「Films」を含む例文一覧(13252)

<前へ 1 2 .... 256 257 258 259 260 261 262 263 264 265 266 次へ>
  • An absorbing material 30 is constituted by laminating resin films 33 on both faces of a base substance 31 in which small pieces of flexible polyurethane foam with cell membrane removed are connected with a binder, and sound absorption is improved by membrane oscillation of the resin film 33, and it is prevented that the small pieces of the flexible polyurethane foam with cell membrane removed, are fallen off like powder from the base substance 31.
    セル膜の除去された軟質ポリウレタン発泡体の小片をバインダーで結合した基体31の両面に樹脂フィルム33を積層して吸音材30を構成し、樹脂フィルム33による膜振動で吸音性を高めると共に、セル膜の除去された軟質ポリウレタン発泡体の小片が基体31から粉状に脱落するのを防ぐようにした。 - 特許庁
  • The plasma silicon nitride film used for a Cu diffusion protection film left as a part of the interlayer films 1, 4 between the upper and lower interconnections 2, 5 when the plasma silicon nitride film is deposited on the Cu film which is formed as the interconnection part 2 of the semiconductor device prevent an increase in interconnection capacitance caused by high permittivity of the plasma silicon nitride film to realize decrease in the wiring capacitance.
    これにより、半導体装置の配線部2として形成されるCu膜の上にプラズマシリコン窒化膜を堆積する場合、Cuの拡散防止膜として用いられるプラズマシリコン窒化膜が上下配線2,5間の層間膜1,4の一部に残ることで、プラズマシリコン窒化膜の高誘電率に起因する配線容量の増加を防止し、配線容量の低減を達成することができる。 - 特許庁
  • To provide a removable aqueous adhesive composition of one pack type, usable for applications such as pressure sensitive adhesive tapes, pressure sensitive adhesive sheets, pressure sensitive adhesive labels and surface protection films, excellent in adhesiveness, retentivity and curved surface adhesion to several adherends, hardly causing adhesiveness change with the lapse, excellent in stain resistance such as remaining no adhesive deposit when removed and having excellent water resistance.
    粘着テープ、粘着シート、粘着ラベル、表面保護フィルムなどの用途に使用でき、種々の被着体に対する粘着性、保持力、曲面接着性に優れ、かつ、経時での粘着力変化が少なく、再剥離後の糊残りもないといった耐汚染性に優れ、更には、耐水性にも優れた一液型の再剥離型水性粘着剤組成物を提供すること。 - 特許庁
  • Further, the electrooptical device has storage capacitors which are arranged above the data lines and each constituted by laminating a pixel-potential-side electrode, a dielectric film, and a fixed-potential-side electrode in order from below, pixel electrodes which are arranged by pixels and electrically connected to the pixel-potential-side electrodes and thin film transistors, and an inter-layer insulating film laminated above the dielectric films.
    更に、データ線より上層側に配置されており、画素電位側電極、誘電体膜及び固定電位側電極が下層側から順に積層されてなる蓄積容量と、画素毎に配置されており、画素電位側電極及び薄膜トランジスタに電気的に接続された画素電極と、誘電体膜の上層側に積層された層間絶縁膜とを備える。 - 特許庁
  • The photosensitive resin composition (Q) for color filter protective films comprises a hydrophilic resin (A), a polyfunctional (meth)acrylate monomer (B), a compound (C) having 2-8 mercapto groups and a photo-radical polymerization initiator (D), wherein the concentration of (meth)acryloyl groups based on the weight of a solid component of the photosensitive resin composition is ≥6.0 mmol/g.
    親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、2〜8個のメルカプト基を有する化合物(C)、および光ラジカル重合開始剤(D)からなる感光性樹脂組成物であり、該感光性樹脂組成物の固形分の重量に基づく(メタ)アクリロイル基濃度が6.0mmol/g以上であることを特徴とする、カラーフィルター保護膜用の感光性樹脂組成物(Q)である。 - 特許庁
  • Cleaning by ion beam irradiation is performed to eliminate conductive smear after grinding a row bar or a floating plane of a magnetic head slider 10, oxygen exposure is performed to recover a damage region 14a formed at an end plane of an intermediate layer 14 of a magneto-resistance effect film 5 by ion beam irradiation , after that, floating plane protection films 7, 8 are formed, successively, rail processing is performed.
