「Due Process」を含む例文一覧(2146)
＜前へ 1 2 .... 7 8 9 10 11 12 13 14 15 .... 42 43 次へ＞- To provide a manufacturing method of a resistance element for preventing the resistance element whose resistance value has been adjusted by trimming incorporated in a substrate from varying by heating due to reflow caused by the lamination process of a multilayer interconnection board and the packaging of packaging components in a later process.
基板内に内蔵した抵抗素子は、トリミングによって抵抗値を調整したにも係わらず、多層配線基板の積層工程や実装部品の実装時にかかるリフローによる加熱によって変動してしまう。 - 特許庁 - To provide a process cartridge free from abnormality such as crack due to the press-insertion of a connection pin into a 1st housing and a 2nd housing, and also, which can be easily recycled, and to provide a method for assembling/disassembling the process cartridge.
第１筐体及び第２筐体に結合ピンを圧入することによるクラックなどの異常が発生することがなく、またリサイクルを容易とする構造のプロセスカートリッジとその組立方法ならびに解体方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus, capable of solving adverse effects to image formation due to a difference of line speeds between new and old process cartridges, which are generated at the time of image formation, after substituting a process cartridge having a photoreceptor and an intermediate transfer body for an old one.
感光体及び中間転写体を有するプロセスカートリッジ交換後の画像形成の際に生じる、新旧プロセスカートリッジ間の線速の差異による画像形成の悪影響を解消する画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To suppress disconnections and short circuits caused by the depression of resin-bonded copper foil due to resin pieces or foreign matters produced in a process and left on the copper foil or steps produced by removed copper foil sections in a laser beam machining process.
工程中発生する樹脂付き銅箔上の樹脂残り、異物による銅箔の凹み、あるいは、レーザ加工のために除去した銅箔部に生じる段差により引き起こされる配線形成時の断線、ショートの抑止。 - 特許庁 - A detecting means 12b detects operation data lost on the portable recording medium 31a due to its abnormal loading from the end of an exiting process to the end of an entering process.
そして、検出手段１２ｂが出庫処理終了から入庫処理終了までの間において、可搬型記録媒体３１ａの装着異常により可搬型記録媒体３１ａ上に発生した欠損運行データを検出する。 - 特許庁 - To solve the problem of prior arts of concern about deterioration in the image quality of a video signal due to two filter processes passing through the two filter processes or the like such as a post process of a video signal decoding apparatus and a preliminary process of a video signal coding apparatus.
従来は、映像復号化装置のポスト処理、および映像信号符号化装置のプリ処理といった２つのフィルタ処理等を通ることにより、これらの処理による映像信号の画質劣化が懸念される。 - 特許庁 - To reduce the loss of yield due to trimmed scraps while preventing troubles at the trimming in a succeeding process by setting the target width in width control in the hot rolling process with high accuracy by a simple method.
熱間圧延工程の板幅制御における目標板幅の設定を、簡易な方法により高精度に設定することにより、後工程におけるトリミング時のトラブルを防止しつつ、トリム屑による歩留りロスを低減する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a polarizing lens capable of preventing a decrease in a curvature radius of the polarizing lens obtained by insert-mold injection molding, due to a heating process after the injection molding process and having a favorable visibility.
インサートモールド射出成形によって得られる偏光レンズの曲率半径が、射出成形工程後の加熱工程により小さくなるのを防ぐことができ、視認性が良好な偏光レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a push button mounting structure that can prevent floating and slip of a push button with simple structure and can reduce labor cost based on the elimination of a working process in a line due to exclusion of a welding process.
簡単な構造で押しボタンの浮きと外れを防ぐことができ、溶着する工程を省くことができてラインにおいて一つの作業工程を減らすことができ、人件費を削減することができる押しボタン取付構造を提供する。 - 特許庁 - Since the antenna element (2) is cast by the casting mold, the antenna element (2) is hardly deformed and the electric characteristic is unchanged due to the shape change in the integral forming process or the covering assembling process, where the antenna element (2) is covered by an insulation cover (5).
また、アンテナエレメント（２）を鋳型で鋳造するので、変形しにくく、絶縁カバー（５）で覆う際の一体成形工程や覆い被せる組み立て工程において、形状変化によって電気特性が変化することがない。 - 特許庁 - To prevent toner-scattering in the case of detaching a process cartridge from an electrophotographic device main body, without the increase of a cost due to the installation of an additional member such as a sealing member, as for an electrophotographic device equipped with the process cartridge.
