「Films」を含む例文一覧(13252)

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  • Moreover, by providing the container in which the evaporation material is accommodated, the heating medium accommodated in the container with pores, an evaporation source filled up with the evaporation material in the porous parts, and a heating means to heat the evaporation material, and by making the evaporation material evaporate by the heating means, the evaporation films are deposited on a substrate.
    また、蒸着材料を収容する容器と、容器内に収納され、空孔を含む加熱媒体と、空孔内に蒸着材料が充填された蒸着源と、蒸着材料を加熱する加熱手段とを具備し、加熱手段によって蒸着材料を蒸発させることにより、基板上に蒸着膜を堆積するように構成した蒸着装置とした。 - 特許庁
  • The method for producing the latent curing agent comprises stirring and simultaneously thermally dissolving the epoxy compound, the imidazole-based compound, and ethyl cellulose in a prescribed saturated hydrocarbon-based solvent to effect an adduct reaction between the epoxy compound and the imidazole-based compound to prepare the adduct particle slurry, cooling the slurry, and then charging a multi-functional isocyanate compound to cross-link the ethyl cellulose films.
    エポキシ系化合物とイミダゾール系化合物とエチルセルロースとを、所定の飽和炭化水素系溶剤中で撹拌しながら加熱して溶解させ、更にエポキシ系化合物とイミダゾール系化合物との間にアダクト反応を生じさせて、アダクト体のスラリーを得、そのスラリーの温度を冷却した後、多官能イソシアナート化合物を投入してエチルセルロース膜を架橋する。 - 特許庁
  • The piezoelectric thin-film resonator supported with a substrate has a piezoelectric film held between electrodes in an upper part of a gap formed on the substrate, and comprises a first frequency temperature coefficient correcting film between the substrate and the lower electrode, and a second frequency temperature coefficient correcting film on the upper electrode surface, to hold the piezoelectric film between the frequency temperature coefficient films from above and below.
    基板に支持されてそこに形成された空隙の上部に電極に挟まれた圧電膜を具えた圧電薄膜共振子において、基板と下部電極間に第1の周波数温度係数補正膜を具えるとともに、上部電極の表面に第2の周波数温度係数補正膜を具えて圧電膜を上下から周波数温度係数補正膜で挟んだ構造とする。 - 特許庁
  • The hollow waveguide 60 is constituted by axially connecting flexible hollow waveguides 61 and 65 formed into internally hollow long shapes, the inner surfaces of which hare coated with dielectric films 67 and which guide the laser beam 57a and the hollow waveguide 65 on an emitting end side is formed of a material more flexible than that of the hollow waveguide 61 on a light source side.
    中空導波路６０は、内部中空の長尺状に形成されて内面が誘電体薄膜６７で被覆されレーザ光５７ａを導光する可撓性のある中空導波路６１，６５を軸方向に接続して構成され、出射端側中空導波路６５が光源側中空導波路６１に比べて柔軟性のある素材で形成されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • A magnetic layer 6 is basically constituted of multilayered laminated films wherein Co layers to be first magnetic layers 6a and Pt alloy layers to be second magnetic layers 6b are multiply laminated and formed on a base layer 5 consisting of Ru of a hexagonal closest structure and provided so that magnetic interaction between magnetic grains which constitute the magnetic layer 6 is reduced.
    磁性層６を第１の磁性層６ａであるＣｏ層と第２の磁性層６ｂであるＰｔ合金層とを多層に積層した多層積層膜で基本構成し、磁性層６を構成する磁性粒相互間の磁気的相互作用を小さくするために設けられた六方最密構造のＲｕからなる下地層５の上に磁性層６を形成するようにした。 - 特許庁
  • In a connection combination type optical film, a transparent connection film is adhered via an adhesive agent layer or an adhesive layer to at least one side of the combination type optical film where at least one end faces of a plurality of optical films are made to but against each other and the combination type optical film is connected by the transparent connection film.
    複数枚の光学フィルムの少なくとも１つの端面が互いに突き合わされている組み合わせ型光学フィルムの少なくとも片面に、透明連結フィルムが粘着剤層または接着剤層を介して貼り合わされており、組み合わせ型光学フィルムが透明連結フィルムにより連結されていることを特徴とする連結組み合わせ型光学フィルム。 - 特許庁
  • The gage member for aligning having guide slide positioning holes which are respectively formed to right and left film guide slides and engage with sprocket guide pins pierced to engage with the sprocket holes formed at the films and joining die positioning holes which are formed to correspondence to the holes for piercing the sprockets formed at the film joining dies and to which punch members for piercing are fitted is used.
