「Due Process」を含む例文一覧(2146)
＜前へ 1 2 .... 11 12 13 14 15 16 17 18 19 .... 42 43 次へ＞- To provide a process cartridge preventing the occurrence of image failure due to lubricant particles in an image carrier, a contact electrifying means and the process cartridge in which a developing means provided with the lubricant particles between a developing material carrier and a developer restricting member is integrally incorporated.
像担持体、接触帯電手段、現像材担持体と現像剤規制部材の間に潤滑粒子を有する現像手段が一体に内包されたプロセスカートリッジにおいても、潤滑粒子起因の画像不良の発生を防止したプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁 - To precisely control the temperature of the molten steel which is accommodated in a ladle and is carried to the final process, so that the molten steel in the final process can precisely attain a required target temperature, by minimizing a prediction error for the temperature of the molten steel, which occurs due to the variation of a turnaround time for secondary refining treatment.
二次精錬処理における溶鋼温度の予測誤差を可及的に減じ、取鍋内に収容されて運搬される溶鋼の温度を正確に管理して、最終プロセスに要求される目標温度を高精度に実現できるようにする。 - 特許庁 - Therefore, the integration degree of a memory element can be increased, a manufacturing process can be simplified due to a simple structure of a memory cell, and current consumption in the memory element can be reduced by extending a refresh period.
よって、メモリ素子の集積度を高くし、メモリセルの構造が単純なために製造工程を単純化でき、リフレッシュ周期を延ばしてメモリ素子の電流消費を減らせる。 - 特許庁 - By containing a reduction metal at the positive electrode, the voltage of the battery immediately after assembling is reduced without a discharge process, and deterioration of battery characteristics due to heat treatment by a reflow soldering can be suppressed.
正極に還元性金属を含むことにより、放電処理なしに組立直後の電圧を下げ、リフローの熱処理による電池特性の劣化を押さえることが可能となった。 - 特許庁 - A mobile equipment 20, even if operation is started due to noises, interrupts wake code signal judging process within the period of burst signal transmission time t1, and then restarts receiving of burst signal.
携帯機器２０が、ノイズにより動作を開始しても、バースト信号送信時間ｔ１期間内にウェイクコード信号判定処理を一旦終了し、再度バースト信号受信を開始する。 - 特許庁 - To simplify manufacturing process of a connecting fastener, cleaning at a working site and to prevent damage to a floor plate due to working by maintaining straight advancing property of the fastener during driving the fastener.
ファスナーの打込時にファスナーの直進性を確保し、連結ファスナーの製造工程の簡略化と、施工現場での清掃の簡略化と、施工に伴う床板の損傷防止を図る。 - 特許庁 - To provide a developing device in which a variation in permeability sensor output (the detection error of the toner concentration of developer by a permeability sensor) due to a change in process linear velocity can be suppressed.
プロセス線速の変化に起因する透磁率センサ出力変動（透磁率センサによる現像剤のトナー濃度検知誤差）を抑えることが出来る現像装置を提供する。 - 特許庁 - When data equivalent to the prescribed logic block addresses can not be written due to the increase in defective physical blocks in the service life detecting process, it is judged that the service life of the nonvolatile memory has been detected.
この処理で、不良物理ブロックの増加によって、所定の論理ブロックアドレス分のデータを書き込むことが出来ない場合を不揮発性記憶装置の寿命として検出する。 - 特許庁 - Thus, the process of crystallization from a boundary face between the oxide film 102 and the stack electrode 100 can be restrained, and the decrease in an electrode surface area due to the HSG defective part can be made.
これにより、酸化膜１０２とスタック電極１００の境界面からの結晶化の進行を抑制し、ＨＳＧ不良部による電極表面積の減少が低減される。 - 特許庁 - To provide an electronic device in which connection failure due to the warp of a semiconductor device is prevented at the time of reflowing, and to provide a printed circuit board, a print mask and a process for manufacturing an electronic apparatus.
本発明は、リフロー時の半導体装置の山反りによる接続不良を防止する電子装置、プリント基板、印刷マスクおよび電子装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a highly reliable semiconductor device having resistance to external stress and electrostatic discharge while reducing thickness and size, or a semiconductor device for preventing defect in shape and characteristics due to external stress or electrostatic discharge in a manufacturing process, to manufacture a semiconductor device with a high yield.
