「Due Process」を含む例文一覧(2146)
＜前へ 1 2 .... 16 17 18 19 20 21 22 23 24 .... 42 43 次へ＞- Consequently, it is possible not only to inhibit the surface cracking of the wood due to drying but also subdue the wood color change attributed to drying and increase the residual rate of a wood aromatic component after drying process.
これにより、乾燥による木材の表面割れを抑制することができるとともに、乾燥による材色変化が少なく、かつ乾燥後の木材の香り成分の残存率も高めることができる。 - 特許庁 - To provide a wiring pad structure for Cu multilayer wiring which is capable of preventing the destruction of an Al cap film due to contact by a probe during a probing process, which may cause the exposure or the destruction of a Cu pad.
プロービング工程時にプローブ接触によりＡｌキャップ膜が破壊され、Ｃｕパッドの露出や破壊が発生することを防止できる、Ｃｕ多層配線用の配線パッド構造を提供すること。 - 特許庁 - Consequently, reduction of frame strength due to a high temperature heat treatment process is controlled by plastically deforming the frame 10 beforehand, and tension reduction of the color selection electrode can be controlled.
このように、フレーム１０を塑性変形させておくことにより、高温熱処理工程におけるフレーム強度の低下を抑えることができ、色選別電極の引張力低下も抑えることができる。 - 特許庁 - To provide a process cartridge that can be transported in a state of being loaded in an image forming apparatus, and disposed correctly, even when a photoreceptor drum bearing is damaged due to vibration or impact during transportation.
画像形成装置に装着した状態で運搬が可能で、運搬中の振動や衝撃で感光体ドラム軸受が損傷を受けた場合でも真正に位置決め可能なプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device which can fully meet the requirement even when the number of external connection terminals needs to be increased due to high packaging and to provide a production process thereof.
高密度化等の要求に伴い外部接続端子の数を増やす必要が生じた場合でもその要求に十分応えることができる半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To solve problems that cracks are generated on a coat film of a reflection member for a surface light source or the coat film is peeled off in a manufacturing process and a reflection factor is changed due to differences in the film thickness of the coat film.
製造過程において面光源用反射部材の塗膜にクラックが入ったり、剥がれたり、さらに塗膜の膜厚の違いによって反射率が変化する問題点を解決すること。 - 特許庁 - In addition, since the final grinding is done in one-side grinding only on the front face, dust generated due to a scratch failure caused by the wafer colliding against a wall of a holding hole does not occur in the final grinding process.
しかも、最終回の研磨を表面のみの片面研磨としたので、ウェーハが保持孔の壁に衝突して生じるスクラッチ不良に伴う発塵が最終回の研磨で発生しない。 - 特許庁 - To control the enlarged size of a device and increase in device cost due to a complicated structure and the angular position of the device, without increasing the manufacturing cost caused by the prolonged time of the manufacturing process.
構造の複雑化による装置の大型化及び設備コストの上昇、並びに、製造プロセスの長時間化による製造コストの上昇を生じることなく基板の角度位置を制御する。 - 特許庁 - To provide a composite material which prevents black stains due to inhomogeneous corrosion by a simple process work and which improves designing property of the surface, and to provide a method for manufacturing a composite material and an interior or exterior material for a building.
簡単な加工作業で、不均一な腐食による黒ずみを防止して表面の意匠性を向上できる複合材、複合材の製造方法、および建物の内外装材を提供すること。 - 特許庁 - To provide a water repellent inorganic material which can be given a water repellent function capable of inhibiting deterioration due to water intrusion by applying a comparatively simple and convenient process, and to provide a producing method therefor.
比較的簡便な作業工程で、水の侵入による劣化を抑止することのできる撥水機能を持たせることのできる、新しい撥水性無機質材とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus with which waving of an intermediate transfer body due to environmental conditions and change with lapse of time is prevented and a good image can be obtained by performing a normal transfer process.
中間転写体上の波打ちを、環境条件や経時変化では発生させないようにし、正常な転写プロセスを行って良好な画像を得ることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an organic light emitting display device capable of reducing a number of steps of a patterning process utilizing a mask and suppressing an increase in resistance due to non-uniform doping in a capacitor, and a method for manufacturing the organic light emitting display device.
マスクを利用したパターニング工程段階を減らし、キャパシタの不均一ドーピングによる抵抗増加を抑制可能な有機発光表示装置とその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a formation method of a diffusion prevention film and a manufacturing method of a semiconductor device in which both prevention of variation in a threshold voltage due to diffusion of a threshold adjustment chemical element, etc. and simplification of a manufacturing process are achieved.