    ローバー50あるいは磁気ヘッドスライダ10の浮上面機械研磨後に、導電性スメアを除去するためにイオンビーム照射によるクリーニングを行い、イオンビーム照射により磁気抵抗効果膜5の中間層14の端面に形成されている損傷領域14aを回復させるために酸素曝露を行い、この後、浮上面保護膜7,8を形成し、続いてレール加工を行う。 - 特許庁
  • Since the capacity of a variable capacity element 20 provided to the other end side of the piezoelectric driving part 1 is detected by the control circuit unit 4, and a voltage applied to first and second piezoelectric films 6, 7 is subjected to feedback control to always keep the capacity constant; it is possible to restrain capacity variation of the variable capacity element 20, and to obtain manufacturing yield exceeding about 95%.
    圧電駆動部1の他端側に設けられる可変容量素子20の容量を制御回路部4で検出して、その容量が常に一定になるように第1および第2の圧電膜6,7に印加する電圧を帰還制御するため、可変容量素子20の容量ばらつきを抑制でき、約95%を上回る製造歩留まりを得ることができる。 - 特許庁
  • The manufacturing method thereby realizes not only forming the films each having different hardness in each region but also simplifying a manufacturing process by eliminating the need of preparing a special member such as a masking material, enhancing working efficiency by making similar steps so as not to intermittently repeat, and eliminating such possibility as to peel off the film along with an operation like the removal of the masking material.
    これにより、部位毎に硬度の異なる被膜を形成することは勿論、マスキング材等の特別な部材の準備等を不要として、製造工程の簡素化図ること、同種の工程が時間をおいて繰り返されることがないようにして作業効率を高めること、マスキング材の取り外しのようにそれに伴って被膜が剥がれるおそれが生じることをなくすこと、を実現する。 - 特許庁
  • To provide a polyester film that exhibits excellent antifogging properties on hermetical packaging and exhibits excellent antistatic performances in an ordinary temperature ordinary humidity atmosphere and further excellent processing aptitude such as antistaticity or lubricity even in a low humidity atmosphere without detriment to transparency inherent in heat shrinkable polyester films, and a heat shrinkable label.
    熱収縮性ポリエステル系フィルムが本来有している透明性を損なうことなく、密封包装時に防曇性が優れ、かつ常温常湿雰囲気下での帯電防止性能に優れることはもとより、低湿度雰囲気下でも帯電防止性や滑性等の加工適性に優れるため常温常湿雰囲気下での帯電防止性能に優れるポリエステル系フィルム及び熱収縮性ラベルを提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a polyester film that exhibits excellent antifogging properties on hermetical packaging and exhibits excellent antistatic performances in an ordinary temperature ordinary humidity atmosphere and further excellent processing aptitude such as antistaticity or lubricity even in a low humidity atmosphere without detriment to transparency inherent in heat shrinkable polyester films, and a heat shrinkable label.
    熱収縮性ポリエステル系フィルムが本来有している透明性を損なうことなく、密封包装時に防曇性が優れ、かつ常温常湿雰囲気下での帯電防止性能に優れることはもとより、低湿度雰囲気下でも帯電防止性や滑性等の加工適性に優れ、温常湿雰囲気下での帯電防止性能にも優れるポリエステル系フィルム及び熱収縮性ラベルを提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A method for making multilayer optical films includes: preparing first and second resins; extruding first and second resins into a resin stream comprising a plurality of layers and having first and second major surfaces; and casting the resin stream so that the first major surface is cast against a casting surface and the second major surface is cast against a casting surface.
    多層光学フィルムを形成するための方法であって、第1および第2の樹脂を提供するステップと、前記第1および前記第2の樹脂を、複数の層をなし第1および第2の主面を有する樹脂ストリームに押出すステップと、前記第1の主面がキャスティング面に対し流延され、前記第2の主面がキャスティング面に対して流延されるように前記樹脂ストリームを流延するステップと、を含む方法。 - 特許庁
  • In this manufacturing method of a semiconductor laser element, by forming the same antireflection films 11 on a plurality of samples 1 having oscillation wavelengths different from one another, the wavelength dependency of the antireflection film 11 can be obtained in a wide wavelength range over tens of nm unlike the conventional case where reflectivity of an antireflection film formed on a semiconductor laser element becoming a product is directly measured.
    この半導体レーザ素子の製造方法では、発振波長が異なる複数のサンプル1に同一の反射防止膜11を成膜することにより、製品となる半導体レーザ素子に形成した反射防止膜の反射率を直接測定する従来の場合とは異なり、数十nmにわたる広い波長範囲において反射防止膜11の波長依存性を求めることが可能となる。 - 特許庁
  • A spherical surface acoustic wave element 10 includes a barrel-shaped piezoelectric crystal substrate 11, an interdigital electrode 13 formed on a surface acoustic wave circuit path 12 of the substrate 11, and heating electrode films 14 and surface acoustic wave excitation detecting electrode leads 15 formed on both polar flat surfaces of the substrate 11 having the circuit path 12 in between.
