「Films」を含む例文一覧(13252)

＜前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 265 266 次へ＞
  • These thin layers are made with flexible films capable of creating a completely airtight state and thus the flexible films are capable of changing their shape to the one suited for supporting a pressure difference between the inside and outside of the flexible films by means of their tensile forces.
    この膜は完全に気密状態にできる柔軟性膜で製作されているので、膜内外の圧力差を膜張力で負担する形状に変化する。 - 特許庁
  • The battery element 5 is pinched from both the upper and lower sides by two sheets of films 2a, 2b, and is sealed inside the films 2a, 2b by joining the peripheral parts of the films 2a, 2b.
    電池要素５は、２枚の外装フィルム２ａ，２ｂによって上下から挟まれ、外装フィルム２ａ，２ｂの周縁部を接合することで外装フィルム２ａ，２ｂ内に封止される。 - 特許庁
  • When the thin films having such periodic structure are homogeneously formed over the entire surface of the thin films, the lens eventually has the same imaging characteristics even by using any portion of the thin films.
    このような周期構造を有する薄膜が薄膜全面に渡って均質に形成されている場合、薄膜のどの部分を用いても同じ結像特性を有することになる。 - 特許庁
  • When the SAS etching is performed, although the thermally oxidized films 58 are also eroded in the height direction and the heights of the films 58 are also reduced, a gate edge section 59 is protected by the films 58 during the SAS etching.
    ＳＡＳエッチングに際し、熱酸化膜５８も高さ方向に浸食されて背が低くなるものの、ＳＡＳエッチングの間、該熱酸化膜５８によってゲートエッジ部５９は保護される。 - 特許庁
  • To provide a screen printing stencil with amorphous carbon films such as DLC films and water/oil repellent layers, which are tightly fixed on at least part of the amorphous carbon films.
    ＤＬＣ膜などの非晶質炭素膜を備え、この非晶質炭素膜上の少なくとも一部に撥水・撥油層が定着性良く設けられたスクリーン印刷用孔版を提供する。 - 特許庁
  • In this case, the side surfaces of the electrode 16 are covered with the films 17, and then the films 19 are formed under a silicon substrate between the films 17.
    この場合、柱状電極１６の側面を補助封止膜１７によって覆い、次いで補助封止膜１７間におけるシリコン基板１１下に封止膜１９を形成する。 - 特許庁
  • Subsequently, the photoresist films 220 and 230, and at the same time, the metal thin films 245 and 255 which are formed on top of the photoresist films 220 and 230 are removed (step S105).
    引き続き、フォトレジスト膜２２０及び２３０を除去すると同時に、フォトレジスト膜２２０及び２３０の上に形成された金属薄膜２４５及び２５５を除去する（ステップＳ１０５）。 - 特許庁
  • The flexible wiring bodies 2, 3 are layered products of base films 23, 33, conductors 22, 32, and cover films 21, 31, and provided with exposed parts 2a, 3a where parts of the base films are removed.
    フレキシブル配線体２，３は、ベースフィルム２３，３３、導電体２２，３２、カバーフィルム２１，３１の積層体であり、ベースフィルム２３，３３の一部が除去された露出部２ａ，３ａが形成されている。 - 特許庁
  • Germanium, tellurium, and/or antimony precursors are usefully employed to form germanium, tellurium and/or antimony-containing films, such as films of GeTe, GST, and thermoelectric germanium-containing films.
    ゲルマニウム、テルル、及び／又はアンチモン前駆体は、ゲルマニウム、テルル、及び／又はアンチモン含有膜、例えば、ＧｅＴｅ、ＧＳＴ、及び熱電ゲルマニウム含有膜を形成するために、有用に使用される。 - 特許庁
  • To provide polyolefin based resin compositions capable of stably effecting continuous molding of polyolefin based films having excellent weatherability and chlorine resistance, and films and agricultural films obtained by molding these compositions.
    耐候性および耐塩素性に優れたポリオレフィン系フィルムを安定して連続成形できるポリオレフィン系樹脂組成物、これを成形してなるフィルムおよび農業用フィルムを提供する。 - 特許庁
  • Then catalyst films 43 are formed in areas in which the liquid repellent film 42 is not formed and the conductive films 609 are selectively formed on the catalyst films 43 by electroless plating.
