「Films」を含む例文一覧(13252)

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  • Since hydrogen included in the polycrystalline silicon resistance layer 14a is uniformly absorbed by the Ti films 18a and 18b, the dispersion of the resistance value of the polycrystalline silicon resistance layer 14a due to hydrogen absorption from the polycrystalline silicon resistance layer 14a by a Ti system barrier metal film 26c formed on a second interlayer insulating film 24 above the polycrystalline silicon resistance layer 14a does not occur.
    従って、Ｔｉ膜１８ａ、１８ｂにより多結晶シリコン抵抗層１４ａに含有される水素は均一に吸収されるため、多結晶シリコン抵抗層１４ａ上方の第２層間絶縁膜２４上に形成されているＴｉ系バリヤメタル膜２６ｃによる多結晶シリコン抵抗層１４ａからの水素吸収に起因する多結晶シリコン抵抗層１４ａの抵抗値の変動は生じない。 - 特許庁
  • The transparent vinyl resin porous product reduces the porosity by ≥1% and increases the refractive index by ≥0.01 by heat treatment without the change in the resin composition, and can change the porosity, density, and refractive index by heat treatment, and accordingly can be used in applications for recording materials, plastic optical fibers, functional films and the like.
    本発明は、熱処理によって、樹脂組成の変化を伴わずに空隙率が１％以上低くなり、屈折率が０．０１以上高くなることを特徴とする透明なビニル系樹脂多孔質体を提供でき、また熱処理することによって重量を変化させずに空隙率、密度、屈折率を変化させることができるため、記録材料、プラスチック光ファイバ、機能フィルムなどの用途に使用することができる。 - 特許庁
  • In this thin film deposition system continuously depositing laminated films on substrates, two sputter chambers having plural targets and two load lock chambers having substrate heating treating parts and substrate cooling treating parts movable in the vertical direction are connected to the circumference of a substrate transferring chamber arranged with a robbot having two substrate clamping hands performing the transfer of the substrates between the sputter chamber and the load lock chamber.
    基板上に積層膜を連続して形成する薄膜形成装置であって、複数のターゲットを有するスパッタ室２つと、鉛直方向に移動可能な基板加熱処理部と基板冷却処理部とを有するロードロック室２つとが、スパッタ室及びロードロック室との間で基板の移送を行う２つの基板把持ハンドを有するロボットを配置した基板移送室の周りに、連結されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the endless polyimide joined belt having a joint in its lateral direction has a film manufacturing process for manufacturing a thermosetting aromatic polyimide precursor film, a bonding process for superposing the end parts of the polyimide precursor films to heat- seal them to form a tubular body having a joint part formed thereto and an imidation process for heating the tubular body in a fixed state or under tension to imidate the polyimide precursor.
    熱硬化性芳香族ポリイミド前駆体フィルムを製造するフィルム製造工程、前記ポリイミドの端部を重畳して熱シールし、接合部を形成して管状体とする接合工程、前記管状体を、固定または張力下で加熱して前記ポリイミド前駆体をイミド化するイミド化工程を有する、幅方向に継ぎ目を有するエンドレスのポリイミド接合ベルトの製造方法とする。 - 特許庁
  • The IDT electrode is formed by laminated films containing a substrate layer composed of titanium nitride or titanium laminated on the single crystal piezoelectric substrate one by one and an Al layer, and the single crystal piezoelectric substrate is a lithium tantalate substrate with 46° or more rotation Y-X propagation.
    単結晶圧電基板の表面にＩＤＴ電極を備えかつ金属バンプを介してベース基板上にＦＣＢ実装されたＳＡＷ素子を１以上含むＳＡＷ装置で、ＩＤＴ電極は、単結晶圧電基板上に順次積層した窒化チタン又はチタンからなる下地層とＡｌ層とを含む積層膜により形成されかつ、単結晶圧電基板は４６°以上の回転Ｙ‐Ｘ伝搬タンタル酸リチウム基板である。 - 特許庁
  • His creative activities reached a peak from 1967 to 1970; he directed the masterpiece "Oryu sanjo" (The Appearance of Oryu), part of the "Hibotanbakuto" series, starring Junko FUJI; made successful action movies such as "By a Man's Face Shall You Know Him" and "The Eighteen-year Sentence" which starred Noboru ANDO; and directed "Showa onna bakuto" (A Showa Lady Gambler), a revenge story featuring a strange curse in which Kyoko ENAMI, a star of yakuza films who had moved from Daiei to Toei, played the lead.