    球状弾性表面波素子10は、樽型形状の圧電性結晶基材11と、この基材11の弾性表面波周回径路12上に形成されたすだれ状電極13と、上記基材11の周回径路12を挟む両極の平坦面に形成された加熱電極膜14および弾性表面波励起検出用電極取り出し部15とを具備して構成される。 - 特許庁
  • The method for forming multilayer optical films includes the steps of: preparing first and second resins; extruding the first and second resins into a resin stream having a plurality of layers and having first and second major surfaces; and casting the resin stream so that first major surface is cast against a casting surface and the second major surface is cast against a casting surface.
    多層光学フィルムを形成するための方法であって、第1および第2の樹脂を提供するステップと、前記第1および前記第2の樹脂を、複数の層をなし第1および第2の主面を有する樹脂ストリームに押出すステップと、前記第1の主面がキャスティング面に対し流延され、前記第2の主面がキャスティング面に対して流延されるように前記樹脂ストリームを流延するステップと、を含む方法。 - 特許庁
  • The semiconductor memory device includes: a semiconductor substrate 10; the ferroelectric capacitor FC provided above the semiconductor substrate and including an upper electrode UE, a ferroelectric film FE and a lower electrode LE; and upper interlayer insulating films ILD3 and ILD4 provided enclosing a periphery of the ferroelectric capacitor, wherein a gap 50 is provided between the ferroelectric capacitor and upper interlayer insulating film.
    半導体記憶装置は、半導体基板10と、半導体基板の上方に設けられ、上部電極UE、強誘電体膜FEおよび下部電極LEを含む強誘電体キャパシタFCと、強誘電体キャパシタの周辺を取り囲むように設けられた上部層間絶縁膜ILD3,ILD4とを備え、強誘電体キャパシタと上部層間絶縁膜との間に間隙50が設けられている。 - 特許庁
  • To provide a high-performance release agent comprising a polyvinyl carbamate or alkyl urea derivative as a main agent, which allows little gelation of a solution, even at an ordinary temperature or lower, even when the concentration of the main agent is increased, and therefore allows application to substrate films at room temperatures.
    ポリビニルカーバメートまたはアルキル尿素誘導体を主剤とする剥離処理剤において、常温またはそれ以下の低温条件下においても溶液のゲル化を生じ難く、主剤の濃度を高くした場合も同様に常温またはそれ以下の低温条件下においても溶液のゲル化を生じ難く、従って基材フィルムへの塗工を室温で行うことができる高性能の剥離処理剤を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The organic electroluminescent element comprises insulation films 12 formed on a substrate 1 and transistors 100, 200, a metal protection film 10 formed on the insulation film 12 at a non-light emitting area, a first electrode 11 formed on the insulation film 12 at a light emitting area 3, a light emitting layer formed on the first electrode , and a second electrode formed on the light emitting layer.
    本発明に係る有機電界発光素子は、基板1及びトランジスタ100、200の上に形成された絶縁膜12と、非発光領域の絶縁膜12の上に形成された金属保護膜10と、発光領域3の絶縁膜12の上に形成された第1電極11と、第1電極11の上に形成された発光層と、発光層上に形成された第2電極を含む。 - 特許庁
  • This sheet-like microorganism incubator in which a transparent film and a resin film are laminated in a state nipping a fibrous sheet having a smaller size than those of the films is characterized in that the transparent film and the fibrous sheet are adhered to each other with an adhesive coated on the transparent film and in that a gelling agent adhered to the resin sheet is intervened between the fibrous sheet and the resin sheet.
    透明フィルムと樹脂シートがそれらより小さいサイズの繊維質シートを挟む状態に積層されたシート状微生物培養器であって、透明フィルムと繊維質シートがその透明フィルムに塗布された粘着剤によって接着され、繊維質シートと樹脂シートとの間にその樹脂シートに付着されたゲル化剤が介在させられていることを特徴とするシート状微生物培養器。 - 特許庁
  • This cooling block is fabricated by joining a first aluminum base material and a second aluminum base material in a heating environment containing oxygen with zinc between the base materials, while a concave for forming a coolant channel is machined on either or both of the base materials so that a diffusion bonding layer with zinc diffused in aluminum and an anti-corrosion layer made of zinc oxidized films can be formed simultaneously.
    各々アルミニウムからなり、少なくともそれらの一方に冷却液の流路形成用の凹部が加工されている第1の母材及び第2の母材を、両者の間に亜鉛を介在させた状態で酸素を含む加熱雰囲気下で接合することにより、亜鉛がアルミニウム中に拡散された拡散接合層と亜鉛酸化膜からなる防食層とが同時に形成されることにより冷却ブロックを形成する。 - 特許庁
  • The first electric detecting switch 8 and the second electric detecting switch 13 are provided, and a positioning of the flattened films is performed at the location wherein both of the first electric detecting switch 8 and the second electric detecting switch 13 operate.