    左右のフィルム案内スライドにそれぞれ形成され、フィルムに形成されたスプロケット孔に係合するように突設されたスプロケット案内ピンと係合する案内スライド位置決め穴と、フィルム接合ダイスに形成されたスプロケット穿孔用孔と対応するように形成され、穿孔用パンチ部材が嵌合するフィルム接合ダイス位置決め穴とを備えた位置合わせ用ゲージ部材を用いる。 - 特許庁
  • However, a new photographic stand which stores several sheets of photographic papers or reversal films and successively replaces and displays them is developed, and a rotary type image holding stand and an illumination for the reversal film by which the same image is not always seen, but several sheets can be seen without using a manpower, are assembled thereto.
    リバ−サルフィルムはプロ機材と言う通念からと大型化する事を嫌う意味からほとんど開発対象に成らなかったが、数枚の印画紙又はリバ−サルフィルムを収納し順次交換して表示する新しいフォトスタンドを開発し常に同じ画像を見るのでなく数枚を人力を掛けずして見る事が出来る回転式画像保持台とリバ−サルフィルム用の照明を組み込む。 - 特許庁
  • The platen 18 comprises: a platen main body 32 made of aluminum alloy; an oxide film 34 formed on a surface in at least an area of the platen main body 32 to which the abrasive pad 20 is affixed, by anodizing; and fluorine resin films 36, 38 provided on a surface of the oxide film 34 in an abrasive pad affixing area.
    本発明によるプラテン１８は、アルミニウム合金からなるプラテン本体３２と、プラテン本体３２の少なくとも研磨パッド２０が貼り付けられる領域における表面に陽極酸化処理により形成された酸化膜３４と、研磨パッド貼付領域における酸化膜３４の表面に設けられたフッ素樹脂被膜３６，３８とを備えることを特徴としている。 - 特許庁
  • A silicon nitride film 110 is formed on both sidewalls of a silicon nitride film 106 as a sidewall in a PMOS region 100p and in an NMOS region 100n (a primary stress liner film), and a silicon nitride film 112 is formed in the NMOS region 100n such that it covers a full silicide gate electrode 103 and silicon nitride films 106 and 110 (a secondary stress liner film).
    シリコン窒化膜１１０は、ＰＭＯＳ領域１００ｐおよびＮＭＯＳ領域１００ｎにおいて、サイドウォールとしてのシリコン窒化膜１０６の両側壁に形成され（第１のストレスライナー膜）、シリコン窒化膜１１２は、ＮＭＯＳ領域１００ｎにおいて、フルシリサイドゲート電極１０３およびシリコン窒化膜１０６，１１０を覆うように形成される（第２のストレスライナー膜）。 - 特許庁
  • Further, the method of manufacturing the dielectric multilayer film mirror is characterized in that the dielectric multilayer film structures 10 are manufactured by film-depositing the pair of dielectric multilayer films 2 having both the surfaces-symmetric structure on both surfaces of the substrate 1 according to the atomic layer deposition (ALD) method and the dielectric multilayer film mirror is made by joining at least two obtained sheets of dielectric multilayer film structures.
    また、このミラーの製造方法は、原子層堆積（ＡＬＤ）法により基板１の両面に両面対称構造を有する一対の誘電体多層膜２を同時に成膜して誘電体多層膜構造体10を製造し、得られた２枚以上の誘電体多層膜構造体を接合して誘電体多層膜ミラーを製造することを特徴とする。 - 特許庁
  • The storing bag 1 is formed using the laminated foam sheet 2, and is configured so that the whole layers of the storing bag 1 are formed using polyethylene films, and the outermost layer after bag production is formed of an extrusion-molded high density polyethylene film 3, and furthermore, the extrusion direction during molding of the high density polyethylene film 3 is in the tearing direction at unsealing.
    積層気泡シート２を用いて形成される収納袋１であって、当該収納袋１の全ての層が、ポリエチレンフィルムを用いて形成されるとともに、製袋後の最表層が、押し出し成形された高密度ポリエチレンフィルム３を用いて形成され、さらに、高密度ポリエチレンフィルム３の成形時の押し出し方向が、開封時の引き裂き方向に沿う構成としてある。 - 特許庁
  • The aluminum alloy of the cylinder contains 9-18% Si and a PVD film composed chiefly of Cr and N is formed on the surface of the piston ring, so that the piston ring causing no wear by the primary-crystal Si of the aluminum alloy and causing little seizure, by virtue of the excellent wettability of the PVD film even under conditions that oil films easily run out.