    次に、撥液膜４２の形成されない領域に触媒層４３を形成し、この触媒層４３に対して無電界メッキにより導電膜６０９を選択的に形成する。 - 特許庁
  • Preferably, after the light absorbing films 3, 5 and dielectric films 2, 4, 6 are deposited on the transparent substrate 1, the films are heated in an oxygen atmosphere containing ≥10% oxygen to saturate changes in the optical characteristics.
    光吸収膜３，５と誘電体膜２，４，６を透明基板１に積層した後、酸素を１０％以上含む酸素雰囲気で加熱し、光学特性の変化を飽和させるとよい。 - 特許庁
  • At least a part of the electrode systems 19, 20 is equipped with gold films 11, 23 having the thickness below 45 nm and metal base films 10, 22 provided between the gold films and the vibrator.
    電極系１９、２０の少なくとも一部が、厚さ４５ｎｍ以下の金膜１１、２３と、金膜と振動子との間に設けられている金属下地膜１０、２２とを備えている。 - 特許庁
  • Before forming an emitter polysilicon 15, sidewall insulating films are formed at an opening at the upper part of an emitter formation area, resist is embedded in between the sidewall insulating films, and the upper parts of the sidewall insulating films are etching-removed to lower the heights of the sidewall insulating films.
    エミッタポリシリコン１５を形成する前には、エミッタ形成領域上部の開口に側壁絶縁膜が形成されており、側壁絶縁膜間にレジストを埋め込んで、側壁絶縁膜の上部をエッチング除去し、側壁絶縁膜の高さを低くする。 - 特許庁
  • In respective film feeding parts 16, there are arranged film connecting means 44 for connecting the starting ends of the films f on spare rolls on the terminal ends of the films f when the films f in use are consumed, and terminal end cutting means for cutting the films f.
    各フィルム供給部１６には、使用中のフィルムｆが消費されたときに、該フィルムｆの終端に予備ロールにおけるフィルムｆの始端を接続するフィルム接続手段４４およびフィルムｆを切断する終端切断手段が配設される。 - 特許庁
  • In an n-channel MISFET 40 and a p-channel MISFET 41 constituting CMISFET, gate insulating films 14 and 15 are formed of silicon oxynitride films, and gate electrodes 23 and 24 comprise silicon films positioned on the gate insulating films 14 and 15.
    ＣＭＩＳＦＥＴを構成するｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴ４０とｐチャネル型ＭＩＳＦＥＴ４１は、ゲート絶縁膜１４，１５が酸窒化シリコン膜からなり、ゲート電極２３，２４が、ゲート絶縁膜１４，１５上に位置するシリコン膜を含んでいる。 - 特許庁
  • Dielectric material multi-layered films 310 and 311 each of which consists of n-layered films of Si films 320 having a refractive index Ms=3.11 and SiO2 films 321 having a refractive index Mt=1.415 are provided on both sides of a magnetic material thin film 307 to form the magnetooptical body 300.
    磁気光学体３００は、磁性体薄膜３０７の両側に屈折率Ms＝３．１１のSi膜３２０と屈折率Mt＝１．４１５のSiO_2膜３２１とのｎ層の積層膜からなる誘電体多層膜３１０，３１１を設けて構成した。 - 特許庁
  • In the method of adjusting moisture content of plastic films, first, strip-shape plastic films 1 are wound with support members 2 to form a roll body 4 of the plastic films 1 such that gap layers 3 exist between the plastic films 1 due to the support bodies 2.
    本発明によるプラスチックフィルムの含水率調整方法は、まず、帯状のプラスチックフィルム１が、支持部材２を介して巻き取られ、この支持部材２によって空隙層３が介在されるように、プラスチックフィルム１の巻取体４が形成される。 - 特許庁
  • Among these, the gas filling vessel 14 consists of high polymer films having high airtight, for example, such as multilayered polyethylene films, polypropylene films and it is constituted so as to transmit most sonic waves which hit each face of the films and to absorb a part of the waves.
    このうち、ガス封入容器１４は、例えば多層ポリエチレンフィルムやポリプロピレンフィルムなど、気密性の極めて高い高分子フィルムからなり、各面に当たった音波のほとんどを透過させてごく一部を吸収するように構成されている。 - 特許庁
  • The optical element has at least one or more oxide group thin films or mixed films of the oxide group thin films and fluoride group thin films between the oxide group substrate and a fluoride thin film.
    上記課題を解決するため、本発明の光学素子は、酸化物系の基板とフッ化物系薄膜との間に、酸化物系薄膜、もしくは酸化物系薄膜とフッ化物系薄膜の混合膜を少なくとも１層以上有することを特徴としている。 - 特許庁
  • To provide a film transporting unit which allows a plurality of kinds of photographic films to be processed by a single unit and does not spoil the workability of processing of photographic films other than cartridge storage type photographic films while coping with cartridge storage type photographic films.