    平坦化フィルタ3a−3eを取り付け、モータ4から減速機構を介して駆動される基台6が所定位置に達すると作動する第1の電気的検出スイッチ8、モータ4と同一回転速度で回転するプレート12が所定位置に達すると作動する第2の電気的検出スイッチ13とを設け、第1の電気的検出スイッチ8および第2の電気的検出スイッチ13の双方が作動した位置で平坦化フィルタの位置決めを行う。 - 特許庁
  • The method for producing the adhesive layer is one for producing an adhesive layer by irradiating with an actinic radiation a photopolymerizable acrylic adhesive composition layer sandwiched between two films to polymerize the adhesive layer into the adhesive layer, wherein the polymerization is performed in a manner that a liquid inert medium layer is provided on the sides of the acrylic adhesive composition layer.
    本発明の粘着剤層の製造方法は、2枚のフィルム間に設けられた光重合性アクリル系粘着剤組成物層に活性エネルギー線を照射し該光重合性アクリル系粘着剤組成物層を重合させて粘着剤層を製造する方法であって、前記光重合性アクリル系粘着剤組成物層側面に液状不活性媒体層を設けて重合することを特徴とする。 - 特許庁
  • The polystyrene-based resin laminated foamed sheet is made by integrally laminating a 5 to 550 μm thick mono-layered or multi-layered polystyrene-based resin film on at least one surface of the polystyrene-based resin foamed sheet wherein the outermost film layer of the polystyrene-based resin films contains 0.01 to 3 wt.% of silicone oil having a coefficient of kinematic viscosity exceeding 150,000 centistokes at 25°C.
    本発明は、ポリスチレン系樹脂発泡シートの少なくとも一面に、厚さが5〜550μmの単層又は多層からなるポリスチレン系樹脂フィルムが積層一体化されたポリスチレン系樹脂積層発泡シートであって、上記ポリスチレン系樹脂フィルムのうちの最外側のフィルム層に、25℃にて15万センチストークスを超える動粘性率を有するシリコーン油が0.01〜3重量%含有されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • The laminated polarizing plate provided with a shock absorbing member and a polarizing member has a deformation preventing member made of polycarbonate (PC), triacetyl cellulose (TAC), aromatic polyimide, polyvinyl alcohol (PVA), polyethersulfone (PES), amorphous polyester, norbornene resin films or the like on the attachment surface side of the shock absorbing member and has the polarizing member on the opposite surface side of the shock absorbing member.
    衝撃吸収部材及び偏光部材を有する積層型偏光板であって、上記積層型偏光板は、衝撃吸収部材の貼付面側に、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)、芳香族ポリイミド、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエーテルスルフォン(PES)、非晶性ポリエステル、ノルボルネン系樹脂フィルム等からなる変形防止部材を有し、反対面側に偏光部材を有する積層型偏光板。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the semiconductor device acquires focus values measured for regions having different reflectance respectively due to films formed at a lower layer than a resist 6 formed above a wafer 3, brings a focus value acquired at a second region 32 having a higher reflectance than that of a first region 31 closer to a focus value acquired at the first region 31 having a lower reflectance, and carries out exposure processing.
    半導体装置の製造方法は、ウエハ3上に形成されたレジスト6より下層に形成された膜によって反射率が異なる領域について測定されたフォーカス値を取得し、反射率が低い第1の領域31について得られたフォーカス値に、前記第1の領域31よりも反射率が高い第2の領域32について得られたフォーカス値を近づけて露光処理を行う。 - 特許庁
  • The method of manufacturing an acoustic wave element includes processes of forming an IDT electrode 2 formed of a laminated metal film on a piezoelectric substrate 1, and performing frequency adjustment, by making a metal constituting at least one metal film out of the plurality of metal films in the IDT electrode 2 diffuse, by heating the IDT electrode or applying a high-frequency signal.
    圧電基板1上に、積層金属膜からなるIDT電極2を形成する工程と、IDT電極を加熱することによりまたは高周波信号を印加することにより、IDT電極2において複数の金属膜のうちの少なくとも1つの金属膜を構成している金属を拡散させることにより周波数調整を行う工程とを備える、弾性波素子の製造方法。 - 特許庁
  • Furthermore, various materials for fabricating nanowires, thin films including p-type doping nanowires and n-type doping nanowires, nanowire heterostructures, light emitting nanowire heterostructures, flow masks for arranging nanowires on substrates, nanowire spraying techniques for forming nanowires as a film, techniques for reducing or eliminating phonon scattering of electrons in nanowires, and techniques for reducing surface levels in nanowires are described.