    シリンダのアルミニウム合金が９〜１８％のＳｉを含有し、ピストンリングの表面にＣｒとＮを主成分とするＰＶＤ皮膜を形成することにより、アルミニウム合金の初晶Ｓｉによりピストンリングが摩耗せず、また往復摺動速度がゼロになり油膜切れが起こり易い条件においてもＰＶＤ皮膜の優れた濡れ性により焼付が起こり難くなる。 - 特許庁
  • This iron powder has at least one metal selected from the group consisting of nickel copper, cobalt and molybdenum on the surface and the surface portions except the metal portions are covered with oxidized iron coating films, wherein the content of the metal is 0.01 to 10 mass % based on the total amount of the iron powder and the thickness of the oxidized iron coating film is ≥30 nm.
    ニッケル、銅、コバルトおよびモリブデンからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を表面に有し、表面の該金属以外の部分が鉄酸化皮膜で被覆されている有機ハロゲン化合物分解用鉄粉であって、該金属の含有量が鉄粉全体に対して０．０１〜１０ｍａｓｓ％であり、該鉄酸化皮膜の厚さが３０ｎｍ以上である有機ハロゲン化合物分解用鉄粉。 - 特許庁
  • An upper substrate 101 of a variable form mirror is of a diaphragm structure body having at least a frame part and a mirror opening part 103 formed on a single crystal silicon substrate 105, and a diaphragm formed at the mirror opening part 103 with a polyimide film 106 and an electrode film 10 which are at least two layers of thin films formed over the whole face of the silicon substrate 105.
    可変形状鏡の上部基板１０１は、単結晶シリコン基板１０５に形成された枠部及びミラー開口部１０３と、上記シリコン基板１０５全面にわたって形成された少なくとも２層の薄膜であるポリイミド膜１０６及び電極膜１０により上記ミラー開口部１０３に形成されたダイヤフラムと、を少なくとも有するダイヤフラム構造体である。 - 特許庁
  • In a manufacturing method, a process for inspecting leakage current is installed after a process for sealing a capacitor element by an armor material, at the manufacturing of the solid electrolytic capacitor holding chemical polymerized conductive polymer between the electrode foils of the anode and the cathode of the capacitor element, where the anode foil and the cathode foil, in which dielectric oxidation films are formed, are wound through a separator.
    誘電体酸化皮膜を形成した陽極箔と陰極箔とをセパレータを介して巻回したコンデンサ素子の陽極と陰極の電極箔間に化学重合性導電性高分子を保持する固体電解コンデンサを製造する際に、コンデンサ素子を外装材で封止する工程の後に、漏れ電流の検査を行う工程を設けた製造方法としたものである。 - 特許庁
  • To provide a film splicer which joins the end parts to be joined of films mutually by an adhesive tape and can prevent the refuse of the tape having sprocket holes punched therein from remaining in a punching member when sprocket holes are punched in the tape to certainly allow the same to fall while always keeping the punching member well in the cutting quality and improving the life thereof to a large extent.
    フィルムの接合すべき端部同士を接着テープによって相互に接合することと同時に、スプロケット孔を穿設する場合に、スプロケット孔を穿設したテープカスが穿設用パンチ部材の内部に残存してしまうことがなく、確実に落下させることができ、これにより、切れ味が常に良好で、その穿設寿命も大幅に改善することのできるフィルム接合装置を提供する。 - 特許庁
  • The semiconductor device comprises an interlayer insulation film 2 formed on a silicon substrate 1, gas/liquid separation films 3 and 5 made of an SiOC film through which liquid hardly passes but gas passes easily, formed on the surface of the interlayer insulation film 2 at least partially, and a wiring layer 7 formed on the surface of the interlayer insulation film 2 at least partially.
    この半導体装置は、シリコン基板１上に形成された層間絶縁膜２と、層間絶縁膜２の表面の少なくとも一部上に形成され、液体を透過しにくいとともに、気体を透過しやすいＳｉＯＣ膜からなる気液分離膜３および５と、層間絶縁膜２の表面の少なくとも一部上に形成された配線層７とを備えている。 - 特許庁
  • The laminate has a plurality of thin films each having an average thickness range within 0.01 to 0.2 μm on the constituted layer having irregularities formed on the surface of the base material.