    その創作活動は1967年から1970年にピークを迎え、藤純子主演の『緋牡丹博徒』ではシリーズ中屈指の傑作である『お竜参上』を監督し、安藤昇を主演に迎え『男の顔は履歴書』や『懲役十八年』などのアクション映画を成功させ、大映の任侠スターだった江波杏子を東映に迎えて一種異様な怨念に彩られた復讐物語『昭和おんな博徒』を手掛けた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • However, the film director Nagisa OSHIMA, whose film was not listed, strongly protested against the office of the Cannes International Film Festival, and caused a fuss (On the background, although there was a provision that only one film could be listed officially from one country, the Motion Picture Producers Association of Japan, Inc. sent both films of Nakahira and Oshima, and the office of Cannes International Film Festival selected "Yami no naka no Chimimoryo" as the official film).
    だが、これに洩れた大島渚監督が選考経緯不明瞭としてカンヌ国際映画祭事務当局に強く抗議、騒動となった（日本映画製作者連盟が正式出品作は1国につき1作品の規定にも関わらず、中平・大島両監督の作品を送り、カンヌ国際映画祭事務当局によって『闇の中の魑魅魍魎』が正式出品作として選ばれたという経緯があった）。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The method for manufacturing the optical retardation film comprises adjusting a mixing ratio of at least two kinds of polymers, a polymer A and a polymer B which are mutually soluble and exhibit mutually different wavelength dispersion characteristics of retardation when made into optical retardation films and making the mixture form a film.
    互いに相溶するものであって、かつ位相差フィルムとしたときの位相差波長分散が異なる少なくとも２種類のポリマーＡ及びポリマーＢの混合比を調整し該混合物をフィルムに形成する位相差フィルムの製造方法であって、ポリマーＡを位相差フィルムとしたときのＲ（４５０）／Ｒ（５５０）と、ポリマーＢを位相差フィルムとしたときのＲ（４５０）／Ｒ（５５０）との差が０．０５以上であるポリマーＡとポリマーＢを用いる。 - 特許庁
  • To obtain the subject agent capable of imparting formed products including textile products, films and sheets with excellent hygroscopicity and its sustainability by designing itself to consist mainly of a specific hygroscopic monomer and a specific polyoxyethylene-based polyether.
    本発明は、中空繊維の充填加工における問題点を解決し、加工反内、加工反間等での吸湿率レベルにバラツキがないように、且つ、大量生産に適用可能なプロセスで工業生産できる吸湿加工剤を提供すると共に、通常の繊維、フィルム、シート等の成形物に対して加工した場合にも優れた吸湿性及びその耐久性を安定して付与することができる吸湿加工剤を提供することにある。 - 特許庁
  • The semiconductor device includes the NMIS transistor formed on the NMIS region (3) on a semiconductor substrate (1), a PMIS transistor formed on the PMIS region (4) formed so as to have a space between the NMIS region (3) on the semiconductor substrate (1), and continuous stressed insulating films (22, 22a) having the internal stress.
    半導体装置は、半導体基板(1)におけるＮＭＩＳ領域(3)上に形成されたＮＭＩＳトランジスタと、半導体基板(1)におけるＮＭＩＳ領域(3)と間隔をおいて形成されたＰＭＩＳ領域(4)上に形成されたＰＭＩＳトランジスタと、半導体基板(1)上に、ＮＭＩＳトランジスタとＰＭＩＳトランジスタとを覆うように形成され、内部応力を有する連続した応力絶縁膜(22、22a)とを備える。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method for film carrier tapes for electronic component mounting and an etching processor of film carrier tapes for electronic component mounting, which can provide film carrier tapes for electronic component mounting satisfactory in electrical characteristics, mechanical characteristics, etc., with a uniform finish of line widths in wiring patterns, for the purpose of forming wiring patterns by etching treatment of films with an etchant in an etching processor.
    エッチング処理装置内において、フィルムをエッチング液にてエッチング処理して、配線パターンを形成する際に、配線パターンの線幅の仕上がりが均一で、電気諸特性、機械的強度などの良好な電子部品実装用フィルムキャリアテープを提供できる電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法、ならびにそのための電子部品実装用フィルムキャリアテープのエッチング処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a non-halogen flame-retardant adhesive resin admixture used for flexible printed circuit board-related products such as flexible copper-clad laminates, cover-lay films, adhesives or flexible printed circuit boards which is non-halogen and flame-retardant and exhibits high adhesive strength and excellent insulation resistance and migration properties, and flexible printed circuit board-related products using the same.
    フレキシブル銅張積層板、カバーレイフィルム、接着剤並びにフレキシブルプリント配線基板等のフレキシブルプリント配線基板関連製品に使用する接着性の樹脂混和物であって、ノンハロゲンの難燃性であり、接着強度が高く絶縁抵抗が優れ、かつマイグレーション性に優れたノンハロゲン難燃接着性樹脂混和物、およびそれを用いたフレキシブルプリント配線基板関連製品を提供することにある。 - 特許庁
  • A thin SiO2 film 2 and an amorphous silicon thin film 3 are sequentially formed on a silicon substrate 1, and then subjected to heat treatment in an atmosphere containing NO as a nitriding species to form an oxy nitride film 4A containing nitrogen at an interface between the films 2 and 3 with use of the film 3 forming an interface with the film 2 as a silicon supply source.