拡散防止膜の形成方法及び半導体装置の製造方法に関し、閾値調整元素の拡散等による閾値電圧の変動の防止と製造工程の簡素化を両立する。 - 特許庁 - To detect an abnormal connection as a connected contact is operated, without the need for complicated process steps for detecting abnormal connections, fluctuations in load, and effects due to the characteristics of the other elements.
検知するための複雑な処理ステップを必要とせず、接点の接続状態を稼働状態のままで、且つ負荷の変動やその他の素子の特性等による影響を受けずに接続異常を検知する。 - 特許庁 - To provide an adhesive sheet used for processing semiconductors having the capability of preventing electrostatic charges from being generated in a semiconductor manufacturing process and semiconductor devices from breaking down and degrading in their properties due to the electrostatic charges.
半導体製造工程中における帯電の発生を防止し、該帯電による半導体デバイスの破壊および製の劣化を防ぐことのできる半導体加工用粘着シートを提供する - 特許庁 - To improve the dispersion of a display image due to the dispersion of the characteristic of driving TFT, by controlling the threshold voltage of a thin-film transistor in a low temperature process, in a liquid crystal image display device.
液晶画像表示装置において、低温プロセスにおける薄膜トランジスタの閾値電圧を制御することにより、駆動用TFTの特性のバラツキによる表示画面のバラツキを改善することである。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing wiring board by which sagging down etc., of paste can be corrected easily through a simple process, even if sagging down occurs, after the paste has been charged in a through hole due to the low viscosity of the paste.
ペーストの粘度が低くスルーホールへの充填後に垂れ下がり等を生じても、簡便な工程によりその修正を容易に行なうことができる配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A spin-on low-k CMP protective layer 5 prevents a damage which may occur on the low-k dielectric 3 due to an uneven CMP process from the center to an edge or in an area varied in metal density.
スピンオン低ｋＣＭＰ保護層５は、中央部からエッジへのまたは金属密度が変化する領域におけるＣＭＰプロセスの非均一性のために生じ得る低ｋ誘電体３へのダメージを阻止する。 - 特許庁 - To obtain an imaging apparatus making it unnecessary to provide a space for wiring a lead wire and FPC, and also a space margin due to an error of a soldering amount, and making a production process simplify.
リード線やＦＰＣの引き回しのためのスペースが不要であり、また、半田付け量の誤差によるスペースの余裕を設ける必要がなく、さらに、生産工程が簡素化できる撮像装置を得る。 - 特許庁 - Sufficient moisture-proof performance is secured for the scintillator layer 13, and the stress applied to the array substrate 12 by the moisture-proof structure 15 due to a manufacturing process or temperature change after the manufacture is suppressed.
シンチレータ層13に対して充分な防湿性能を確保し、かつ、製造工程および製造後の温度変化などにより防湿構造15がアレイ基板12に対して及ぼす応力を抑制できる。 - 特許庁 - To provide a developing roller that prevents periodical image density unevenness due to a developing sleeve when the developing roller regularly rotates, and to provide a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus.
現像ローラが規則的に回転することによる現像スリーブの周期的な画像濃度ムラが発生することを防止できる現像ローラ、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an ultrahigh purity process for processing elements such as zinc and selenium by the mass separation method that relieves a load due to impurities resulting from a starting material and improves ionization efficiency and productivity.
亜鉛、セレンなどの元素を質量分離法により超高純度化プロセスにおいて、出発原料に由来する不純物による負荷を軽減し、且つイオン化効率を向上し、生産性を向上する。 - 特許庁 - By this constitution, the required places of the paper base material 100 are bent and bonded only by one process work due to the falling of the male mold member 2 to mold the upwardly opened triangular paper tray B.
これにより、雄型部材２の下降による一工程作業だけで、紙製基材100の要所を折り曲げ且つ接着して、上面が開口する三角形状の紙製トレーＢを成形することができる。 - 特許庁 - To protect it from being blackened or mask pull force being exposed to reduction in annealing process and to lessen occurrence of electron beam drift phenomena originated from swelled mask and hauling phenomena due to mask vibration.
黒化またはアニーリング工程におけるマスクの引張り力の減少を防止し、マスクが膨脹することにより生じる電子ビームドリフト現象とマスク振動によるハウリング現象とを低減させる。 - 特許庁 - To prevent a lower layer inter connection formed on a BPSG film from being short-circuited electrically with an upper layer interconnection formed subsequently due to flow of the BPSG film occurring during a thermal process.