    基材表面に形成された凹凸を有する構成層上に、各層の平均膜厚が０．０１〜０．２μｍの範囲内にある複数の薄膜を設けた積層体において、該基材表面の凹凸を有する構成層の中心線平均粗さをＲａ１、該形成された薄膜の最表面の中心線平均粗さをＲａ２としたとき、Ｒａ１とＲａ２とが下記式（１）の関係にあることを特徴とする積層体。 - 特許庁
  • In the method for manufacturing the heat-resistant flexible laminated sheet by laminating a metal foil and the heat-resistant adhesive film using a hot roll laminator having one or more metal roll pairs, the diameter of each metal roll is not less than 200 mm and a plurality of the metal foils and a plurality of the heat-resistant adhesive films are laminated at the same time.
    １対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置を用いて金属箔と耐熱性接着フィルムを貼り合わせて耐熱性フレキシブル積層板を製造する方法であって、金属ロールの直径が２００ｍｍ以上であり、複数層の金属箔と耐熱性接着フィルムを同時にラミネートすることを特徴とする耐熱性フレキシブル積層板の製造方法により達成される。 - 特許庁
  • To provide a film forming method and a film forming device which form a uniform film in a region to which photo lithography process is applied for the purpose of forming a propagation path or an electrode pattern, etc. of resist films, a sensitive film, etc. on a surface of spherical material to be coated in manufacturing process of a spherical surface acoustic wave element.
    球状弾性表面波素子の製造過程において、被塗布物である球状基材の表面にレジスト、感応膜等の被膜を伝搬路又は電極パターンを形成すること等を目的としたフォトリソグラフィープロセスの適用される領域に均一な被膜を形成するための被膜形成方法及び被膜形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • When the optical films are stuck on the display panel, a first optical film is stuck on a first main surface of the display panel moving in a first direction, thereafter a second optical film is stuck on a second main surface of the display panel moving in a second direction which is a reverse direction of the first direction.
    光学フィルムを表示用パネルへ貼り付ける場合、第１の方向に移動中の表示用パネルの第１主表面に対して第１の光学フィルムを貼付け、貼付け終了後に表示用パネルを第１の方向とは逆方向の第２の方向へ移動させ、第２の方向に移動中の表示用パネルの第２主表面に対して第２の光学フィルムを貼付ける。 - 特許庁
  • The multilayer capacitor includes a capacitor body 10 formed by laminating a plurality of dielectric material layers, recesses 31 and 32 formed on side surfaces 10c and 10d of the capacitor body 10, internal electrodes for obtaining capacitance formed inside of the capacitor body 10, and external terminal electrodes 33 and 34 having ground plating films formed in wall surfaces of the recesses of 31 and 32, and of plating film.
    複数の誘電体層を積層してなるコンデンサ本体１０と、コンデンサ本体１０の側面１０ｃ，１０ｄに形成された凹部３１，３２と、コンデンサ本体１０の内部に形成された容量を得るための内部電極と、凹部３１，３２の壁面にめっき膜にて形成された下地めっき膜を有する外部端子電極３３，３４とからなる積層コンデンサ。 - 特許庁
  • In the method for fabricating a semiconductor device where silicon insulation films having a different thickness are formed, respectively, in a specified region and other specified region on a substrate, HMDS coating and heating are performed prior to coating of a photoresist layer when photolithographic etching, i.e., boring of an opening 28W, is performed in the process for removing the specified region of a first silicon insulation film 28.
    基板上の特定領域と、他の所定領域において、相互に厚さを異にするシリコン絶縁膜が形成されて成る半導体装置の製造方法であって、第１のシリコン絶縁膜２８の特定領域の除去工程におけるフォトリソグラフィによるエッチング、即ち開口２８Ｗの穿設において、フォトレジスト層の塗布に先立って、ＨＭＤＳ被着と加熱を行うものである。 - 特許庁
  • The transparent conductive film comprises: a transparent conductive layer 12 provided on a glass substrate 10 and made of a metal oxide or a metal nitride; and a plurality of metal thin films 11 that are in contact with the transparent conductive layer 12, made of a metal having a lower specific resistance than the transparent conductive layer 12, electrically connected to each other and arranged at established intervals.
