, and the plurality of lamp units are adjusted in their optical axes altogether without making the structure of the lamp complicated.
複数の灯具ユニットからの光照射により、上端縁にカットオフラインを有する所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具の薄型化を図った上で、灯具構成を複雑化することなく、複数の灯具ユニットの光軸調整を一括して行えるようにする。 - 特許庁 - To provide a vehicular headlight which has favorable visibility for a driver while there is no glare for an oncoming vehicle driver, is thin in thickness and small in size, and has superior design performance in which a low beam light distribution pattern is formed of a low beam light source unit constituted of a plurality of projector type optical units.
複数の投影型光学ユニットで構成されたすれ違いビーム用光源ユニットによりすれ違いビーム用配光パターンが形成される車両用前照灯において、運転者にとって視認性が良好で対向車にとって眩惑がなく、且つ薄型小型で意匠性に優れた車両用前照灯を提供することにある。 - 特許庁 - In this state, data information is retained according to the space intensity distribution as the signal light 5 of P polarization, one without including the alignment pattern is obtained, and a second hologram is recorded by making multiplex the second hologram onto the first hologram in a region where the first hologram of the optical storage medium 10 is recorded by the reference light 6 of S polarization.
この状態で、Ｐ偏光の信号光５として、空間強度分布によりデータ情報を保持し、かつ位置合わせ用パターンを含まないものを得て、Ｓ偏光の参照光６によって、光記録媒体１０の第１のホログラムが記録されている領域中に第１のホログラムに多重させて第２のホログラムを記録する。 - 特許庁 - The vehicle light includes a first lens being a convex lens arranged on an optical axis and a planar light source arranged in the vicinity of a rear side focal point of the first lens, and forms a first light distribution pattern having a horizontal and a slanted cut-off lines at the top end part on the irradiation surface by deflection controlling the direct light from the planar light source by the convex lens.
車両用灯具は、光軸上に配置された凸レンズである第１レンズと、第１レンズの後側焦点近傍に配置された面状光源とを備え、面状光源からの直射光を凸レンズで偏向制御することにより、照射面上で上端部に水平および斜めカットオフラインを有する第１配光パターンを形成する。 - 特許庁 - To enable to form a slanted cutoff line without the use of a shade even if an edge of a light source is extended in a horizontal direction, for a lighting lamp fitting for a vehicle structured so as to form a light distribution pattern having a cutoff line at an upper end by sequentially reflecting light of the light source having the linearly extended edge with a first and a second reflectors.
直線状に延びるエッジを有する光源からの光を、第１および第２リフレクタで順次反射させることにより、上端部にカットオフラインを有する配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、シェードを用いることなく、かつ、上記エッジが水平方向に延びていても、斜めカットオフラインを形成可能とする。 - 特許庁 - To provide a heat pump water heater and a refrigerating apparatus, capable of improving heat exchange efficiency by setting a path pattern of an air heat exchanger which can be determined without examining wind speed distribution precisely when adopting a configuration in which an obstacle to air passing through the air heat exchanger is installed on the blowout side of the air heat exchanger.
空気熱交換器の吹出側に空気熱交換器を通過する空気に対して障害物となるものを設置する構成とした場合に、風速分布を詳細に調べることなく、決めることが可能な空気熱交換器のパスパターンを設定して、熱交換効率を向上させることを可能にしたヒートポンプ給湯機及び冷凍機器を提供する。 - 特許庁 - To provide a ceramic heater, capable of preventing generation of breakages or disconnections in a resistance heating element, suitably applying to temperature control of two or more circuits formed by dividing the resistance heating element, preventing the occurrence of temperature distribution similar to a resistance-heating element pattern on the heating surface of a semiconductor wafer, and ensuring the temperature uniformity on the heating surface of the semiconductor wafer.
抵抗発熱体に欠けや断線等が発生することがなく、抵抗発熱体を２以上の回路に分割した温度制御に適しており、半導体ウエハ加熱面において、抵抗発熱体パターンに近似した温度分布が発生せず、半導体ウエハ加熱面の温度均一性を確保することができるセラミックヒータを提供すること。 - 特許庁 - The distribution shape pattern is defined by demarcating the plane corresponding to an analyzing target data decided plane into a plurality of rectangular regions in a lattice like state and imparting a density value for acquiring a multivalue in a certain numerical value range so as to show the relative magnitude relation of the characteristic value of the analyzing target data (S101).