ＢＰＳＧ膜上に形成された下部配線が熱工程の間に発生するＢＰＳＧ膜のフローにより、後続して形成される上部配線と電気的にショートされることを防止する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a liquid crystal unit which can surely work a panel shape to the desired one as well as prevent a panel structure from any damage due to a board cracking, etc., in shaping process of the liquid crystal panel.
液晶パネルの外形加工時において、確実にパネル外形を所望の形状に加工できるとともに基板割れなどによるパネル構造の損傷を防止することのできる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a duplex writing utensil capable of solving inconveniences occurring within the writing utensil by an impact at the return of a writing body, without making assembly process complicated or increasing production cost due to the increase in the number of part items.
部品数の増加により組立工程を複雑にしたり製造コストを上げることなく、リターン時の衝撃により筆記体内で生じる不具合を解消できる複式筆記具を提供する。 - 特許庁 - To inhibit excessive temperature rise of a filter due to drop of degree of heat radiation from an exhaust system with accompanying reduction of travel speed of a vehicle in execution of PM regeneration process of the filter.
フィルタに対するＰＭ再生処理の実施において、車両の走行速度の減少に伴い排気系からの放熱度合いが低下することによってフィルタが過度に昇温されることを抑制する。 - 特許庁 - To make it hard to bring about short circuit due to the deformation of lead wire which is caused by external force applied from a lateral direction when a flat coil is carried and stored in the manufacturing process of an IC card.
ＩＣカードの製造工程における平面コイルの搬送や収納等の際に、横方向から加えられる外力による導線の変形に起因する短絡が惹起され難くする。 - 特許庁 - To provide silicon wafer having excellent mechanical strength and substantially free from warpage due to heat shock by effectively suppressing the warpage of silicon wafer caused by heat shock or dead weight in a heat treatment process of silicon wafer.
シリコンウエハの熱処理工程において、熱衝撃や自重によるシリコンウエハの反りを効果的に抑制し、熱衝撃による反りが実質的にない、機械的強度に優れたシリコンウエハを提供。 - 特許庁 - To prevent deterioration of exhaust emission due to air-fuel ratio variation by accurately preventing air-fuel ratio variation caused by residual evaporation of intake system right after changing over from purge execution to purge stop with a simple control process.
パージ実行からパージ停止に移行した直後の吸気系の残留エバポに起因する空燃比変動を、簡単な制御処理で的確に防止し、空燃比変動による排気エミッションの悪化を防止する。 - 特許庁 - To provide a bias circuit wherein the bias current is kept constant even in the fluctuations due to process variation in the field effect transistor threshold, and to provide a resistance element for use with the bias circuit.
プロセスばらつきにより電界効果トランジスタのしきい値が変動しても、バイアス電流を一定にすることができるバイアス回路および当該バイアス回路に適用される抵抗素子を提供する。 - 特許庁 - Even if a sufficient amount of time is spent to the transfer process during one cycle, the displacement of the operation gas cannot become excessive and the increase in the loss of thermal inflow due to increase in displacement can be suppressed.
このため１サイクルの中で移送過程に充分時間をかけて行っても作動ガスの変位が大きくなり過ぎず、変位の増大に伴う熱流入損失の増大を抑制することができる。 - 特許庁 - To provide an apparatus for cleaning having no gap space and preventing leakage of mist due to liquid sprayed during a cleaning process outside the apparatus and causing contamination and corrosion.
隙間空間がなく洗浄工程中に噴射された液体によるミストが洗浄装置の外部に漏出し汚染及び腐食作用をおこすことを防止する洗浄装置を提供することにある。 - 特許庁 - In this manufacturing method of the SOI substrate, a low-temperature process is employed to suppress the generation of thermal distortion due to the difference in thermal coefficient between the silicon substrate 10 and a quartz substrate 20.
本発明のＳＯＩ基板の製造方法では、シリコン基板１０と石英基板２０との間の熱膨張係数差に起因する熱歪の発生を抑制するために低温プロセスを採用する。 - 特許庁 - To provide a charger for charging a plurality of batteries which can individually recover reduction of charging capacity due to the memory effect of a secondary battery and can realize refresh process during the period, in which the battery is not used.
二次電池のメモリー効果による充電容量減少に個別に対応できると共に、電池を使用しない時間帯にリフレッシュを行うことができる複数電池充電装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a delay lock loop circuit which can stably obtain a fine delay amount, independently of the variation of the temperature and the power source voltage or the variation of a delay amount due to the process conditions and so forth.
温度および電源電圧の変動やプロセス条件等によるディレイ量の変動にかかわらず、微少な遅延量を安定的に得ることを可能にするディレイロックループ回路を提供する。 - 特許庁 - To provide a toner which keeps maintaining sufficient electrostatic chargeability in a non-magnetic one-component developing process and reduces image deterioration, such as staining due to use durability, and an image forming apparatus and a toner container using the toner.