    ガラス基板１０上に設けた金属酸化物または金属窒化物よりなる透明導電層１２と、透明導電層１２に接触して設けられ、透明導電層１２よりも比抵抗が低い金属よりなり、互いに電気的に接続されていて、かつ、所定の間隙を有するように複数配列された金属薄膜１１と、を有することを特徴とする透明導電膜。 - 特許庁
  • The sliding member has the elastic body attached to the rear side of a porous slide sheet, and the porous slide sheet is formed by laminating at least two stretched porous polytetrafluoroethylene films in the width direction or mutually fusing polytetrafluoroethylene particles, and the image fixing device uses the sliding member.
    多孔質摺動シートの背面に弾性体を装着してなる摺動部材であって、前記多孔質摺動シートは、延伸多孔質ポリテトラフルオロエチレンフィルムが少なくとも２枚厚み方向に積層されてなるものであるか、またはポリテトラフルオロエチレン粒子が互いに融着して形成されたものであることを特徴とする摺動部材と、該摺動部材を用いた画像定着装置である。 - 特許庁
  • Also in Toei, Imai created a series of social films: in 1957, the two movies, "Kome" (The Rice People), his first color film depicting poverty in a farming village set in Kasumigaura, and "Junai monogatari" (The Story of Pure Love), a story of love between a girl suffering from radiation sickness and a delinquent boy, became popular; in 1961, "Arega minato no hi da" (That Is the Port Light), a film depicting through young Korean fishermen in Japan the deteriorated relationship between Japan and Korea caused by the dispute of the Syngman Rhee Line, became a hit.
    東映においても社会派映画を次々と製作、1957年、霞ヶ浦を舞台に農村の貧困を描いた、今井の初のカラー作品『米(映画)』や、原爆症の少女と不良少年の恋を描く『純愛物語』、1961年、李承晩ラインをめぐる日韓関係の悪化を、在日朝鮮人の若い漁師を通して描く『あれが港の灯だ』など話題を呼んだ。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • In 1934, he formed a screenplay writing group that managed to establish a presence in the film world with other young filmmakers living in Kyoto's Narutaki area, including Shintaro MIMURA, Sadao YAMANAKA, Eisuke TAKIZAWA, and Fuji YAHIRO; under the combined pen-name 'Kinpachi KAJIWARA,' this group wrote the scenarios for 'Hyakuman ryo no ko' (The Million-Dollar Vase) and 'Soshun Kouchiyama,' both directed by Yamannaka, and for 'Taikoki' (Chronicle of Hideyoshi) and 'Miyamoto Musashi' (Musashi Miyamoto), both directed by Takizawa, and every one of these films written by the group became smash hits.
    9年には三村伸太郎、山中貞雄、滝沢英輔、八尋不二ら京都の鳴滝に住んでいた若手映画人らと映画会社の垣根を超えた脚本執筆集団を結成し、「梶原金八」の合同筆名で山中監督「百万両の壺」「河内山宗俊」、滝沢監督「太閤記」「宮本武蔵」のシナリオを執筆し、それぞれヒットを飛ばした。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • His later work "Yami no naka no Chimimoryo" which was said to be seen as a biography of Ko NAKAHIRA from the present point of view (according to Milkman SAITO) and "Hensokyoku" which aimed to escape from the frame of Japan film were already made into video, so they are easily watched, but their evaluation is controversial (Masahiro OGI selected "Hensokyoku" as the best three films in Kinema Junpo in that year).
    そして現在の目で見ると中平康の自伝のようにも見える（ミルクマン斉藤による）といわれる後期作品『闇の中の魑魅魍魎』と、日本映画の枠からの脱却を計った『変奏曲』は過去にビデオ化されており比較的鑑賞が容易な作品であるが、評価については賛否が分かれている（荻昌弘は『変奏曲』をその年のキネマ旬報ベストテンのベスト3にあげている）。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A plurality of micro inductors 2 which are thin enough to be able to be mounted on a semiconductor wafer or a chip, are simple films having a structure for adjusting an inductance amount in a heat-resistant insulating substrate 1 or are of the same inductance or of different inductance amounts and wiring electrode sections 4 for conducting a required electrical connection with the semiconductor are formed.
    本発明は課題の解決のために半導体ウエハーまたはチップ上に搭載が許されるほどに薄い、耐熱性絶縁基板１にインダクタンス量調整用の構造３を持った膜状の単一の、もしくは同じかあるいは異なるインダクタンス量の複数個の微小インダクター２と半導体と必要な電気的結線をするための配線用電極部４を形成するものである。 - 特許庁
  • Namely, using the ink jet method eliminates the need to process the liquid crystal panel 20 under reduced pressure, and even when the substrate (for example, second substrate 2) of the liquid crystal display panel 20 before the conductive film forming stage is made thin, the conductive films 33 and 34 can be formed on the liquid crystal display panel 20 without causing breakage of the substrate etc.