    シリコン基板１上に薄いＳｉ０_2膜２、非晶質シリコン薄膜３ａを順次形成し、次に窒化種としてＮＯを含む雰囲気中での熱処理により、ＳｉＯ_2膜２との界面の非晶質シリコン薄膜３ａをシリコン供給源としてＳｉ０_2膜２と非晶質シリコン薄膜３ａとの界面にオキシナイトライド膜４Ａを形成することにより，ゲート絶縁膜として窒素を含むＳｉＯＮ膜４を形成する。 - 特許庁
  • The apparatus for simultaneously forming the plating films on both sides of the tabular substrate 33 comprises a plating tank 22 for storing a plating liquid 31; and a holder 23 for plating, which holds the tabular substrate 33 in a state of contacting both sides with the plating liquid, and separates the plating liquid 31 stored in the plating tank 22 into two regions while cooperating with the tabular substrate 33.
    本発明の両面メッキ装置は、板状基材３３の両面に同時にメッキ膜を形成する装置であって、メッキ液３１を貯留するメッキ槽２２と、板状基材３３をその両面をメッキ液に接触させた状態で保持し、かつ板状基材３３とともにメッキ槽２２内に貯留されるメッキ液３１を２つの領域に分離するメッキ用治具２３とを備えてなることを特徴とする。 - 特許庁
  • The high polymer heater of a multilayered structure comprises a pair of electrodes 3 sandwiched between a base side resin film 2 and a cover side resin film 5; and a high polymer resistor 4 formed between a pair of the electrodes, and at least one of the base side resin film 2 and the cover side resin film 5 comprises adhered films including the same resin component or two kinds or more of different resin components.
    ベース側樹脂フィルム２とカバー側樹脂フィルム５に狭持してなる一対の電極３と、該一対の電極間に形成された高分子抵抗体４とを備え、ベース側樹脂フィルム２及びカバー側樹脂フィルム５の少なくとも一つが、同一樹脂成分からなるフィルムの貼り合わせ、もしくは異なる２種以上の樹脂成分からなる多層構造体である高分子発熱体とする。 - 特許庁
  • The display device includes: a silicone oxide film 13 and a silicon nitride film 14 that become base films formed on an insulating substrate 11; a polycrystalline silicon electrode 18 formed on the base film; a gate insulator 16 formed on the polycrystalline silicon electrode 18; and a gate metal electrode 17 formed at a position opposite to the polycrystalline silicon electrode 18 on the gate insulator 16.
    本発明にかかる表示装置は、絶縁基板１１上に形成された下地膜となるシリコン酸化膜１３及びシリコン窒化膜１４と、この下地膜上に形成された多結晶シリコン電極１８と、多結晶シリコン電極１８上に形成されたゲート絶縁膜１６と、ゲート絶縁膜１６上に多結晶シリコン電極１８と対向する位置に形成されたゲートメタル電極１７とを有している。 - 特許庁
  • The organic EL element enables to take out components which normally turn waveguide light or reflective light at total reflection as scattered light generated in gaps by laminating low-refraction optical thin films introducing gaps controlled down to a size smaller than a visible light wavelength, and thus improving the light-taking-out efficiency and decreasing operation current and consumption power accordingly.
    本発明では、有機ＥＬ発光素子において、可視光波長程度以下のサイズに制御した空隙を導入した低屈折率の光学薄膜を積層することにより、通常は全反射で導波光や反射光となる成分も、空隙において生じる散乱光として外部へ引き出し、光取り出し効率を改善すると共にそれに伴って動作電流や消費電力を低減することを可能とした。 - 特許庁
  • The magnetic sensor using a spin valve type magnetoresistance effect element formed by laminating two ferromagnetic films through a non-magnetic intermediate layer has characteristics wherein the shape of the magnetoresistance effect element is a shape of a plurality of linked rings, and each ring is conducted in the electrically connected state, and the electric resistance of the magnetresistance effect element is changed to an external magnetic field.
    本発明の磁気センサは、非磁性の中間層を介して２つの強磁性膜が積層されたスピンバルブ型の磁気抵抗効果素子を用いた磁気センサにおいて、前記磁気抵抗効果素子の形状は複数のリングが連なった形状であり、各々のリングが電気的に接続されている状態で通電され、前記磁気抵抗効果素子の電気抵抗が外部磁場に対して変化することを特徴とする。 - 特許庁
  • The semiconductor device comprises a semiconductor chip 10, a substrate 20 mounted with the chip 10, and electrically joining sections 26 formed on the substrate 20, and electrically joining terminals 40 arranged at the electrically joining sections 26 and each including a brazing material 46, a plurality of particles 42 dispersed in the brazing material 46 and composed of resin, and conductor films 44 that coat surfaces of the respective particles 42.