    さらに、ナノワイヤを製造するための様々な材料、p型ドーピングナノワイヤおよびn型ドーピングナノワイヤを含む薄膜、ナノワイヤヘテロ構造、発光ナノワイヤヘテロ構造、ナノワイヤを基板上に配置するためのフローマスク、ナノワイヤを成膜するためのナノワイヤ噴霧技術、ナノワイヤにおける電子のフォノン散乱を減少または除去するための技術、および、ナノワイヤにおける表面準位を減少させるための技術が、説明される。 - 特許庁
  • The protective film for optical films having fine irregularities of a nano-meter order includes a substrate and an adhesive layer formed on the substrate and having a surface roughness Ra of ≤0.030 μm and a logarithmic damping factor rising temperature of ≥-35°C, measured by the rigid pendulum measurement.
    本発明は、ナノメートルオーダーの微細凹凸を有する光学フィルムに用いられる光学フィルム用保護フィルムであって、基板と、上記基板上に形成され、表面粗さRaが0.030μm以下であり、剛体振り子測定における対数減衰率上昇温度が−35℃以上である粘着剤層とを有することを特徴とする光学フィルム用保護フィルムを提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁
  • The recording method includes: a drawing step of drawing the recording patterns on a recording medium using a liquid having a photocurable property which is a character facilitating curing materials in response to light irradiation; a light-irradiation step of irradiating the liquid composing the recording patterns with the light, following the drawing step; and a thinning step S22 of thinning films composing the recording patterns, following the light-irradiation step.
    光の照射を受けて硬化が促進する性質である光硬化性を有する液状体で記録媒体に記録パターンを描画する描画工程と、前記描画工程の後に、前記記録パターンを構成する前記液状体に前記光を照射する光照射工程と、前記光照射工程の後に、前記記録パターンを構成する膜を薄くする薄化工程S22と、を含む、ことを特徴とする記録方法。 - 特許庁
  • A partial pressure of the CHF-based gas in the first etching gas of the first etching condition is set in such a range as an etching rate against the high carbon concentration insulating film 114 drops while that against the low carbon concentration insulating film 116 does not change, by adding the CHF-based gas with an etching rate relative to respective films when no CHF-based gas is added to the first etching gas as a reference.
    第1のエッチング条件の第1のエッチングガス中のCHF系ガスの分圧は、第1のエッチングガスに当該CHF系ガスを添加していない場合の各膜へのエッチングレートを基準として、当該CHF系ガスを添加することにより、高炭素濃度絶縁膜114に対するエッチングレートが低下するとともに、低炭素濃度絶縁膜116に対するエッチングレートを変化させない範囲に設定されている。 - 特許庁
  • According to the thermoelectric conversion element in which the films of the thermoelectric powder are electrically connected to one another, since the film is topologically two-dimensional for a conductive carrier moving through the film consisting of the thermoelectric material and also the total thermal conductivity is reduced due to the heat treatment on the thermoelectric powder, a higher performance index ZT can be obtained compared to a thermoelectric conversion element with the conventional structure.
    上記熱電粉体の被膜同士が電気的に接続された本発明の熱電変換素子によれば、熱電材料から成る被膜中を移動する伝導キャリアにとって上記被膜はトポロジー的に2次元的であり、更に熱電粉体が熱処理されて全体の熱伝導度が低くなっているため、従来構造の熱電変換素子と較べ高い性能指数ZTを得ることが可能となる。 - 特許庁
  • By configuring the metal deposition film capacitor in this way, when the capacitor is used in a lighting circuit, or the like, of a flash lamp, even in tens of thousands of charging and discharging cycles, a dielectric barrier electric discharge generated between the metal deposition films of the capacitor element formed by wounding a metal deposition film arranged inside the metal deposition film capacitor is suppressed, and thus the electrostatic capacitance can be prevented from attenuating.
    金属蒸着フィルムコンデンサーをこのように構成することによって、フラッシュランプの点灯回路等に使用した際、数万回といった充放電の繰り返しによっても、金属蒸着フィルムコンデンサー内部に配置された金属蒸着フィルムを巻回し形成したコンデンサー素子の金属蒸着フィルム間に生じる誘電体バリア放電を抑制し、静電容量の減衰を防止することができる。 - 特許庁
  • A long roll polarizing plate has a long roll cellulose ester film and a long roll triacetyl cellulose film on both sides of a polarizer containing dichroic substance as protective films, the long roll cellulose ester film being optically biaxial, having the maximum axis with which refractive index becomes maximum in its widthwise direction, having a 30-300 nm in-plane retardation value R_0 and a 30-300 nm retardation value R_1 in its thickness direction.