    すなわち、インクジェット法を用いることにより、液晶表示パネル２０に対して減圧下での処理を行う必要がなく、導電膜形成工程前の液晶表示パネル２０の基板（例えば、第２の基板２）に対して薄型化処理を行った場合にも、基板の破損等を発生させることなく液晶表示パネル２０上に導電膜３３，３４を形成することができる。 - 特許庁
  • In a method for manufacturing an AlGaAs semiconductor laser having a window structure, oxide films are removed from the end faces 8 of a resonator by heat-treating the end faces 8 in a phosphorus-containing atmosphere and, at the same time, the end faces 8 are nonactivated by forming phosphorus adsorbing layers 10 after the end faces 8 are formed in a semiconductor layer constituting a laser structure.
    窓構造を有するＡｌＧａＡｓ系半導体レーザの製造方法において、レーザ構造を形成する半導体層に共振器端面８を形成した後、共振器端面８をリンを含む雰囲気中で熱処理して、共振器端面８から酸化膜９を除去すると共に、共振器端面８をリン吸着層１０によって非活性化する。 - 特許庁
  • This flexible wiring board 10 is provided with a first wiring film 21 and a second wiring film 22, The thickness of the first wiring film 21 is larger than that of the second wiring film 22, so that the section and electric resistance value of the first wiring film 21 can be made larger accordingly even if the widths of the first and second wiring films 21 and 22 are almost the same.
    本発明のフレキシブル配線板１０は、第一の配線膜２１と第二の配線膜２２とを有しており、これらの配線膜のうち、第一の配線膜２１の厚みは第二配線膜２２よりも大きいので、第一、第二の配線膜２１、２２の幅が略等しい場合でも、その厚みの大きい分第一の配線膜２１の断面積と電気抵抗値とを大きくすることができる。 - 特許庁
  • The semiconductor device is constituted with a plurality of lead electrodes 2 formed to a circuit board 20; metallic films formed around the semiconductor element 1 loaded on the circuit board 20, and electrically insulated from the lead electrodes 2 and electrode pads 5 for the semiconductor element; and a plurality of bonding wires 3 connecting a plurality of the electrode pads 5 and a plurality of the lead electrodes 2, respectively.
    回路基板２０に形成される複数のリード電極２と、その回路基板２０に搭載される半導体素子１の周囲に設けられ、リード電極２と半導体素子の電極パッド５から電気的に絶縁される金属膜と、複数の電極パッド５と複数のリード電極２とをそれぞれ接続する複数のボンディングワイヤ３とを具備する半導体装置を構成する。 - 特許庁
  • To provide a display medium with microcapsules which are free of an influence on wall films and display elements (core substances) of the microcapsules when the microcapsules are fixed to a base by using a binder material, has suitable flexibility, and is free of problems of cracking etc., throughout the manufacture and use, the microcapsules being excellently formed into a film and containing the display elements.
    表示要素を内包したマイクロカプセルを有する表示媒体に関し、マイクロカプセルをバインダ材を用いて支持体に固着する際に、マイクロカプセルの壁膜や表示要素（芯物質）に影響を与えることがなく、かつ適度なフレキシビリティを有し、製造時、使用時を通してひび割れ発生等の問題がなく、良好に成膜された表示媒体を提供すること。 - 特許庁
  • To provide an etchant and an etching method which can suppress side etching without corroding electronic members, various lamination films and the like on a substrate, for the substrate which has a lamination structure of tungsten and/or titanium-tungsten alloy which are used for electrodes and interconnection lines for a semiconductor device and a thin film transistor of a liquid crystal display or for interconnection lines and barrier metal for the electrodes.
    半導体装置や液晶表示装置の薄膜トランジスタの電極や配線、またこれらの電極の配線やバリアメタルとして用いられているタングステン及び／又はチタン−タングステン合金の積層構造を有した基板において、基板上の電子部材、各種積層膜等を腐食することなく、サイドエッチングを抑制したエッチング液及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁
  • In the conjugated conductive fiber comprising a non-conductive layer A and a conductive layer B, the non-conductive layer occupies at least 70% of the fiber surface; the non-conductive layer is a polyester prepared by copolymerizing a metal sulfonate group-containing isophthalic acid with a polyalkylene glycol; and the conductive layer is a thermoplastic polymer containing titanium dioxide particles having conductive coating films.