    半導体装置は、半導体チップ１０と、半導体チップ１０が搭載された基板２０と、基板２０に形成された電気的接合部２６と、電気的接合部２６に設けられ、ろう材４６と、前記ろう材４６中に分散され樹脂からなる複数の粒子４２と、それぞれの粒子４２の表面をコーティングしてなる導体皮膜４４とを含む電気的接合用端子４０と、を含む。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing optical recording media which is capable of forming the optical disk media of the number of the layers greater than the number of deposition chambers disposed in sputtering equipment provided with a plurality of the deposition chambers for forming arbitrary thin films and is extremely small in the variation of the recording and reproducing characteristics among the formed optical recording media when mass-producing the optical disk media.
    任意薄膜を形成する成膜室を複数個備えたスパッタリング装置において、前記スパッタリング装置に備えられた成膜室の室数よりも層数の多い光ディスク媒体を形成することを可能とし、かつ、前記光ディスク媒体を大量生産する場合に、形成された光ディスク媒体間の記録再生特性のばらつきが極めて小さい光ディスク媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The device for vapor deposition of films for the organic EL elements vaporizes an organic material 5 for the organic EL elements in the container 2 and deposits the material in thin film on the surface of a film-forming substrate 6 and comprises the container 2 constructed of a material capable of generating heat by electromagnetic induction and a means for heating the container for vaporizing the organic material 5 by electromagnetic induction.
    本発明の装置は、容器２中の有機ＥＬ素子用の有機材料５を気化し、成膜用基板６上で堆積させて薄膜を形成する有機ＥＬ薄膜蒸着において、電磁誘導により発熱する材料で構成された前記容器２と、該有機材料５を気化させるため前記容器を電磁誘導加熱する手段とを備えた有機ＥＬ素子蒸着用装置である。 - 特許庁
  • Therefore, in each pixel region, the reflecting film is provided in the insulating layer in an island shape so as to be separated from adjacent reflecting films and isolated form circumferential reflecting film, thereby limiting influences to only the pixel region even if the color filter layer has a defect such as a pinhole or conductive foreign matter such as metal is mixed to electrically connect the reflecting film and transparent electrode to each other.
    よって、各画素領域内において、反射膜は、絶縁層中に島状に設けられることになり、周囲の反射膜とは離隔されることになり、カラーフィルタ層にピンホールなどの欠陥が存在したり、金属などの導電性の異物が混入し、反射膜と透明電極との間が電気的に導通した場合でも、その影響は当該画素領域のみに抑制することができる。 - 特許庁
  • In a semiconductor device comprising a fuse box, in a frames- like guard ring 1 consisting of a semiconductor region formed on a semiconductor substrate 100, field regions 2 and insulating films 13 consisting of the semiconductor region are arranged so as to be adjacent each other, and at least two gate electrodes 8, 9 are provided on at least one insulating film, and the fuse member 6 connecting two gate electrodes is provided.
    ヒューズボックスを備えた半導体装置は、半導体基板１００上に形成された半導体領域からなる枠状のガードリング１内に、半導体領域からなるフィールド領域２と絶縁膜１３とが互いに隣接して配置され、少なくとも一つの前記絶縁膜上には、少なくとも２つのゲート電極８、９が設けられ、前記２つのゲート電極を接続するヒューズ部材６が設けられてなる。 - 特許庁
  • The optical wavelength conversion element comprising a substrate and multilayered films formed by alternately laminating semiconductor layers which are active layers 11 and dielectric layers which are inert layers 12 on this substrate is set with the film thicknesses of the semiconductor layers and a dielectric layer within a range satisfying the pseudo phase matching conditions and generates the second harmonic light 20 in the reverse direction with respect to the progressing direction of incident basic wave light 10.
    基板と、この基板上に活性層１１である半導体層と不活性層１２である誘電体層とが交互に積層してなる多層膜とから構成される光波長変換素子において、半導体層および誘電体層の膜厚が擬似位相整合条件を満足する範囲に設定され、入射基本波光１０の進行方向に対し逆方向に第二高調波光２０を発生させる。 - 特許庁
  • A state setting part 22 of this touch panel device that detects the depressed position coordinates of a resistance film type touch panel opens the electrode terminals of one of both resistance films while applying the fixed voltage between electrodes of the other resistance film, uses one of electrode terminals of the former resistance film as a coordinate detection terminal and pulls up and down the coordinate detection terminal via resistance when each of axial coordinates of depressed positions is detected.