    単一のユニットで複数種類の写真フィルムの処理が可能であり、カートリッジ収容タイプの写真フィルムに対応しつつも、それ以外の写真フィルムの処理の作業性を阻害することがないフィルム搬送ユニットを提供すること。 - 特許庁
  • Owing to the film structure where the Si thin films 13 overlie the Mo thin films 12, the membrane stress (compression stress) of the Si thin film 13 is offset by the membrane stress (tensile stress) of the Mo thin films 12 to reduce the membrane stress of the alternate multilayer films as a whole.
    その上にＳｉ薄膜１３を積層した膜構成により、Ｓｉ薄膜１３の膜応力（圧縮応力）をＭｏ薄膜１２の膜応力（引張応力）によって相殺し、交互多層膜全体の膜応力を低減する。 - 特許庁
  • The substrate-treating device 500 comprises: an indexer block 9; a treatment block 10 for reflection prevention films; a treatment block 11 for resist films; a development treatment block 12; a treatment block 13 for resist cover films; a removal block 14 of resist cover films; and an interface block 15.
    基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁
  • The light modulation array has a plurality of thin films respectively having a reflection face which reflects light, a substrate on which the plurality of movable films are fixed, and a driving means which displaces the movable films by applying a voltage on the plurality of thin films.
    光変調素子は、光を反射する反射面をそれぞれ有する複数の薄膜と、前記複数の可動膜を固定する基板と、前記複数の薄膜に電圧を印加することにより前記可動膜を変位させる駆動手段とを有する。 - 特許庁
  • Respective adhesive-backed pieces 12, 13, 14 are constituted of films 15, adhesive layers 16 on the back side of the films 15, printing layers 17, formed on the front surfaces of the films 15, and transparent resin layers 17, covering the front surface side of the films 15.
    各貼着片１２、１３、１４は、フィルム１５と、フィルム１５の裏面側の粘着層１６と、フィルム１５の表面に形成された印刷層１７と、フィルム１５の表面側を被覆する透明樹脂層１８とにより構成されている。 - 特許庁
  • To efficiently supply photographic films to an image reading section without stopping a device operation in order to load other photographic films to a film loading section, even in the case the number of photographic films exceeds the number of films which can be loaded on the film loading section.
    写真フィルムの本数がフィルム装填部に装填可能な本数以上である場合にも、写真フィルムをフィルム装填部へ装填するために装置動作を停止させる必要がなく、写真フィルムを効率的に画像読取部へ供給する。 - 特許庁
  • A manufacturing method for the piezoelectric MEMS includes laminating a plurality of piezoelectric films and a plurality of conductive films on a substrate to interpose each piezoelectric film between conductive films and etching the piezoelectric films and conductive films in order from their surface layer to form a pattern spreading toward a lower layer.
    本発明による圧電型ＭＥＭＳの製造方法は、それぞれの圧電膜が導電膜の間に挟まれるように複数の圧電膜と複数の導電膜とを基板上に積層し、積層された複数の導電膜と複数の圧電膜とを下層に向かって広がるパターンに表層から順にエッチングする、ことを含む。 - 特許庁
  • A collecting board for electronic components 10A has a plural pairs of electrode films 14A and function films 17 bridging the plural pairs of electrode films respectively; wherein a cutting margin 13A for dividing the board is provided, and plural pairs of auxiliary films 15A are provided extensively on the cutting margin from the plural pairs of electrode films respectively.
    複数対の電極膜１４Ａと、複数対の電極膜をそれぞれ橋絡する機能膜１７とを有する電子部品用集合基板１０Ａにおいて、基板分割のための切除余白部１３Ａが設けられ、切除余白部上に複数対の電極膜からそれぞれ複数対の補助電極膜１５Ａが延設される。 - 特許庁
  • In the circuit board S1 wherein a laminated solder H constituted of an alternate multilayer film 4 of Au thin films and Su thin films is formed on a board 1, the uppermost layer 5 and the lowermost layer 3 of the laminated solder H are made of Au thin films, and the total film thickness of the Sn thin films is greater than that of the Au thin films.
