「Films」を含む例文一覧(13252)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 .... 265 266 次へ＞- Each of gate insulating films 31, 66 is then dry etched to give a predetermined difference of film thickness.
各ゲート絶縁膜31，66のそれぞれを、所定の膜厚差となるまでドライエッチングする。 - 特許庁 - The scattered plastic films are molded into granules of a prescribed size.
さらに、吹き飛ばされたフィルム状プラスチックを所定の大きさの粒状に成形する。 - 特許庁 - The ultrasonic search unit includes a plurality of organic piezoelectric films arranged parallel to each other and each of the films has at least one surface electrode of a predetermined shape and back electrodes of a predetermined shape.
そこで、各々の圧電素子を精度よく位置決めすることで、高い強度の超音波信号を生成する超音波探触子及びその作製方法を提供する。 - 特許庁 - The surface-treated film is composed of plural layers of oxide films coating films, etc., to improve the corrosion resistance and is formed also on a sleeve 12.
この表面処理膜は、耐食性を向上させるために酸化膜層や塗膜層等の複数層から形成されており、スリーブ１２上にも形成されている。 - 特許庁 - Heat resistant films 21, 21 are adhered on electrode main bodies 11, 11 of a discharging electrode, and a gap G is formed by making adhered parts of the heat resistant films 21, 21 face each other.
放電電極の電極本体１１、１１に耐熱被膜２１、２１を付着させ、耐熱被膜２１、２１の付着部分を対向させてギャップＧを形成する。 - 特許庁 - Further, the thin-film capacitor 10 has three dielectric films 16a, 16B and 16C.
また、薄膜コンデンサ１０は、３つの誘電体膜１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃを備える。 - 特許庁 - One or more films are removed from the mother alloy by this system.
当該システムによって、母合金から１以上の皮膜を除去することができる。 - 特許庁 - The multi-layered optical filter 1 has optical films 3a_1 to 3aN laminated.
複数の光学膜３ａ１〜３ａＮが積層されて成る多層膜光学フィルタ１。 - 特許庁 - Average stress σ_up._av in the upper-layer side insulating films 7 and 8 is at the compression side as compared with average stress σ_down._av in the lower-layer side insulating films 2 and 3.
上層側絶縁膜７，８の平均応力平均応力σ<SB>up・av</SB>は、下層側絶縁膜２，３の平均応力σ<SB>down・av</SB>よりも圧縮側となっている。 - 特許庁 - Next, a silicon oxide 7 is formed on the substrate 1 between the separation oxide films 6.
次に、分離酸化膜６間の基板１上にシリコン酸化膜７を形成する。 - 特許庁 - In this laminate, a plurality of inter-layer insulating films and electrode films WL are respectively alternately laminated, a through-hole 17 extending in the laminating direction is formed.
この積層体においては、それぞれ複数の層間絶縁膜及び電極膜ＷＬが交互に積層され、積層方向に延びる貫通ホール１７が形成されている。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device made by stacking a plurality of semiconductor chips via adhesive films while preventing the adhesive films from protruding out of the semiconductor chips, and also to provide its manufacturing method.
半導体チップから接着フィルムがはみ出さないようにして、複数の半導体チップを積層した半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Amorphous thin silicon films can be formed simultaneously on the opposite sides of a glass substrate by depositing amorphous thin silicon films on the glass substrate by low pressure (LP)-CVD method.
減圧(LP)-CVD法により非晶質シリコン薄膜をガラス基板上に堆積することによりガラス基板両面に一度に非晶質シリコン薄膜を形成することができる。 - 特許庁 - It is preferable that the films 26 and 28 are formed of vinyl chloride and are formed in a rippling shape.
フィルム２６，２８は、塩化ビニール製とし、これを波打ち状に成形するとよい。 - 特許庁 - The first and the second oxide films 2 and 3 are composed of ITO, IZO or AZO.
第一，第二の酸化物膜２，３は、ＩＴＯ，ＩＺＯあるいはＡＺＯからなる。 - 特許庁 - This densifies films formed on the positive electrode and negative electrode after the initial charging, and suppresses the further growth of the films to inhibit internal resistance from increasing with time.
これによって、初充電後に正極及び負極に形成される皮膜を緻密にし、皮膜のさらなる成長を抑えて内部抵抗の経時的な上昇を抑制する。 - 特許庁 - Electrode thin films 4 and 5 are provided at ends of a resistance thin film 2.
抵抗用薄膜２の両端部に電極用薄膜４，５が形成されている。 - 特許庁 - Each of laminating films 4a, 4b includes a metal layer 41 and resins 42 to 45.