    光学的に二軸性であって幅手方向に屈折率が最大となる軸を有する、面内リターデーション値R_0が30〜300nmであり、厚み方向のリターデーション値R_tが30〜300nmである長尺ロールセルロースエステルフィルム及び、長尺ロールトリアセチルセルロースフィルムとを、二色性物質を含有する偏光子の両面にそれぞれ保護フィルムとして有することを特徴とする長尺ロール偏光板。 - 特許庁
  • To provide a ketoxime ester compound usable as a new and highly sensitive photopolymerization initiator, a photopolymerizable composition useful for forming various kinds of members, etc., installed in a liquid crystal display, such as interlayer insulation films, pixels and black matrices of color filters, photo spacers, ribs (liquid crystal alignment control ribs), etc., and to provide a cured product formed of the photopolymerizable composition, and a liquid crystal display including the cured product.
    新規かつ高感度な光重合開始剤として利用可能なケトオキシムエステル系化合物であり、層間絶縁膜、カラーフィルターの画素及びブラックマトリックス、フォトスペーサー、リブ(液晶配向制御突起)等の液晶表示装置に備えられる各種部材の形成等に有用な光重合性組成物及び該光重合性組成物により形成された硬化物及び該硬化物を備える液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
  • The conductive film in the local thin-film region is completely oxidized, but the conductive film is oxidized to such a film thickness that unoxidized conductive films are left on the bottom and sidewall, and consequently the conductive film 122 on the bottom and the conductive film 126 on the sidewall are separated via a variable resistor which is an oxidized film of the conductive film in the first opening 128, thereby forming a variable resistance element 104.
    当該局所薄膜領域の導電膜が完全に酸化されるが、底部及び側壁部上には未酸化の導電膜が残存するような膜厚で導電膜を酸化させることにより、第1の開口部128内において、底部の導電膜122と側壁部の導電膜126が導電膜の酸化膜である可変抵抗体を介して分離され、可変抵抗素子104が形成される。 - 特許庁
  • The polarizing plate is obtained by disposing transparent protective films separately on both surfaces of a polarizing film, wherein the difference between a linear expansion coefficient of the polarizing film in a direction perpendicular to an absorption axis thereof and a linear expansion coefficient of the transparent protective film disposed on at least one surface of the polarizing film in a direction perpendicular to an absorption axis of the polarizing plate is ≤1.3×10^-4/°C.
    偏光フィルムの両面に透明保護フィルムが配置されてなる偏光板であって、上記偏光フィルムの吸収軸に直交する方向の線膨張係数と、その偏光フィルムの少なくとも一方の面に配置される上記透明保護フィルムの偏光板の吸収軸に直交する方向の線膨張係数との差が、1.3×10^-4/℃以下である偏光板が提供される。 - 特許庁
  • The liquid crystal display device comprises a liquid crystal cell and polarizing films in a Cross-Nicol relationship with each other at both sides of the liquid crystal cell wherein at least one polarizing film includes a retardation film having reverse wavelength dispersion property, and the liquid crystal display device further includes a retardation film having a wavelength dispersion property substantially the same as a liquid crystal layer configuring the liquid crystal cell.
    液晶セルとその両側で互いにクロスニコルの関係となる偏光フィルムとを備えた液晶表示装置であって、上記偏光フィルムの少なくとも一つは、逆波長分散特性を有する位相差フィルムを含んでなり、上記液晶表示装置は、更に液晶セルを構成する液晶層と略同じ波長分散特性を有する位相差フィルムを備えたものである液晶表示装置である。 - 特許庁
  • A semiconductor device is equipped with: a pad 61 which is formed on multilayered wiring composed of the laminated wiring layers and interlayer insulating films and electrically connected to the outside.
    配線層と層間絶縁膜とを積層して形成された多層配線上に外部と電気的に接続されるパッド61を備えた半導体装置であって、前記パッド61の下部の第2コンタクト層間絶縁膜43、第2配線層間絶縁膜33、第1コンタクト層間絶縁膜23は、前記パッド61の外周下部に連続して形成された耐湿性を有する保護部材71によって囲まれていることを特徴とする。 - 特許庁
  • Under such conditions, the weld cut heater 32 is raised, and the article 12 is transferred again by the mechanism 60, whereby welded portions of the films 14 pressed by the plate 51 at the rear end of the article 12 are cut off.