    基板１上に、Ａｕ薄膜とＳｎ薄膜の交互多層膜４から成る積層はんだＨを形成した回路基板Ｓ１において、積層はんだ４の最上層５及び最下層３をＡｕ薄膜にするとともに、Ａｕ薄膜の合計膜厚よりＳｎ薄膜の合計膜厚が大であることを特徴とする。 - 特許庁
  • The ultraviolet light shielding element is made by laminating multilayer films containing high refractive index films 3 and low refractive index films 2 on a transparent substrate 1, wherein the light absorption coefficient of at least one film selected from the high refractive index films 3 and the low refractive index films 2 becomes 0.1 or more at a wavelength in the range of 300 nm-360 nm.
    透明基板（１）上に、高屈折率膜（３）と低屈折率膜（２）とを含む膜を多層積層した紫外光遮蔽素子であって、高屈折率膜（３）及び低屈折率膜（２）から選ばれる少なくとも一つ膜の光吸収係数が０．１以上となる波長が３００ｎｍから３６０ｎｍの範囲にある。 - 特許庁
  • Films or the like F are superposed in multiple layers, a rest is disposed under the superposed films F, and a drill 2 is rotated to be moved down toward them for boring holes in the superposed films F, where an underfilm 5 is placed between the lowest layer of the superposed films F and the rest 3, thereby residue of cutting chips of the films F is prevented.
    フィルム等Ｆを多重に重ね、該重ねられたフィルムＦの下部に受台を配して、その上部より穴あけ用ドリル２を回転しながら下降させ、重ねられたフィルムＦに穴をあけるにあたり、重ねられたフィルムＦの最下部で受台３との間にアンダーフィルム５を敷き、フィルムの切屑が残らないようにした。 - 特許庁
  • The zinc corrosion protective films are formed on the galvanized steel sheet.
    亜鉛系めっき鋼板に亜鉛防食用皮膜を形成する。 - 特許庁
  • Plastic films 16, 20 are used as a form for placing concrete.
    コンクリート打設用型枠としてプラスチックフィルム１６，２０を用いる。 - 特許庁
  • Second films 7 as floating gates are formed between the spacers 6.
    スペーサ６間に、浮遊ゲートとなる第２の膜７を形成する。 - 特許庁
  • A reflector comprises two circular films and an annular support.
    リフレクタは、２つの円形のフィルムと環状の支持体からなる。 - 特許庁
  • PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION FOR POLARIZATION FILMS AND POLARIZATION FILM
    偏光フィルム用感圧接着剤組成物及び偏光フィルム - 特許庁
  • A color filter layer is formed so as to cover the reflecting films.
    そして、反射膜を覆うように、カラーフィルタ層が形成される。 - 特許庁
  • The upper-layer insulation films are formed on the lower-layer insulation film.
    上層絶縁膜は下層絶縁膜上に形成されている。 - 特許庁
  • Classic Japanese films are highly regarded all over the world.
    日本の古典的な映画は世界中で高く評価されている。 - 浜島書店 Catch a Wave
  • The reflective films 23 are located under the light-emitting layer 12.
    反射膜２３は、発光層１２よりも下側に位置している。 - 特許庁
  • His films, which satirize human desires, have earned steady popular and critical acclaim.
    人間の欲望をユーモラスに描いた作品に定評があった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • His wife was Tomoko NANIWA, who was a comedian and an actress in one of his films.
    妻は自作のコメディエンヌでもあった、女優の浪花友子。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • These films had high reviews for being entertaining and full of action.
    これらの作品も、アクションと合わせて娯楽性の評価が高い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • He was good at directing films featuring men of chivalry and wrote several scripts about them.
    任侠ものも得意で、脚本も何本か執筆している。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • While he went back and fourth to Japan and Hong Kong, he also directed films in Japan.
    日本と香港を往来しつつ、日本でも映画を撮る。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • An electrode group 4 is sealed between the films 1, 1'.
    フィルム１、１’の間には電極群４が封入されている。 - 特許庁
  • The blocking films 30 block the diffusion of the signal charges.
    この遮断膜３０は、上記信号電荷の拡散を遮る。 - 特許庁
  • The insulator films 20 are formed at the sides S3 to S6.
    絶縁体膜２０は、側面Ｓ３〜Ｓ６に設けられている。 - 特許庁
  • By patterning these films, the upper conductor and a plug are formed.
    これらの膜をパターンニングして上部導電体とプラグとする。 - 特許庁
  • The microporous membrane 7 is sandwiched between the air guide films 8 from both surfaces.
    空気融通膜８で微細孔膜７を両面から挟む。 - 特許庁
＜前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 265 266 次へ＞

例文データの著作権について