プロセスカートリッジを備える電子写真装置において、シール部材などの別途部材を設けてコスト高を招くようなことなく、プロセスカートリッジを電子写真装置本体から取り出すとき、トナー飛散を生じないようにする。 - 特許庁 - To provide an evaluation method of a silicon substrate where surface defect observation due to etching after device film peeling is facilitated, by creating a clear surface for observing crystal defects on a semiconductor substrate and surface defects due to a device process, and it can be made clear that defects on the surface are caused by crystal itself or stress and contamination due to the process.
半導体基板上の結晶欠陥やデバイスプロセス起因の表面欠陥を観察するための綺麗な表面を作成することによってデバイス膜剥離後のエッチングによる表面欠陥観察がし易くなり、表面にある欠陥が結晶起因の欠陥か、又はプロセス起因のストレスや汚染による欠陥なのかを明らかにすることができるようにしたシリコン基板の評価方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device which has no problem of defect due to that a capacitor hole does not open in a process for forming a capacitor and no problem of contact between adjacent lower electrodes due to loss of a beam.
キャパシタを形成する工程において、キャパシタ孔が開孔しないことに起因した不良の問題がなく、また、梁の消失に起因した隣接する下部電極同士の接触の問題がない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide freshness-keeping material enabling simultaneous and efficient prevention from withering due to transpiration of moisture from fruit and vegetable, or flowering plant in the process of storage after harvest and distribution, and afterripening/aging due to ethylene or acetaldehyde discharged from themselves.
収穫後の保存と流通過程における青果物又は花卉類からの水分の蒸散による萎れと、自らが排出するエチレンやアセトアルデヒドによる追熟・老化を同時に効率よく抑制できる鮮度保持材の提供を目的とする。 - 特許庁 - To provide a photomask without generating the problem due to static electricity in inspection by SEM and a correction process by FIB by avoiding the damage of a pattern due to static electricity or the like, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device using the photomask.
静電気等によるパターンの破損を回避できるとともに、ＳＥＭによる検査やＦＩＢによる修正プロセスで静電気による問題が発生することがないフォトマスク及びそのフォトマスクを使用した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To control variations in delay time due to a temperature dependence characteristic of resistors so as to prevent a delay circuit from being inoperable due to process variations in the resistors and to shift an output voltage from a correction circuit to a desired voltage at high speed when the standby state is released.
抵抗の温度依存特性による遅延時間のばらつきをコントロールし、抵抗のプロセスばらつきによって遅延回路が動作しないことを防ぎ、スタンバイ解除時に補正回路からの出力電圧を高速に所望の電圧に遷移させる。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus which can avoid deterioration in total productivity due to the period that it cannot perform general image formation due to separately carrying out of process control operation and cleaning member turn-over preventing and that increases that much.
プロセス制御動作と清掃部材のめくれ防止動作とが別々に実行されることにより、その分、一般の画像形成動作ができない時期が増えて全体の生産性が低下することを回避できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - Some specific examples of fair and equitable treatment are the obligation to take due care in protecting the investment assets of foreign investors, the due process obligation, prohibition of denial of justice, obligation not to frustrate the legitimate expectations of investors, etc.
公正衡平待遇の具体的な内容としては、外国投資家の投資財産を保護するに際し慎重な注意を払う義務、適正手続義務、裁判拒否の禁止、恣意的措置の禁止、投資家の正当な期待を裏切らない義務等が考えられる。 - 経済産業省 - To propose an ink-jet recording apparatus which prevents a time before printing is finished after a print command is received from being extended due to a recovery process for a recording head.
印刷指令を受けてから印刷が終了するまでの時間が記録ヘッドの回復処理によって延長されてしまうことのないインクジェット記録装置を提案すること。 - 特許庁 - In this case, it is preferable that a metal residual layer 4Aa is left in a bottom in order to suppress the occurrence of cracks due to bend of a substrate and is removed by etching process.
その際、基板の反りによるクラックの発生を抑制するため、底部に金属残層４Ａａを残し、この分をエッチング加工により除去するのが好ましい。 - 特許庁 - To reduce electrostatic destruction of an element in a device manufacturing stage and to prevent manufacturing yield from lowering due to process damage in a manufacturing stage of a polycrystalline silicon thin film transistor array.
デバイス作製工程中の帯電による素子の破壊を低減でき、多結晶シリコン薄膜トランジスタアレイの作製工程でのプロセスダメージによる歩留まりの低下を防止する。 - 特許庁 - To provide a carrying tray so constituted as to protect a distributing board mounting chips from jumping outside due to the operation during the carriage in an assembly process for a semiconductor device.