分布形状パターンを、解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、上記解析対象データの特性値の相対的な大小関係を表すように或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義する（Ｓ１０１）。 - 特許庁 - This vehicular headlamp is structured to form the light distribution pattern having the horizontal cutoff line by a first light source 16 comprising a light emitting diode, wherein a rectangular light emitting chip 22 is covered with a hemispherical mold lens 24, and the first catoptric system 20 provided with a first reflector 18 to reflect light toward the front of a lamp from the first light source 16.
矩形状の発光チップ２２が半球状のモールドレンズ２４で覆われてなる発光ダイオードからなる第１光源１６と、この第１光源１６からの光を灯具前方へ向けて反射させる第１リフレクタ１８とを備えてなる第１反射光学系２０により、水平カットオフラインを有する配光パターンを形成する構成とする。 - 特許庁 - The vehicle headlamp 1 forms a desired low-beam light distribution pattern by a condensing lamp unit 20 and a diffusion lamp unit 30 which have respectively semiconductor light-emitting elements 22, 32 with rectangular light-emitting faces 22a, 32a and projection lenses 21, 31 for projecting light emitted from the semiconductor light-emitting elements 22, 32 to the front of the lamp.
車両用前照灯１は、長方形の発光面２２ａ，３２ａを有する半導体発光素子２２，３２と、半導体発光素子２２，３２からの出射光を灯具前方へ投影する投影レンズ２１，３１とをそれぞれ備えた集光用灯具ユニット２０及び拡散用灯具ユニット３０によって所望のすれ違い用配光パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor light emitting device using nitride based III-V compound semiconductors, which has longer operating life by making the crystallinity of a optical wave guide to be good, and particularly, in a semiconductor laser, has a high symmetry of light intensity distribution in a far field pattern and a reduced aspect ratio of a radiation angle, and to provide its manufacturing method.
光導波層の結晶性を良好とすることができることにより長寿命で、しかも特に半導体レーザでは遠視野像における光強度分布の対称性が高く、放射角のアスペクト比の低減を図ることができる、窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体を用いた半導体発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - In an optical system for forming a rectangular beam spot, an optical system that unifies longitudinal or lateral energy distribution of a rectangular beam spot on an irradiated surface is replaced by an optical element having a curved surface pattern on an injection side face of a laser beam and two reflective faces opposed to each other.
本発明は、長方形状のビームスポットの形成用光学系において、被照射面における長方形状のビームスポットの長辺方向または短辺方向のエネルギー分布を均一化する光学系を、レーザビームの入射側面に曲面形状を有し、かつ向かい合う二つの反射面を有する光学素子に置き換えるものである。 - 特許庁 - A solution passage formed by engraving one groove in a glass substrate is made to overlap on a microarray electrode prepared on another glass substrate, a high-frequency voltage is impressed on the microarray electrode, then a distribution agent fine particle solution is introduced from a solution passage inlet, and the fine particles are thereby arrayed on the electrode according to an electrode pattern to be immobilized.
ガラス基板に作成したマイクロアレイ電極上に、他のガラス基板に一本の溝を彫ることによって形成した溶液通路を重ね合わせ、該マイクロアレイ電極に高周波電圧を印加し、溶液通路入口から分配剤微粒子溶液を導入すると、微粒子は電極パターンに従って電極上に配列・固定される。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.
２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - It is possible to obtain an epi-illumination function for generating an epi-illumination image indicating a reflected state in the tape 10 and a transmission light illumination function for generating a transmission illumination image indicating transparency distribution in the tape 10 only with one lighting system 4, thus simultaneously acquiring the epi-illumination and transmission illumination images related to one pattern to be inspected.
テープ１０における反射状態を表す落射照明イメージを生成するための落射光照明の機能と、テープ１０における透明度の分布を表す透過照明イメージを生成するための透過光照明の機能とが、１つの照明装置４だけで得られるので、１つの被検査パターンに関する落射照明イメージ及び透過照明イメージが同時に取得できる。 - 特許庁 - By such a structure, the deflecting condition of the ultraviolet irradiating the farm field 3 is maintained in the vicinity of the transmission through the covering film 4 to attain light distribution equal to a light deflection pattern in an airy region in the farm field 3, and thereby the pollinating insects 2 make accurate recognition of the direction so as to exactly fly toward farm crops 31 or nest boxes 32 placed in the farm field 3.