    次いで、溶着切断ヒータ32が受け台に降下し、フィルム14を挟んで溶着し、挿入口4と溶着切断ヒータ機構30との間のシャッター板51が電磁石53に吸着され、フィルム14を押さえている状態で、溶着切断ヒータ32を上昇させ、搬送機構60により再び品物12を搬送させると、品物12の後端部のシャッター板51に押さえられているフィルム14の溶着部が切断される。 - 特許庁
  • The manufacturing method of the silicon carbide semiconductor element includes a step of successively laminating a polysilicon film and an oxide film on a silicon carbide wafer; a step of forming a trench on the silicon carbide wafer by reactive ion etching using these films as a partially open masking material to have the polysilicon film retreated to expose an upper end corner of the trench; and a step of rounding the upper end corner by etching.
    炭化珪素ウェハー上にポリシリコン膜と酸化膜を順次積層する工程と、これらの膜を一部が開口したマスク材として反応性イオンエッチングにより炭化珪素ウェハーにトレンチを形成し、ポリシリコン膜を後退させて前記トレンチの上端コーナーを露出させる工程と、エッチングにより前記上端コーナーを丸める工程と、を有する炭化珪素半導体素子の製造方法とする。 - 特許庁
  • To provide: a reflective liquid crystal device capable of preventing the occurrence of a light reflecting rugged part due to a contact hole, improving display characteristics such as contrast and preventing a pixel switching element from malfunctioning by light made incident from between a light reflecting films further; a projection display device provided with the reflective liquid crystal device; and an electronic device.
    コンタクトホールに起因して光反射性の凹凸部分が発生するのを防止して、コントラストなどといった表示特性の向上を図ることのでき、さらに、光反射膜の間から入射した光によって画素スイッチング素子が誤動作を起こすことを防止可能な反射型液晶装置、並びに当該反射型液晶装置を備えた投射型表示装置および電子機器を提供すること。 - 特許庁
  • Protective film forming compositions useful as medical films and other related wound care and treatment articles, including liquid bandages are prepared from emulsion polymers, including a polymer blend including at least one hard emulsion polymer component and at least one soft emulsion polymer component, having the required dynamic storage modulus and mean Tg of the hard and soft polymer blend components.
    医療用被膜および、液体包帯を含む、他の関連創傷ケアおよび治療物品として有用な保護被膜形成性組成物が、必要な動的貯蔵弾性率並びに硬質および軟質ポリマー配合物成分の平均Tgを有する、少なくとも1種類の硬質エマルジョンポリマー成分および少なくとも1種類の軟質エマルジョンポリマー成分を含むポリマー配合物を含むエマルジョンポリマーから調製される。 - 特許庁
  • This acoustic matching layer 14 matches an acoustic impedance between the object under test and a piezoelectric material layer 10 forming a piezoelectric vibrator for transmitting and receiving an ultrasonic wave in the ultrasonic transducer, and is formed by performing film forming by using a plurality of materials having acoustic impedances different from one another, and changing the ratios of mixing of the plurality of materials according to the thickness of deposited films.
    超音波トランスデューサにおいて、超音波を送受信する振動子を形成する圧電体層10と被検体との間において音響インピーダンスを整合させる音響整合層14であって、互いに音響インピーダンスの異なる複数の材料を用い、該複数の材料の混合割合を堆積された膜の厚さに応じて変化させながら成膜を行うことにより形成されている。 - 特許庁
  • The manufacturing method for the polarizing beam splitter includes a 1st stage for forming the 1/2 wavelength plate constituted of 1st and 2nd stretched films stuck through a UV curing type adhesive, and a 2nd stage for sticking the 1st stretched film constituting the 1/2 wavelength plate on a polarized light separating film formed on the 1st glass base plate through the UV curing type adhesive.
    偏光ビームスプリッタの製造方法は、UV硬化型接着剤を介して貼り合わせられた第1および第2延伸フィルムによって構成された1/2波長板を形成する第1工程と、第1ガラス基板の上に形成された偏光分離膜の上に前記1/2波長板を構成する前記第1延伸フィルムを、UV硬化型接着剤を介して貼り合わせる第2工程とを包含する。 - 特許庁
  • The device is provided with first, second and third gate electrodes each disposed in a predetermined area in a semiconductor substrate, first, second and third gate insulating films each interposed between the first, second and third gate electrodes and the semiconductor substrate, and first, second and third junction areas each disposed in the semiconductor substrate at both sides of the first, second and third gate electrodes.