ラミネートフィルム４ａ，４ｂの各々は、金属層４１と、樹脂４２〜４５とを含む。 - 特許庁 - Moreover, widths of the element separating insulating films 12 are made identical in a chip pattern 100.
また素子分離用絶縁膜１２の幅をチップパターン１００内で同一とする。 - 特許庁 - The color filter substrate 2 has a plurality of belt-like 1st light-shielding films 6 and a plurality of dotted coloring elements 7 arranged between those 1st light-shielding films 6.
カラーフィルタ基板２は、複数の帯状の第１遮光膜６と、それらの第１遮光膜６の間に並べられた複数のドット状の着色要素７とを有する。 - 特許庁 - The plurality of word lines 114 has a plurality of polycrystalline films 103 and a polycrystalline silicon film 112 electrically connected to the plurality of polycrystalline silicon films 103.
複数のワード線１１４は、複数の多結晶シリコン膜１０３と、該複数の多結晶シリコン１０３と電気的に接続する多結晶シリコン膜１１２とからなる。 - 特許庁 - The light shielding films formed on the end surfaces (end surfaces formed with the light shielding films 4141, 4142) of the tabular members 41, 42 within an uptake angle θ of at least SELFOC lens 51.
遮光膜は、少なくともセルホックレンズ５１の取込角θ内の板状部材４１，４２の端面（遮光膜４１４１、４１４２を形成してある端面）に形成する。 - 特許庁 - In such a case, the spraying or coating application of the adhesives or tacky adhesives or the bonding by double coated adhesive materials, adhesive films or tacky adhesive films may be utilized.
これらの場合、粘着剤又は接着剤のスプレー又は塗布、若しくは、両面接着材、接着剤膜又は粘着剤膜による貼付けを利用できる。 - 特許庁 - English actor of Shakespearean roles who was also noted for appearances in films (1904-2000)
英国のシェークスピアの役を演じる俳優で、映画出演でも知られる（1904年−2000年） - 日本語WordNet - United States film actress who appeared in many films with Spencer Tracy (1907-2003)
米国の映画女優で、スペンサー・トレイシーと多くの映画で共演した（1907年−2003年） - 日本語WordNet - Polish filmmaker who made ten films based on the Ten Commandments (1941-1996)
ポーランドの映画製作者で、十戒に基づいた10の映画を製作した（1941年−1996年） - 日本語WordNet - Kamo SERIZAWA and Mito Group often appear in films and TV dramas about Shinsen-gumi.
芹沢鴨と水戸派は新選組物の映画やテレビドラマに登場することが多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - To provide ethylen-tetrafluoroethylene and tetrafluoroethylene- hexafluoropropylene copolymer films of which the light transmittance is remarkably improved as compared with that of conventional films.
光線透過率が従来のものに比較して顕著に向上したエチレン−テトラフルオロエチレン系やテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン系共重合体フィルムを提供する。 - 特許庁 - A wavelength dispersion compensation device includes an etalon 100 having a slab shape, reflective films 102 and 103 are formed on each side of the etalon 100, and the reflective films respectively have predetermined reflectance.
波長分散補償デバイスは、両面にそれぞれ所定の光の反射率を有する反射膜１０２，１０３が形成された平板状のエタロン１００を有する。 - 特許庁 - Along with films, one of Toei's core operations is said to be the excessive production of TV programs.
映画と並び会社の中核とされるのがテレビ向け作品の乱発である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - In the superlattice structure 3, a plurality of III nitride films are laminated, and at the same time, the difference in the Al composition of the adjacent III nitride films is at least 10 atom.%.
超格子構造３は、複数のIII族窒化物膜が積層されるとともに、隣接する前記III族窒化物膜のＡｌ組成差が１０原子％以上である。 - 特許庁 - After forming insulation films 45, 46 on the insulation film 44, an opening is so formed in the insulation films 45, 46 as to bury an upper electrode 50 of the capacitor in the opening.
絶縁膜４４上に絶縁膜４５，４６を形成した後、絶縁膜４５，４６に開口部を形成し、その開口部内にキャパシタの上部電極５０を埋め込む。 - 特許庁 - Insulation films 18a, 18b are formed on a side surface of the electrode layer 14a by a thermal oxidation method, and insulation films 18A, 18B are formed on a surface of a substrate.