薄型化及び小型化を達成しながら、外部ストレス、及び静電気放電に耐性を有する信頼性の高い半導体装置を提供することを目的の一とする。 - 特許庁 - To prevent warp and damage of a substrate due to internal stress of an insulation layer caused by annealing without increasing an additional step in a manufacturing process of a MEMS transducer.
ＭＥＭＳトランスデューサの製造工程において、アニール処理によって生じる絶縁層の内部応力による基板の反りや破損を、新たに工程を増やすことなく防止する。 - 特許庁 - The isolating material 90 is made of thermoplastic resin 91 molten and softened during a process of temperature rise due to heat generation caused by short circuiting outside the battery and releasing block of the hole part 42.
隔離材９０は、電池外部でのショートに起因した発熱による温度上昇過程で溶融軟化して、孔部４２の閉塞を解除する熱可塑性樹脂９１からなる。 - 特許庁 - To provide a light collecting device with a ventilating function wherein an insufficient quantity of light due to a light collecting body at the time when ventilating the air and energy loss by the reflector of a side wall in a light collecting process are improved.
採光過程での側壁の反射板によるエネルギーロスと集熱体による換気時の光量の不足を改善した換気機能付き採光装置を提供する。 - 特許庁 - To stabilize a characteristic of a driving TFT by preventing the diffusion of an Ag material due to heat generated in a manufacturing process or light emission, in an optical resonance type organic EL element.
光共振型有機ＥＬ素子において、製造プロセス中や発光中に生じる熱によるＡｇ材料の拡散を極力防止して、駆動用ＴＦＴの特性の安定化を図る。 - 特許庁 - To form an intermediate conductive layer using a simple process, to prevent displacement of the pattern due to accumulated charge when a pattern, is made on a resist film with an electron beam.
レジスト膜を電子ビームによりパターン描画する際に生じる電荷蓄積による描画の位置ずれを防止するための中間導電層の成形を、簡便な工程で実現する。 - 特許庁 - To prevent forming failures when an etching process with a groove and that with a connection hole are performed continuously to form the connection hole of a bow shape, due to the abrupt change in the etching area.
溝のエッチング加工とそれに続く接続孔のエッチング加工を連続して行うと、エッチング面積の急激な変化により、接続孔がボーイング形状に形成され、形状不良となる。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method whereby high-speed and high-quality image formation is carried out by reducing effects due to memory accessing that requires a high bandwidth generated in a process of image processing.
画像処理過程で生じる高いバンド幅が要求されるメモリアクセスによる影響を低減して、高速かつ高品位な画像形成を行なう装置や方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a control device for an electric power steering device, capable of carrying out a recovering process at occurrence of contact failure or other abnormality due to freezing or the like at a relay contact in a feeding circuit.
給電回路のリレー接点の氷結等による接触不良や異常が発生したときに回復処理を行うことができる電動パワーステアリング装置の制御装置を提供する。 - 特許庁 - To surely remove electrical noises due to the presence of an interface at which different conduction type layers are laminated on a cut surface of a rear surface irradiation type imaging element, by a simple process.
裏面照射型撮像素子の切断面に異なる導電型の層が積層された界面が存在することによる電気的なノイズを、簡易な工程で確実に除去する。 - 特許庁 - According to this constitution, a dynamic pressure fluctuating due to the circulating pump 4 is not put on the level sensor 21 in the water level checking process, and therefore detection of the water level can be executed accurately.
これにより、水位確認処理において、水位センサ２１に対して循環ポンプ４により変動する動圧が加担されなくなるので、水位検知が正確に行えるようになる。 - 特許庁 - To suppress curvature of a resin sealing portion and formation of a void etc., due to a decrease in pressure in a cavity in a manufacturing process of a resin sealed type semiconductor device and a resin sealing device.
樹脂封止型半導体装置の製造工程および樹脂封止装置において、キャビティ内の圧力低下に伴う樹脂封止部の反りやボイド等の発生を抑制する。 - 特許庁 - To provide a method of fabricating a photodiode for a CMOS image sensor, the method being able to prevent plasma damage causing dark current or heavy metal contamination due to a photoresist removal process.
暗電流の原因となるプラズマ損傷や感光膜除去工程による重金属汚染を防止することのできるＣＭＯＳイメージセンサのフォトダイオードの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a developing roller capable of suppressing a reduction in the conveying amount of developer due to change with lapse of time and preventing image unevenness, and to provide a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus.
経年変化による現像剤の搬送量の低下を抑制でき、画像のムラを防止できる現像ローラ、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To avoid increase in inter-gate capacity and to prevent a defect such as a junction leak due to a failure in etching an end of an L-shaped spacer in a silicide forming process for a fine transistor.