これにより、圃場３に照射される紫外線の偏光状態を被覆フィルム４の透過前後で維持することができ、圃場３内において天空の偏光パターンと同等の配光状態を実現でき、受粉用昆虫２が方向認識を的確に行い、圃場３内にある農作物３１や巣箱３２に向かって正確に飛翔できる。 - 特許庁 - A supervisory control CPU chooses an advance notice performance distribution table TG in which a mobile body advance notice is not set as a performance, in deciding on the advance notice performance when a loss performance variation pattern P4 made up of two variation cycles is chosen on the basis of start reservation balls after the mobile body advance notice is made during a preceding symbol variation game.
統括制御用ＣＰＵは、前回の図柄変動ゲーム中に可動体予告が実行された後、始動保留球に基づいて２回の変動サイクルからなるはずれ演出用の変動パターンＰ４が選択された場合には、予告演出の内容を決定する際、演出内容として可動体予告が設定されていない予告演出振分けテーブルＴＧを選択する。 - 特許庁 - The second lighting fixture unit 20B is provided with a second projection lens 34 which has a focusing distance more backward and a diameter smaller than the first projection lens 24 and a second reflector 36 converging and reflecting the light from a second semiconductor light emitting element 32 having the same structure as the first semiconductor light emitting element 22, and a second shade 31 forming a cut-off line of the light distribution pattern.
第２の灯具ユニット２０Ｂは、第１投影レンズ２４よりも後方焦点距離及びレンズ径が小さい第２投影レンズ３４と、第１半導体発光素子２２と同じ構成の第２半導体発光素子３２からの光を前方に向けて集光反射させる第２リフレクタ３６と、配光パターンのカットオフラインを形成する第２シェード３１と、を備える。 - 特許庁 - To raise an arranging degree of freedom of the additional lighting fixture in a vehicular headlight equipped with an elementary lighting fixture capable of forming a light distribution pattern for low beam and an additional lighting fixture capable of temporarily lighting while the elementary lighting fixture is lighted, and to carry out the light irradiation in quick response to the travelling condition of the vehicle while sufficiently securing the life of a light source.
ロービーム用配光パターンを形成可能な基本灯具ユニットと、この基本灯具ユニットの点灯中に一時的に点灯可能な付加灯具ユニットとを備えてなる車両用前照灯において、付加灯具ユニットの配置自由度を高めるとともに、その光源の寿命を十分に確保した上で、車両走行状況に即応した光照射を行えるようにする。 - 特許庁 - In the transfer step, ferroelectric films 24b respectively formed by parts of the ferroelectric layer 124c are transferred by irradiating the second substrate 40 with the laser beam LB of a light intensity distribution PI which is set to transfer only a part corresponding to a predetermined pattern of the ferroelectric films 24b in the ferroelectric layer 124c from the other surface side thereof.
転写工程では、強誘電体層１２４ｃのうち強誘電体膜２４ｂの所定パターンに対応する部分のみを転写するように設定した光強度分布ＰＩのレーザ光ＬＢを第２の基板４０の上記他表面側から照射することにより、それぞれ強誘電体層１２４ｃの一部からなる強誘電体膜２４ｂを転写する。 - 特許庁 - Roll coating work is performed by supplying the heated and melted hot-melt adhesive in the pre-determined pattern distribution to the surface of the transfer roll B from the supply device 1 of the device body, moving the transfer roll B of the transfer tool 2 to a contact position of a substrate to be coated and transferring the melted hot-melt adhesive which is adhered to the surface of the transfer roll B to the substrate surface.
装置本体の供給装置１より、前記転写ロールＢの表面に、所定のパターン分布で加熱溶融ホットメルト接着剤を供給したのち、転写用具２の転写ロールＢを、塗布すべき基材と接触する位置へ移動させ、転写ロールＢの表面に付着している溶融ホットメルト接着剤を基材表面に転写して、ロール塗布作業を行う。 - 特許庁
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