非磁性一成分現像プロセスおいて、十分な帯電性を維持しつづけ、使用耐久による地汚れなどの画像劣化が少ないトナー、該トナーを用いた画像形成装置及びトナー容器の提供。 - 特許庁 - To provide a waveguide element and a wavelength conversion element capable of suppressing variations of effective refractive index due to a size error that a channel optical waveguide has during a manufacturing process.
製造過程においてチャネル型光導波路に導入される寸法誤差により生じる等価屈折率のバラツキを抑制することができる導波路素子及び波長変換素子を提供すること。 - 特許庁 - To process with plasma a plurality of wafers, which are unprocessed substrates having solved the problem of contamination caused by static electricity due to charging of wafer surfaces after plasma processing.
プラズマ処理後のウエーハ表面の帯電による静電気を原因とした汚染の問題を解決した非処理基板であるウエーハを複数枚一括してプラズマで処理する半導体製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a process for producing a resin particulate which gives a crosslinked resin particulate with high productivity while reducing energy during a drying step and suppressing environmental burden due to organic solvents.
乾燥工程におけるエネルギー削減、有機溶剤に起因する環境負荷を抑制しつつ、架橋型樹脂微粒子を生産性よく製造することができる樹脂微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface treatment process of a silicon substrate in which a low reflection surface suitable for solar cell can be achieved while preventing a porous layer from occurring due to etching in a silicon substrate.
シリコン基板内部のエッチングにより生じる多孔質層の発生を防ぎつつ、太陽電池セルに適した低反射の表面を実現できるシリコン基板の表面処理方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce the probability that defective products are shipped to the market by finding out, with reliability in the inspection tests, semiconductors whose fuses for wiring are melted by mistake due to mistakes or errors in a trimming process.
トリミング工程におけるミス又は誤差により配線用フューズが誤って溶断された半導体装置を検査時に確実に発見し、問題のある製品が市場に出荷される確率を低下させる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device having an electrode of such a structure as the problem of unnecessary alloying due to heat treatment in the fabrication process of the semiconductor device is avoided, and a method for forming the electrode.
半導体デバイスの作成工程での熱処理による不要な合金化等の問題を回避した構造の電極を備えた半導体デバイスとその電極作成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a microcapsule which suppresses the solidification due to the reaction progress of a polymerizable substance for forming the capsule wall during emulsification to produce a microcapsule with an excellent productivity using the interfacial polymerization process.
乳化時にカプセル壁形成用の重合性物質の反応進行による固化を抑制し、優れた生産性で界面重合法を利用してマイクロカプセルが得られるマイクロカプセルの製造方法。 - 特許庁 - To provide a semiconductor epitaxial wafer and a semiconductor element in which occurrence of failure due to stripping of an upper metal electrode can be reduced without altering the processing conditions of an electrode forming process.
電極形成工程の加工条件を変更せずに、上部金属電極剥がれの不良発生率を低減することが可能な半導体エピタキシャルウェハ及び半導体素子を提供することにある。 - 特許庁 - Therefore, generation of a leak path of hydrogen generated in the hydrogen protection film can be effectively restrained, and reduction deterioration can be restrained in a ferroelectric film due to hydrogen atmosphere exposure in post-process.
そのため、水素保護膜に発生していた水素のリークパスの発生が効率的に抑制され、後工程における水素雰囲気曝露による強誘電体膜の還元劣化を抑制することができる。 - 特許庁 - This process results in that the color inherent in the meat is sufficiently maintained and color deterioration due to heating is suppressed without using the nitrite such as sodium nitrite as the color former.
そうすることによって、発色剤として、亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩を用いずに、食肉本来の色を充分に維持することができ、また、加熱により退色することも抑制しうる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing process of a thin-film device that utilizes transfer technologies, the thin-film device capable of preventing electrification produced due to induction after the manufacture, and a method of manufacturing the thin-film device.
転写技術を利用した薄膜装置の製造工程、およびその製造後に、誘導によって生じる帯電を防止することが可能な薄膜装置、およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a toner which keeps maintaining sufficient electrostatic chargeability in a non-magnetic one-component developing process and reduces image deterioration, such as staining due to use durability, and has excellent low-temperature stability, and an image forming method.
非磁性一成分現像プロセスおいて、十分な帯電性を維持しつづけ、使用耐久による地汚れなどの画像劣化が少なく、低温定着性に優れたトナー及び画像形成方法の提供。 - 特許庁
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