微細トランジスタのシリサイド形成工程において、ゲート間容量の増大がなく且つＬ字状スペーサの端部がエッチングされず接合リーク等の不良を防止できるようにする。 - 特許庁 - To sufficiently apply a highlighting process even if an image reproduction signal does not sufficiently include a high frequency component due to compressed image data recorded on a recording medium.
画像データが記録メディアにデータ圧縮されて記録されたことにより、画像再生信号が高周波数成分を十分に含んでいない場合でも十分に画像の強調処理を行う。 - 特許庁 - To provide a ring-type network system capable of promptly detecting abnormalities due to an erroneous setting or release of a blocking port using a simple process even immediately after a failure or recovery.
障害発生直後や復旧直後でも、閉塞ポートの誤設定や誤解除による異常を簡易な処理により迅速に検出することができるリング型ネットワークシステムを得ること。 - 特許庁 - To reduce a time lag of business processing due to the correction and retransmission of transmission data by enabling a receiving side to efficiently process the transmission data in EDI transmission at low cost.
ＥＤＩ伝送における伝送データを効率的かつ低コストで受信側が処理可能なものとし、伝送データの訂正や再送による業務処理のタイムラグを低減可能とする。 - 特許庁 - To provide a developing device capable of maintaining a good hopping state of toner in passage of time, accordingly, suppressing defective developing due to poor hopping of the toner, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge.
経時でトナーのホッピング状態を良好に保ち、トナーのホッピング不良に伴う現像不良を抑制できる現像装置、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁 - Geometrical variation and change in the phase change material composition otherwise to occur due to memory cell element separation during the dry etching process are reduced for the improvement of reliability in memory cell rewrite frequency.
その結果、ドライエッチングによるメモリセル素子の分離に起因した、形状ばらつきおよび相変化材料の組成変化が低減し、メモリセルの書き換え回数信頼性が向上する。 - 特許庁 - To provide a glass member with optical multilayer film capable of preventing the occurrence of film cracking and peeling upon the cutting or the like of an optical multilayer having a compression stress due to sputtering process or the like.
光学多層膜付きガラス部材において、スパッタリング法等による圧縮応力を有する光学多層膜の切断時等における膜クラックや膜剥がれの発生を抑制する。 - 特許庁 - Differently from a method removing an unnecessary part after forming a layer over the whole surface, no removal of an unnecessary part is required, and consequently, there is no possibility of short-circuit due to dust generated in the removal process.
また、全面に層形成後不要部位を除去する方法と異なり、不要部分の除去を行う必要がなく、この除去工程の発塵によるショートのおそれもない。 - 特許庁 - As a result, a process of temporary insertion can be eliminated, good efficiency is achieved, and occurrence of a defective product due to slight movement of the press-fit connector upon transferring after temporary insertion is prevented.
その結果仮挿入の工程をなくすことができ効率化を図れたと共に、仮挿入後の搬送時にプレスフィットコネクタが微動することによる不良品の発生を防止した。 - 特許庁 - To prevent rod protrusion due to gas pressure in the compression state with rod being admitted, and to attain a simplified painting process, in a gas spring which helps assist an opening operating force of a cover piece.
蓋体の開き操作力をアシストするためのガススプリングにおいて、ロッドを納めた圧縮状態で、ガス圧によるロッドの突出を防止し、塗装工数の簡易を図ること。 - 特許庁 - To provide a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus, in which reduction in the quantity of carrying a developer due to secular change can be suppressed and the generation of image irregularity can be prevented.
経年変化による現像剤の搬送量の低下を抑制でき画像のムラが生じることを防止できる現像装置及びプロセスカートリッジ並びに画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a tire curing apparatus capable, in the postcure process, of improving the (different) progress of vulcanization degree of a tire due to the temperature difference of the upper and lower parts and enhancing quality, and to provide a curing method.
後加硫工程において上下の温度差によるタイヤ加硫度の進行度合いを改善し、品質を向上することが可能なタイヤ加硫装置及び加硫方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an LED lamp in which peeling due to thermal stress never occurs even in a high temperature process.
ＬＥＤランプにおいて、表面に微細な凹凸が多く接着力に優れた銅とレジストとの接着部分を設けることで、高温工程下でも熱応力による剥離を生じないこと。 - 特許庁 - The method also includes a process for detecting whether or not the condition for entering the high-impedance state and the condition for a through-current generated due to the high-impedance state will be met during execution of the simulations.