    非導電層Ａと導電層Ｂとからなる複合導電性繊維であって、非導電層が繊維表面の少なくとも７０％を占めてなり、非導電層が、金属スルホネート基含有イソフタル酸とポリアルキレングリコールとを共重合したポリエステルであり、導電層が、導電性皮膜を有する酸化チタン粒子を含む熱可塑性重合体である複合導電性繊。 - 特許庁
  • In the liquid crystal display element comprising a polymer dispersed liquid crystal filled between two transparent substrates respectively having transparent electrode films with desired electrode shapes formed on respective inside surfaces, the polymer dispersed liquid crystal display element is characterized by applying an opaque coating material containing a white pigment to the part other than the part to become liquid crystal display electrodes on the surface side transparent substrate.
    内側表面にそれぞれ所望の電極形状で透明電極膜を形成した２枚の透明基板の間に高分子分散液晶を充填してなる液晶表示素子において、表面側透明基板の液晶表示電極となる部分以外の部分に白色顔料を含有する不透明塗料を塗布したことを特徴とする高分子分散液晶表示素子。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the variable capacitor includes the steps of: forming a first electrode on a substrate; forming a first sacrificial film above the first electrode; forming a second electrode on the first sacrificial film; forming a second sacrificial film on the second electrode; forming a stopper on the second sacrificial film; and removing the first and the second sacrificial films.
    本発明の可変キャパシタ製造方法は、基材上に第１電極を形成する工程と、第１電極の上位に第１犠牲膜を形成する工程と、第１犠牲膜上に第２電極を形成する工程と、第２電極上に第２犠牲膜を形成する工程と、第２犠牲膜上にストッパ部を形成する工程と、第１および第２犠牲膜を除去する工程とを含む。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a semiconductor element in which the semiconductor element having a structure that many silicon thin films are laminated can be efficiently formed, and to further provide a method for forming the semiconductor element having little unevenness in the characteristics between lots and more excellent uniformity and characteristics and the semiconductor element having excellent adhesive properties, environmental resistance, etc.
    本発明は、多数のシリコン系薄膜が積層された構成をもつ半導体素子を、効率よく形成することができる半導体素子の形成方法、さらには、ロット間の特性のばらつきが少なく、より優れた均一性と特性をもつ半導体素子の形成方法、および密着性、耐環境性などに優れた半導体素子を提供することを目的としている。 - 特許庁
  • A second thermal oxidation film is formed even at the surface of the thin oxide film 20, and the same conditions are selected for interfaces between the first thermal oxide film and second thermal oxidation films, and the substrate to form a flat substrate having no step on the surface after the first thermal oxide film and second oxide film are removed.
    この第二の熱処理により薄い酸化膜２０の表面部分にも第二の熱酸化膜が形成され、このとき第一の熱酸化膜及び第二の熱酸化膜の基板との界面が等しく条件を選択することによって、第一の熱酸化膜と第二の熱酸化膜を除去した後には表面には段差のない平坦な基板を形成することが可能となる。 - 特許庁
  • The display surface protection plate is obtained by making the laminate by bonding at least two plastic films through an adhesive layer comprising a thermosetting resin and/or an ionizing radiation curable resin, and after mold stamping into a laminate of predetermined configuration, processing the laminate with heat and/or ionizing radiation exposure to cure the adhesive layer.
    少なくとも２枚以上のプラスチックフィルムを熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線硬化型樹脂からなる接着層を介して貼り合せて積層板を作製し、前記積層板に型抜き処理を行い、所定の形状に成形された積層板とした後、加熱及び／又は電離放射線照射する工程を行い、接着層を硬化させ表示装置用表面保護板を得る。 - 特許庁
  • To provide a polylactic acid-based aqueous dispersion which has excellent transparency, excellent solvent resistance, excellent chemical resistance, and rich flexibility, can form films at room temperature, can easily be coated and impregnated, has good biodegradability, and has excellent film formability and adhesiveness at low temperature, to provide fine particles obtained by drying the polylactic acid-based aqueous dispersion, and to provide a coating film thereof.
    ポリ乳酸系水分散体に関して、透明性、耐溶剤性、耐薬品性に優れ、柔軟性に富み、室温で成膜が可能であり、かつ塗工及び含浸が容易で生分解性が良好で低温での製膜性や接着性に優れるポリ乳酸系水分散体、ポリ乳酸水性分散体乾燥することにより得られる微粒子及びその被膜を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing copper conductive films used for wiring of an image display device, for plating with a uniform plating height in a case where the maximum line width of a level difference structure is four times or more of the minimum line width thereof, and for easily forming a copper wiring pattern having less resistance variation between the level difference structures, without significantly deteriorating the productivity.