    抵抗膜式タッチパネルの押下位置座標を検出するタッチパネル装置において、状態設定部２２は、押下位置の各軸座標を検出する際、一方の抵抗膜の電極間に一定電圧を加え、かつ、他方の抵抗膜の電極端子を開放すると共に、他方の抵抗膜の一つの電極端子を座標検出端子とし、この端子を抵抗を介してプルアップ、プルダウンする。 - 特許庁
  • By forming a silver coating film 007 on one or more layers of coating films (003, 004, 005) formed on a substrate 002 for a lead frame via a coating film 006 acting as a sacrificial anode, discoloration of the silver coating film 007 by heating and a diffusion of a metal element are suppressed; and thereby superior light emission rate can be secured stably, while light emission characteristics are stabilized.
    リードフレーム用基材００２上に形成された１または複数層の被膜（００３，００４，００５）上に、犠牲アノードとして作用する被膜００６を介して銀被膜００７を形成することにより、銀被膜００７が加熱により変色することや金属元素が拡散されることを抑制でき、発光特性を安定させながら、安定して良好な発光率を確保することができる。 - 特許庁
  • Or, this lighting system has a light reflecting type luminaire main body 5, a fluorescent lamp 6 attached opposing a light reflecting surface 5' of the luminaire main body 5, and a light guide body 7 arranged opposing the fluorescent lamp 6, and ultraviolet ray absorbent films 7b are formed on opposing surfaces of the light reflecting surface 5' of the luminaire main body 5 and the light guide body 7.
    または、光反射型の照明器具本体５と、前記照明器具本体５の光反射面５′に対向して装着された蛍光ランプ６と、前記蛍光ランプ６に対向して配置された導光体７とを有する照明装置であって、前記照明器具本体５の光反射面５′および導光体７の対向面に紫外線吸収膜7bが形成されていることを特徴とする照明装置である。 - 特許庁
  • In the method for simultaneously forming the contact holes on a gate electrode on the Si active layer and via an insulating SiO_2 film, oxide films that are left in the irregularities of the Si active layer are removed effectively, by subsequently performing sputter etching by Ar gas with a sputtering device and continuously performing sputtering deposition after performing reactive ion etching by a fluorine gas system and wet etching by a buffered hydrofluoric acid.
    Ｓｉ活性層上、及び絶縁ＳｉＯ_２膜を介してゲート電極上にコンタクト孔を同時に形成する方法において、フッ素ガス系による反応性イオンエッチング及びバッファードフッ酸によるウェットエッチングの後に、引き続いてスパッタ装置によりＡｒガスによるスパッタエッチング、及びスパッタ成膜を連続して行うことにより、Ｓｉ活性層の凹凸部に残留する酸化膜を効果的に除去する。 - 特許庁
  • The production method of the probe element is characterized in that it contains a first step for preparing a stage having a main surface and one or more recesses, and a second step for forming, on the main surface, a first photoresist layer which is formed by laminating two or more dry photoresist films and has a projection penetrating the first photoresist layer in the thickness direction to reach the recess.
    プローブ要素の製造方法は、主面を有すると共に該主面に１以上の凹所を有する基台を準備する第１のステップと、フィルム状をした２以上の乾燥ホトレジストを重ねた第１のホトレジスト層であって当該第１のホトレジスト層をこれの厚さ方向に貫通して前記凹所に達する突起部を有する第１のホトレジスト層を前記主面に形成する第２のステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a new phenolic resin or new epoxy resin capable of being self-dispersed in aqueous media without modifying phenolic hydroxyl groups in the phenolic resin or epoxy groups in the epoxy resin and without using a large amount of an emulsifier, and to provide a phenolic resin composition or epoxy resin composition which contains the new phenolic resin or new epoxy resin, is excellent in storage stability and gives cured coating films excellent in mechanical strengths.
    フェノール系樹脂中のフェノール性水酸基、或いは、エポキシ樹脂中のエポキシ基を何等変性することなく、かつ、多量の乳化剤を用いることなく水性媒体中で自己分散可能な新規フェノール系樹脂又は新規エポキシ樹脂、及びこれを含有し保存安定性に優れ、かつ、その硬化塗膜の機械的強度に優れるフェノール系樹脂組成物又はエポキシ樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
  • In a method for holding molds during pouring molten metal into vacuum molds, in which upper and lower mold halves are mated with one another, comprising suction flasks communicating with a vacuum source via a suction pipeline, forming films, a heat-resistive granular filler, and shielding members, the pressure in the vacuum molds during pouring is detected so as to be maintained constant on the basis of the detected results.
    真空源に吸引配管を介して連通する吸引鋳枠、成形フィルム、耐熱性粒状充填物、及び遮蔽部材とにより造型された上下半割れ減圧鋳型を型合せして構成した減圧鋳型への注湯時における鋳型保持方法であって、前記注湯時に前記減圧鋳型内部の圧力を検知すると共にその検知結果に基づいて前記減圧鋳型内の圧力を一定に保つ。 - 特許庁
  • An etchant that selectively etches an oxide film containing hafnium and silicon, an oxide film containing hafnium and aluminium, an oxide film containing zirconium and silicon, or an oxide film containing zirconium and aluminium with respect to a thermally oxidized film; a method for producing an etching material that etches materials to be etched on which the above oxide films and a silicon oxide film are formed; and the etching material obtained from the method are provided.