半導体装置の組立工程中にチップを搭載した配線基板が搬送中の動作によって外へ飛び出さないように構成した搬送用トレーを提供する。 - 特許庁 - By performing a DC component suppressing process after replacing with the secret information in the main information, the degradation of the DC component suppression characteristic due to the replacement can be prevented.
主情報への秘匿情報の置換処理後に直流成分抑圧処理を施すことで、置換処理による直流成分抑圧特性の劣化が防止できる。 - 特許庁 - To perform a correct grooving process by making a deviated tracing mark, which offsets from a scheduled tracing mark, of the tip part of a tool due to a distortion force, coincide with the scheduled tracing mark by a simple method.
歪み力に起因する工具先端部の、予定軌跡からオフセットした、偏軌跡を簡単な方法で予定軌跡に一致させ、溝加工を正確に行うこと。 - 特許庁 - To provide a plated film showing a golden appearance due to the surface plating layer of Sn, without using expensive Au and employing a complicated process containing the steps of applying a color paint or the like.
金色外観を示すめっき皮膜を、高価なＡｕを用いず、かつ有色塗料の塗布等の煩雑な工程を経ることなく、表層のＳｎめっき膜により得る。 - 特許庁 - To protect a memory cell from the application of a high voltage due to the charging of a word line even in a process after accumulating conductive layers for word line formation.
ワード線形成用の導電層を堆積した後の工程においても、ワード線の帯電による高電圧の印加からメモリセルを保護することができるようにする。 - 特許庁 - To accumulate proper data by excluding an error in extracted data and an error part of variance due to a wrong description in a text and an error in extracting process.
テキスト中の誤った記述や抽出処理の誤りに起因する抽出データ中の誤りやバラツキの誤り部分を排除して、適切なデータの集積を行なうこと。 - 特許庁 - To provide an electronic component mounting system and the method therefor which prevent mounting failures due to misalignment of printed solder in an electronic component mounting process.
電子部品実装時の半田印刷位置ずれに起因する実装不良を防止することができる電子部品実装システムおよび電子部品実装方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an ultra shallow junction surface of nano size capable of obtaining a control of preferable manufacturing process and a reliability of an element and inhibiting the defective due to implantation of an ion.
好ましい製造工程の制御と、素子の信頼性とが得られ、イオン打ち込みによる欠陥を抑制するナノサイズ極浅接合面の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a split type conjugate fiber which is split in an ordinary fabric production process due to excellent splittability and readily provides a fabric composed of an extra fine fiber.
分割性に優れているため一般的な布帛の製造工程で分割でき、容易に極細繊維からなる布帛を得ることができる分割型複合繊維を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device adopting a salicide process and suppressing the increase of current leakage generated due to a metal silicide layer.
サリサイドプロセスを採用した半導体装置において、金属シリサイド層に起因して生ずるリーク電流の増大を抑止することが可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a high frequency integrated circuit which is manufactured without a need for a complicated manufacturing process, reduces noise due to electromagnetic interference in the inside and is operated stably.
複雑は製造工程を要せずに製造でき、内部での電磁波干渉によるノイズが軽減され、安定に動作する高周波集積回路を提供すること。 - 特許庁 - To provide a production line capable of changing a desired layer at a low cost when coping with the change of a production process due to an increase or decrease in the number of products.
製品の生産台数の増減等による生産工程の変更に対応する際、安価で所望のレイアウトを変更できる生産ラインを提供すること。 - 特許庁 - To print both sides of a recording medium while restraining deterioration in the recording quality by blur and deterioration in the recording quality due to the converting process of recording data at a minimum level.
にじみによる記録品位の低下と記録データの変換処理による記録品位の低下を最小限に抑えて、記録媒体の両面に記録を行なうこと。 - 特許庁 - To provide an image processor capable of suppressing a memory capacity required for a trapping process, when a happening of missing image is prevented from occurring due to displacement of a print.
版ずれに起因する画像欠陥事象を抑制する場合に、トラッピング処理に必要なメモリ容量を抑制することのできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - To reduce the overlook of a common defect in a die comparison system and a post-process due to double counting of the defect existing in a reference image after inspection and realize an efficient inspection.