    画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して４倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。 - 特許庁
  • A cation exchange film 3 and an anion exchange film 4 are arranged by one between a cathode 1 and an anode 2 to form a concentration chamber and cathode chamber 5 between the cathode 1 and the cation exchange film 3, to form a concentration chamber and anode chamber 6 between the anode 2 and the anion exchange film 4 and to form a disalting chamber 7 between the cation and anion exchange films 3 and 4.
    陰極１と陽極２との間にカチオン交換膜３とアニオン交換膜４とを１枚ずつ配置し、陰極１とカチオン交換膜３との間に濃縮室兼陰極室５を形成し、陽極２とアニオン交換膜４との間に濃縮室兼陽極室６を形成し、カチオン交換膜３とアニオン交換膜４との間に脱塩室７を形成している。 - 特許庁
  • In this receptor for thermal transfer recording with a receptive layer formed on a support, the support is formed of a plurality of films (a polyethylene terephthalate film, etc. ) laminated through an adhesive layer, and the receptive layer contains a salt of an ethylene methacrylic acid copolymer, an inorganic pigment (calcium carbonate, calcined kaolin, etc. ), a polyethylene imine derivative and a crosslinking agent.
    支持体上に受容層を設けた熱転写記録用受容体において、該支持体が複数のフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム等）を接着剤層を介して積層したものであり、該受容層がエチレン−メタクリル酸共重合体の塩、無機顔料（炭酸カルシウム，焼成カオリン等）、ポリエチレンイミン誘導体及び架橋剤を含有することを特徴とする熱転写記録用受容体。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device containing a composite thin film, wherein chemical stability is obtained in any semiconductor device, diffusion or the like is not generated to any element constituting various kinds of thin films arranged vertically in a laminated structure, and application to a protective film or a charge preventing film of semiconductor is possible, and a manufacturing method of a semiconductor device using the composite thin film.
    本発明は、何れの半導体装置においても化学的に安定で、その積層構造において上下に配設される種々の薄膜を構成する何れの元素に対しても拡散等が起きることがない、半導体の保護膜又は帯電防止膜として用い得る複合薄膜を含む半導体装置及び、該複合薄膜を利用する、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a forming method of a fine shape conductor of a copper-based particulate sintering compact exhibiting a superior conductivity, which is formed by utilizing a dispersion liquid of the copper particulates having a surface oxide film layer, wherein after fine pattern drawing, the copper particulates or copper oxide particulates contained in the coated films are reduction treated under a comparatively low temperature, and the copper particulates formed are calcinated.
    表面酸化膜層を有する銅微粒子の分散液を利用して、微細なパターン描画後、比較的に低い温度下において、塗布膜中に含まれる銅微粒子または酸化銅微粒子に還元処理を施し、生成する銅微粒子を焼成して、優れた導電性を示す銅微粒子焼結体型の微細形状導電体を形成する方法の提供。 - 特許庁
  • Then a correlation processing part 33 detects the correlation between examined content reproduced data RCT and difference data DIF read out of a database 25, judges whether there is a difference due to variance characteristic of recording sensitivity from the correlation, and verifies which of a plurality of legally copied films CF the examined film RB is based upon according to the result of the judgment.
    そして、相関処理部３３において、被検コンテンツ再生データＲＣＴと、データベース２５から読み出した差分データＤＩＦとの相関を検出し、その相関を基に、記録感度の固有のバラツキに起因する差異があるか否かを判断し、その判断の結果を基に、被検フィルムＲＦが複数の合法複製フィルムＣＦのうちいずれを基に得られたかを検証する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a laminate of a plurality of polytetrafluoroethylene (PTFE) porous films, including filling with two or more of PTFE mixtures containing a PTFE fine powder and a liquid lubricant sectionalizing a die for extrusion, and extending after extruding the filler, in which a disturbance of a laminar structure hardly occurs even if a filler is pushed out in a sheet form.
    ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）ファインパウダーと液体潤滑剤とを含むＰＴＦＥ配合物の２種以上を、押出用金型に区分して充填し、該充填物を押出した後延伸することを含む、複数のＰＴＦＥ多孔質膜の積層体の製造方法において、該充填物をシート状に押出しても、層構造の乱れが起こりにくい製造方法を提供する。 - 特許庁
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