    熱酸化膜（THOX）に対してハフニウムとシリコンを含む酸化物膜，ハフニウムとアルミニウムを含む酸化物膜，ジルコニウムとシリコンを含む酸化物膜又はジルコニウムとアルミニウムを含む酸化物膜を選択的にエッチングするエッチング液；該エッチング液を用いて、前記酸化物膜並びにシリコン酸化膜が形成された被エッチング物をエッチング処理するエッチング処理物の製造方法；該方法により得ることができるエッチング処理物。 - 特許庁
  • To provide a polishing solution for polishing hard barrier layers and layer insulation films while the surface of cupper or a cupper alloy in a recess is protected during polishing to obtain a polished superior-flatness clean substrate surface, in the manufacturing of an electronic apparatus such as a semiconductor device, and to provide a high reliability chemical/mechanical polishing method superior in microprocessing, thinning, and dimension accuracy.
    半導体デバイスなど電子機器の製造において、硬いバリア層や層間絶縁膜を研磨する際に、凹部の銅或いは銅合金表面を研磨中に保護することにより、研磨後に平坦性に優れた清浄な基体表面が得られる研磨液、及び前記研磨液を用いて生産性が高く、微細化、薄膜化、寸法精度に優れ、信頼性の高い化学機械研磨を行う研磨方法を提供する。 - 特許庁
  • In the transparent polyimide composite tubular body and production method, the tubular body consists of at least two layers of polyimide resin films comprising an inner layer high in mechanical characteristics and an outer layer of high light transmittance, and the polyimide resin film has a light transmittance at 550 nm wavelength of ≥50%, a tensile strength of ≥15 kgf/mm^2, and a tensile elastic modulus of ≥350 kgf/mm^2.
    機械的特性の高い内層及び光透過率の高い外層からなる少なくとも２層のポリイミド樹脂被膜からなる管状物であって、前記被膜の光透過率が波長５５０ｎｍにおいて５０％以上であり、引張強度が１５ｋｇｆ／ｍｍ^２以上、引張弾性率が３５０ｋｇｆ／ｍｍ^２以上の特性を有する透明ポリイミド複合管状物及びその製造方法。 - 特許庁
  • A spacer 20a comprising a substance having a high corrosion selection ratio for an interlayer insulation film 26 is formed on the side wall of a gate electrode 16, and the contact hole exposed between the gate electrodes 16 can be formed by a self matching method by forming the upper part of the gate electrode and the upper part of the substrate forming the source and drain areas in high melting point metal silicide films 18a, 22.
    層間絶縁膜２６に対して高食刻選択比を有する物質からなるスペーサ２０ａをゲート電極１６の側壁に形成し、ゲート電極１６の上部とソース及びドレイン領域が形成される基板の上部を高融点金属シリサイド膜１８ａ，２２として形成することにより、ゲート電極１６とゲート電極１６との間を露出させるコンタクトホールを自己整合方式で形成可能とする。 - 特許庁
  • To provide an acrylic adhesive composition for surface protective films having excellent adhesiveness and reliability with little generation of static electricity by peeling electrification even in high-speed peeling during peeling of the film from an optical member of a large area as the surface protective film for optical members such as polarizing plates provided with a layer having fine unevennesses such as an anti-glare layer, and to provide an acrylic adhesive layer using the composition.
    アンチグレア層など微細な凹凸を有する層を設けた偏光板などの光学部材表面保護フィルムとして、大面積の光学部材からの該フィルムの剥離に際して、高速剥離においても剥離帯電による静電気の発生が少なく、接着性 信頼性に優れた表面保護フィルム用アクリル系粘着剤組成物ならびに、それを用いてなるアクリル系粘着剤層を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a power generation film having a high output density even at a low temperature of approx, 800°C, a method of manufacturing the power generation films at low cost by simplified processes, and a solid oxide fuel cell using this power generation film by making the electrolyte film thinner without damage such as peels and cracks or faults such as trapping of air bubbles in the interface between the electrode and the electrolyte.
    電極と電解質との間の界面で剥離や割れ等の損傷や気泡のかみ込み等の欠陥がなく、電解質膜を薄くすることにより約８００℃の低温でも高い出力密度を有する発電膜および該発電膜を簡素化された製造工程により低コストで製造する製造方法ならびにこの発電膜を用いた固体酸化物形燃料電池を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • Further the photonic crystal can be manufactured by a method for providing cavities of similar shapes concentric to the in-plane direction by lithography and etching in multiple layer films having a periodic refractive-index structure in a lamination direction or by a method for providing a periodic refractive-index structure of the in-plane and lamination directions by self cloning on a base of a similar shape concentric to the in-plane direction.