ダイ比較方式の共通欠陥の見逃し、及び参照画像に存在する欠陥のダブルカウントによる検査後処理を軽減し、効率的な検査を実現する。 - 特許庁 - To provide a system which enables products to be filtered over a long period of time without loosing a filtration capacity due to clogging or fouling and to provide an operation process for the same.
詰まりまたは汚損によって濾過能力が失われることなく、長時間にわたる製品の濾過を可能にするシステムとその運転プロセスを提供する。 - 特許庁 - To measure and process a large number of samples at once, to measure with proper precision, and to reduce cost to enable disposable use due to its simple constitution.
多数の試料を一度に計測処理できると共に測定精度が良く、単純な構成のために安価で使い捨てが可能となる表面プラズモン共鳴センサを提供する。 - 特許庁 - To provide a cleaning and coating apparatus which can prevent damages to a substrate to be treated due to vibration or warp, yet can efficiently process substrates to be processed continuously.
振動や反りによる被処理基板の破損が回避され、しかも被処理基板を連続的に効率よく処理することができる洗浄・塗布処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To prevent an air-fuel ratio from tending to be over rich due to delay in correction value updating process by O2 feedback when engine rotation speed rushes into an idling ranged rapidly.
エンジン回転数が急速にアイドリング領域に突入したときに、Ｏ２フィードバックによる補正値更新処理の遅れで空燃比がオーバーリッチ傾向になるのを防止する。 - 特許庁 - To provide a handheld electronic device that prevents data in process from being broken or lost, and to provide a method for protecting the handheld electronic device from shock due to falling.
処理中のデータが壊れたり消失されたりすることを防ぐ、手持ち式電子装置及び落下による衝撃から手持ち式電子装置を守る方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a gas barrier film which suppresses production of fine crystals of an inorganic component and thereby suppresses fall of gas barrier property due to its grain boundary in a process of inorganic film lamination onto a polymer film.
高分子フィルムへの無機膜積層過程において、無機成分の微結晶の生成、その粒界によるガスバリア性の低下を抑えたガスバリア性フィルムを提供する。 - 特許庁 - Consequently, fluidity of the magnetic admixture is enhanced, and a load can be reduced as applied to the magnetic core due to contraction incident to cooling process or curing reaction.
これによって磁性混和物の流動性を向上し、併せて冷却過程や硬化反応に伴って起こる体積の収縮による、磁気コアへの負荷を低減できる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device that is provided with an input buffer where malfunction due to fluctuations in a threshold voltage of an inverter caused by process variation or the like hardly takes place.
プロセスばらつきなどに起因するインバータのしきい値電圧の変動による誤動作が起こりにくい入力バッファを備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁 - The GaN semiconductor is capable of reducing defects due to the lattice constant difference via a blast process of a substrate and further, of suppressing the inner residual stress to a minimum, and the method is provided for manufacturing the same.
基板のブラスト工程を通じて格子定数差による欠陥を減らし、しかも内部残留応力を極力抑えられるＧａＮ半導体とその製造方法。 - 特許庁 - To avoid a drop in the overall operation efficiency of a process line due to a disposal operation of a scrap bag for storing sheared innermost turns of input coils as scraps.
せん断された入側コイルの最内巻き部をスクラップとして収容するスクラップバッグの廃棄作業に伴い、プロセスライン全体の操業効率が低下することを回避する。 - 特許庁 - To provide a method for designing a dummy pattern for preventing dishing and errosion phenomena due to the CMP process in an optimum density and arrangement.
ＣＭＰプロセスによって生じるディッシングおよびエロージョン現象を抑制するためのダミーパターンを最適密度かつ最適配置で形成するダミーパターン設計方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a packaging material having a pinhole resistance to prevent fluid content from deteriorating due to opening of a pinhole in a transfusion external packaging material in a transportation process.
輸送工程において輸液外装材にピンホールが開くことによる内容液の変質を防ぐことを目的とする耐ピンホール性を有する包装材料を提供すること。 - 特許庁 - To provide a piezoelectric element in which failure due to destruction of the surface of an actuator can be prevented without complicating the manufacturing process, and to provide a method of manufacturing the same.
製作工程を複雑化することなく、アクチュエータ表面の破壊による不良を防止することのできる圧電素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor optical integrated element using a simple and convenient manufacturing process, in which the effect due to oxidization and side etching of an Al-system semiconductor material is small, and combination efficiency is high.
Ａｌ系半導体材料の酸化とサイドエッチの影響が小さく、結合効率が高い半導体光集積素子を、簡便な作製プロセスで提供する。 - 特許庁