    この装置は半導体基板の所定領域に各々配置される第1、第2および第3ゲート電極と、前記第1、第2および第3ゲート電極と前記半導体基板との間に各々介在された第1、第2および第3ゲート絶縁膜と、前記第1、第2および第3ゲート電極の両側の半導体基板内に各々配置される第1、第2および第3接合領域とを具備する。 - 特許庁
  • The method of manufacturing a semiconductor device comprises a step of preparing a metal frequency 30 and a semiconductor substrate 10 having a first region having a nitride or oxynitride film and a main surface including a second region with an exposed semiconductor material, and depositing an HfSiO film at 200-260°C to form HfSiO films 40, 50 different in hafnium density on the first and second regions, respectively.
    半導体装置の製造方法は、酸化膜30、窒化膜または酸窒化膜が設けられた第1の領域、および、半導体材料が露出した第2の領域を含む主面を有する半導体基板10を準備し、200℃〜260℃のもとでHfSiO膜を堆積することによって、ハフニウム濃度の異なるHfSiO膜40、50を、第1の領域および第2の領域に形成することを具備する。 - 特許庁
  • As the condition in the case of applying simultaneously plural PVA coating liquids 14 in multilayer on a web 12 using a slide bead coating device 10, polyvinyl alcohol contained in the PVA coating liquid 14A forming the lowermost layer in the multiple layer coating films has polymerization degree of 1000-4000 and a thickener is added to becomes 0.05-0.5 wt.% per the content of polyvinyl alcohol.
    スライドビード型塗布装置10を使用して複数のPVA塗布液14をウエブ12に同時に多層塗布する場合の条件として、多層塗布膜のうちの最下層を形成するPVA塗布液14Aに関して、含有するポリビニルアルコールの重合度を1000〜4000とすると共に、増粘剤をポリビニルアルコールの含有量に対して0.05〜0.5重量%になるように添加するようにした。 - 特許庁
  • To provide an evaporation source, vapor deposition system, and vapor deposition method capable of uniformly promoting melting of a material for vapor deposition even if the material is an organic material and of efficiently forming uniform and good-quality vapor deposited films containing fewer impurities by averting damaging the organic material and by enhancing the effect of heat transfer thereof.
    蒸着材料が有機材料であっても、有機材料に熱ダメージを与えることなく、しかも伝熱効果を高めて、蒸発材料の溶融を均一に促進させることができ、均一で不純物の少ない良質な蒸着膜を効率よく形成することができ、しかも、大型基板にも同様に対応できる蒸発源、蒸着装置および蒸着方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To obtain a resin composition for the inner surface of cans which possesses adhesion and processability of coating materials and not only has general safety and hygienic qualities but also excels in the processing anticorrosion of coating films particularly even after heat sterilization treatment as various types of containers for cosmetics, medical supplies, and the like, and has very high practicability without using an epoxy resin causing elution of bisphenol A into the contents.
    塗料の密着性ならびに加工性を保有し、且つ、一般的な安全衛生性を有することはもちろん、食品、化粧品ならびに医療品類等の各種の容器として、特に、加熱殺菌処理後においても、塗膜の加工耐食性に優れ、内容物中へビスフェノールAの溶出原因となっているエポキシ樹脂を使用しない、極めて実用性の高い缶内面用樹脂組成物を得る。 - 特許庁
  • In the manufacturing process of a piezoelectric actuator 16A where a lower electrode film 30, a piezoelectric film 32, and an upper electrode film 34 sequentially overlie a substrate 22 having an insulating layer 26 on the surface, a plurality of upper electrode films are led out individually to the surface different from the surface where the upper electrode film is arranged and then interconnected as a common electrode.
    表面に絶縁層26が形成された基板22上に下部電極膜30、圧電体膜32、及び上部電極膜34が順次積層された圧電アクチュエータ16Aの製造方法であって、複数の上部電極膜を上部電極膜が配置される面とは異なる面にそれぞれ個別に引き出してから互いに接続して共通電極とする圧電アクチュエータの製造方法の提供。 - 特許庁
  • As a photovoltaic element used is a photovoltaic element including as a component a laminate wherein an n-type impurity semiconductor silicon thin film and a p-type impurity semiconductor silicon thin film are bonded via an intrinsic semiconductor silicon thin film, and at least one of those silicon thin films is a silicon thin film containing chlorine atoms at a concentration of, for example, 0.005 to 5 atom.%.
    光起電力素子として、n型不純物半導体であるシリコン系薄膜とp型不純物半導体であるシリコン系薄膜とが真性半導体であるシリコン系薄膜を介して接合され、且つこれらシリコン系薄膜の少なくとも1つが例えば0.005原子%〜5原子%の濃度の塩素原子を含有するシリコン系薄膜である積層体を構成要素とする光起電力素子を使用する。 - 特許庁
<前へ 1 2 .... 256 257 258 259 260 261 262 263 264 265 266 次へ>

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.