    また、本フォトニック結晶は、積層方向の屈折率周期構造を有する多層膜に対して、リソグラフィとエッチングにより面内方向の同心的な相似形状の空洞を設ける方法、または、面内方向の同心的な相似形状を形成したベース上に、自己クローニングにより面内方向と積層方向の屈折率周期構造を設ける方法で製造することができる。 - 特許庁
  • A plurality of conductors 2 laid parallel are pinched from two sides by heat-resistant insulating substance films 4 having adhesive layers 3 on the inside followed by hot pressing to be affixed together, and each film 4 is provided with slits 5 positioned between the conductors 2 to serve for tearing off, and a sticky tape layer 6 for fixing wirings is formed on one outer surface of the film 4.
    複数本の並列配置された導体２を、内側に接着層３を有する耐熱性絶縁体フィルム４で、その両面から挟むと共に加圧・加熱して貼り合わせ、かつ、耐熱性絶縁体フィルム４に、導体２間に位置して引き裂き分離用のスリット５を形成し、耐熱性絶縁体フィルム４外側の片面に配線固定用の粘着テープ層６を形成することで解決している。 - 特許庁
  • To provide a carbodiimide-based compound having good dispersibility of pigments and improved adhesiveness to plastic moldings and films; a pigment-dispersion composition which utilizes the compound and can suitably be used in a wide range of applications such as a coating, a printing ink, an ink-jet ink and a photosensitive resist composition; and a printing ink composition and a pigment-dispersion resist composition comprising the pigment-dispersion composition.
    本発明の課題は、顔料の良好な分散性を有し、更にプラスチック成型品やフィルムへの接着性の改善を実現するカルボジイミド系化合物、該化合物を利用した、塗料、印刷インキ、インクジェット用インク、感光性レジスト組成物等の広い範囲で好適に使用し得る顔料分散組成物、該顔料分散組成物を含有する印刷インキ組成物、顔料分散レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁
  • The seiconductor device comprises an electrode pad 12 formed on a semiconductor substrate 10, an external electrode 16 formed on the pad 12 so as to be electrically connected to the pad 12, a semiconductor element 24 formed on the substrate 10 under the electrode 16 through interlayer insulating films 20, 22, and a gate oxide film 26 of the semiconductor element 24 formed in standing off under an edge of the electrode 16.
    半導体基板１０上に形成された電極パッド１２と、電極パッド１２と電気的に接続されるように、電極パッド１２上に形成された外部電極１６と、外部電極１６の直下の半導体基板１０上に層間絶縁膜２０，２２を介して形成された半導体素子２４と、を含み、半導体素子２４のゲート酸化膜２６は、外部電極１６のエッジの真下を避けるように、形成された。 - 特許庁
  • The interface between a lower capacitor and a capacitor insulating film is flattened by crystallizing amorphous SRO films 14 and 17 in continuous way by heat treatment, after forming an amorphous SRO film 14 as a lower capacitor electrode, a polycrystalline BST film 16 consisting of Ba(X)Sr(1- X)TiO (3) as a capacitor insulating film, and an amorphous SRO film 17 as an upper capacitor electrode.
    下部キャパシタ電極としての非晶質ＳＲＯ膜１４、キャパシタ絶縁膜としてＢａ（Ｘ）Ｓｒ（１−Ｘ）ＴｉＯ（３）からなる多結晶ＢＳＴ膜１６、上部キャパシタ電極としての非晶質ＳＲＯ膜１７を連続的に形成した後、熱処理により非晶質ＳＲＯ膜１４，１７を一括して結晶化する事により、下部キャパシタ電極とキャパシタ絶縁膜との界面を平担にする。 - 特許庁
  • To provide an electro-optical device having such a configuration that can reliably shield transistors on one substrate from light, while reducing variation in the aperture ratio among pixels in a display area by using light shielding films formed on the other substrate and also preventing variation in the pixel aperture ratio among liquid crystal devices even when a positional deviation of the other substrate with respect to the one substrate occurs in a bonding process.
    貼り合わせにおいて、一方の基板に対して他方の基板の位置ずれが生じたとしても、他方の基板における遮光膜によって、表示領域における各画素の開口率のばらつきを低減させ、液晶装置毎に、画素の開口率がばらつくことを防ぐとともに、一方の基板のトランジスタを確実に遮光することができる構成を有する電気光学装置を提供する。 - 特許庁
  • The device is provided with interlayer insulating films for rewiring 13 on a surface of an element forming face side of the semiconductor chip 10 where PD 13 is formed, EBP 21 corresponding to PD13 formed on the film, DBP 23 where corresponding PD does not exist on the chip 10, the wiring 41 connecting EBP 21 corresponding to PD13, and DB rewiring 43 connecting DBP23 with prescribed EBP 21.