またハイインピーダンス状態になる条件と、ハイインピーダンス状態により貫通電流が生じる条件がシミュレーション実行中に成立するかどうかを検出する工程を有する。 - 特許庁 - To extend grinding whetstone life and to improve roughness of a workpiece surface by suppressing rapid drop of abrasive grains on the whetstone surface due to interference with the workpiece in a grinding process.
研削過程における工作物との干渉による砥石表面の砥粒の急激な脱落を抑制し、砥石寿命の延長と工作物表面粗さの改善を図る。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal device, capable of reducing deterioration of contrast due to optical anisotropy of a flexible substrate, and simplifying design and a manufacturing process.
可撓性基板の光学異方性に起因するコントラスト低下を低減させることができると共に、設計や製造工程を簡単化することが可能な液晶装置を提供すること。 - 特許庁 - To improve linearity of the current source and improve its characteristics by decreasing the current value error of current source due to process variance, by devising arrangement layout of current source cells.
プロセスバラツキによる電流源の電流値の誤差を電流源セルの配置レイアウトを工夫することにより低減し、電流源の線形性を向上させその特性を改善する。 - 特許庁 - To output a plurality of clocks in which a phase relation becomes constant in accordance with the cycle of an external clock, even if there is fluctuations in element characteristics due to power source voltage, variations in the temperature and manufacturing process.
電源電圧、温度変動、製造プロセスによる素子特性の変動があっても、外部クロックの周期に応じて位相関係が一定になる複数のクロックを出力する。 - 特許庁 - To provide a decorative body which improves resistance properties against a scratch or peeling or the like due to contact from an external part without deteriorating decorativeness, and simplifies and reduces the cost of a manufacturing process.
装飾性を低下させることなく、外部からの接触による傷や剥がれ等への耐性を向上させ、製造工程の簡素化と低コスト化を実現する装飾体を提供する。 - 特許庁 - To solve at the same time problems of the process difficulty of having to fabricate organic waveguides at high temperature and under high pressure and of the loss of electro-optic effect due to relaxed orientation.
有機導波路を作製する際に高温・高圧印加下で作製せざるを得ないプロセスの困難性と、配向緩和によるＥＯ効果消失の問題とを同時に解決すること。 - 特許庁 - To solve the problem of difficulty in control of the thickness reproducibility of a metal oxide film due to the influence by surface conditions of a substrate in the formation of the metal oxide film on the substrate by an open-air CVD process.
金属酸化物膜を大気開放型CVD法により基材に形成する際に、基材の表面状態の影響を受け、金属酸化膜厚や再現性の制御が困難である。 - 特許庁 - To provide an electric property testing device for a semiconductor device capable of effectively preventing unfavorable appearance due to particles and improper electrical property (shoot, etc.), in the next test process.
半田屑による概観不良、及び次テスト工程での電気的特性不良（シュート等）を効果的に防止することができる半導体装置の電気的特性試験装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal panel of an active matrix system which is resistant to electrostatic breakdown of active elements due to static electricity during a manufacturing process, and has small power consumption.
アクティブ・マトリックス方式の液晶パネルにおいて、製造工程中における静電気によるアクティブ素子の静電破壊に強く、消費電力の小さい液晶パネルを提供する。 - 特許庁 - To provide a shield structure in which a shield cover is firmly fixed on a circuit board while suppressing problems due to a thin circuit board and an inverted reflow process.
回路基板の薄型化や逆さリフロー工程に起因した問題の発生を抑制しながらシールドカバーを回路基板に強固に取り付けることができるシールド構造を提供する。 - 特許庁 - To solve the problem that since the coplanarity test for solder balls is conducted before the final process, defect of ball coplanarity occurs frequently caused by the camber of a BGA board due to resin sealing, etc.
最終工程前で半田ボールのコプラナリティー検査が行われるため、この検査工程で樹脂封止等によるＢＧＡ基板の反りが原因でボールコプラナリティー不良が多発する。 - 特許庁 - When the polysilicon layer 13 is subjected to patterning through the same dry etching process, the impurity-doped region 131 is etched sooner than the non-doped region 132 due to an etching rate difference.
このようなポリシリコン層１３を同一のドライエッチング工程でパターニングする場合、エッチングレートの違いから不純物のドープされた領域１３１の方が早くエッチングされてしまう。 - 特許庁
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