    ＰＤ１３が形成された半導体チップ１０の素子形成面側の表面に更に再配線用層間絶縁膜１３と、この上に形成された各ＰＤ１３とそれぞれ対応するＥＢＰ２１と、チップ１０上に対応するＰＤのないＤＢＰ２３と、ＰＤ１３と対応するＥＢＰ２１を接続する４１と、ＤＢＰ２３と所定のＥＢＰ２１とを接続するＤＢ再配線４３を備える。 - 特許庁
  • To provide a silver halide color photographic sensitive material so as to obtain the best print with high efficiency even for printing color negative films photographed under any photographing conditions, and to provide a silver halide color photographic sensitive material having decreased influences by fluctuation of the activity level of a developing solution during development, having improved print stability and little fog by leaked light due to light piping and showing preferable sharpness.
    あらゆる撮影条件で撮影されたカラーネガフィルムのプリントにおいて、最良プリントが高効率で得られるハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供することにあり、さらには、現像処理時の現像処理液活性度レベルの変動による影響が低減され、プリント安定性が改良され、且つ、ライトパイピングによる漏光カブリが少なく、鮮鋭性も良好なハロゲン化銀カラー写真感光材料の提供。 - 特許庁
  • In an active matrix substrate in which pixel electrodes are formed in a matrix shape on the substrate, plural scanning lines and plural signal lines are formed in the peripheries of the pixel electrodes and thin film transistors driving the pixel electrodes are formed at the vicinities of the intersections of both the lines, metallic films whose potentials are the same as those of the pixel electrodes are formed at the edges of the pixel electrodes.
    基板上に絵素電極がマトリクス状に形成され、該絵素電極の周辺部を通って、複数の走査配線および複数の信号配線が形成され、両配線の交差位置近傍に、絵素電極を駆動する薄膜トランジスタが形成されたアクティブマトリクス基板において、前記絵素電極のエッジとなる部分に絵素電極と同電位の金属膜が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • A single particle film is formed by constituting a particulate structure having a cyclic structure spreading in two dimensions on a supporting material by using two or more kinds of functional particulates whose particle sizes are uniform, single particle films are laminated to structure a three-dimensional particulate structures, and at least two or more kinds of functional particulates are composed of particulates of the same composition, thereby obtaining a particulate thin film.
    粒径が均一な２種類以上の機能性微粒子によって２次元方向に拡がる周期構造を有する微粒子構造体を支持材上に構成して単粒子膜を形成し、同単粒子膜を積層して３次元構造の微粒子構造体を構築し、少なくとも２種類以上の機能性微粒子が同一組成の微粒子で構成されるようにして微粒子薄膜を得る。 - 特許庁
  • The patterned single-layer insulating particulate films are subjected to covalent bond via a first organic film where a layer of an insulating particulate film selectively formed on the surface of the base material is formed selectively on the surface of the base material, and a second organic film formed on the surface of the insulating particulate.
    基材表面に選択的に１層形成された絶縁性微粒子の膜が基材表面に選択的に形成された第１の有機膜と絶縁性微粒子表面に形成された第２の有機膜を介して互いに共有結合していることを特徴とするパターン状の単層絶縁性微粒子膜、更に、これらの有機膜が互いに異なることを特徴とするパターン状の単層絶縁性微粒子膜を形成する。 - 特許庁
  • To provide an acetylene group-containing organic compound easily polymerizable by low-temperature heat or ultraviolet irradiation, to provide a method for vacuum deposition polymerization of the organic compound enabling organic thin film of uniform thickness to be obtained without producing any radial and byproduct, to provide such thin film increased in thermal stability through the above method, and to provide electroluminescent elements using the above thin films.
    低温の熱、あるいは紫外線により容易に重合反応を起こすアセチレン基を含む有機化合物；上記の化合物を使用して、ラジカル及び副産物を生成することなく、均一な厚さの有機薄膜を得ることができる蒸着重合法；上記の方法により製造された、熱安定性が増加した蒸着重合薄膜；及び上記の薄膜を使用した電気発光素子を提供すること。 - 特許庁
  • The end surfaces of the films 15, 17 which are located on the plate 5 and the plate 7, respectively, are disconnected to provide a non-contact structure consisting of the film 15 on the plate 5 and the film 17 on the plate 7.
    扉外板５と扉内板７のそれぞれの外縁部１１を接続して形成する中空部１３の内面側にアルミフィルム１５，１７（１００〜３００μｍ）を配設し、該アルミフィルム１５，１７で中空部１３を作ると共に、扉外板５と扉内板７のそれぞれに設けた上記アルミフィルム１５，１７の端面部は非接触とし、扉外板５のアルミフィルム１５と扉内板７のアルミフィルム１７とを非接触構造としたものである。 - 特許庁
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