熱酸化法により電極層１４ａの側面に絶縁膜１８ａ，１８ｂを形成すると共に基板表面に絶縁膜１８Ａ，１８Ｂを形成する。 - 特許庁 - Two polysilicon films 3, 3 are so formed on the insulation film 2 of a semiconductor substrate 1 as to form a plurality of resistance-element regions 8, 8 in one of the films 3, 3.
半導体基板１上に形成した第１の絶縁膜２上に、２つのポリシリコン膜３，３を形成し、その一方に複数の抵抗素子領域８，８，…を形成する。 - 特許庁 - By carrying out the laminating of two or more barrier films, even if a crack arises on the barrier film, moisture and oxygen can be prevented from entering into the organic luminescence layer effectively by other barrier films.
複数のバリア膜を積層することで、バリア膜にクラックが生じても、他のバリア膜で水分や酸素が有機発光層に入り込むのを効果的に防ぐことができる。 - 特許庁 - By repeatedly laminating dielectric thin films with an opening at a specified location, a lamination composed of the dielectric thin films with through-holes penetrating in a laminating direction, is obtained.
所定箇所に開口を有する誘電体薄膜を繰り返し積層して、積層方向に貫通する貫通穴を有する前記誘電体薄膜からなる積層体を得る。 - 特許庁 - To provide a wavelength variable Fabry-Perot filter in which the design range of the stress of films constituting a movable mirror can be increased and the dependence of the films on a film forming device is decreased.
可動鏡を構成する膜の応力の設計範囲を広くするとともに、その膜の成膜装置依存性を小さくした波長可変ファブリペローフィルタを提供する。 - 特許庁 - The first semiconductor layer faces side surfaces of the multiple first electrode films.
前記第１半導体層は、前記複数の第１電極膜の側面に対向する。 - 特許庁 - Next, the films 2a, 2b are superimposed with their inside face facing each other, and the films 2a, 2b are heat sealed to form continuous packaging bags 9.
次に一対の連続フィルム２ａ，２ｂが内面を向い合わせて重ね合わされ、一対の連続フィルム２ａ，２ｂがヒートシールされて連続包装袋９が作製される。 - 特許庁 - Methods of depositing films containing germanium using such compositions are also provided.
かかる組成物を用いる、ゲルマニウムを含有する膜の堆積方法も提供される。 - 特許庁 - Various plastic films and fabrics and the layered body of these may be the base material.
各種プラスチックフィルムや布帛、これらの積層体を支持体とすることができる。 - 特許庁 - A first protection film 19 and a secoind protection film 20 are formed in this order on the interlayer insulating films 18, and the aluminum electrodes 17 as passivation films.
層間絶縁膜１８及びアルミニウム電極１７上には、パッシベーション膜として、第１保護膜１９及び第２保護膜２０がこの順で形成されている。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING ELEMENT ISOLATION FILMS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE
素子分離膜の製造方法、半導体装置の製造方法、及び半導体装置 - 特許庁 - Via holes 11 are formed through the low dielectric films 5 and 6 using the resist mask.
レジストマスクを用いて低誘電率膜５及び６にビアホール１１を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for producing optical films having excellent optical isotropy usable for phase contrast films and the like by T-die melt extrusion method at a high productivity.
位相差フィルム等に用いることができる優れた光学等方性を有する光学フィルムをＴダイ溶融押出法により高生産性で製造する方法を提供する。 - 特許庁 - Two layers of films 1 and 4 are opposed with a given clearance in between, and transparent electrodes 2 and 3 are formed on the opposed surfaces of the films 1 and 4 respectively.
所定の空隙を隔てて対向に配置された２層のフィルム１，４と、フィルム１，４における対向する面にそれぞれ形成された透明電極２及び３とを有する。 - 特許庁 - By this setup, the gate insulating films formed of thermal oxidation films uniform and excellent in quality can be formed without being affected by an oxidation speed difference between semiconductor materials.
これにより、半導体材料との間の酸化速度の差の影響を受けることなく、均一で膜質のよい熱酸化膜から成るゲート絶縁膜を形成することができる。 - 特許庁 - To obtain an antireflection film having excellent environmental resistance by using only oxide films.
酸化物膜のみを用いて耐環境性に優れた反射防止膜を実現する。 - 特許庁 - The oxide films are composed chiefly of ferrous oxide and formed by leaving behind films of an oxide produced on the surfaces of material through heat treatment, without grinding them.
この酸化膜は酸化第一鉄を主成分とし、熱処理で素材表面に生じた酸化物の被膜を研削することなく残すことによって形成される。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR SUBJECTING MOVING RESIN FILMS TO MASK WELDING BY LASER BEAM
移動している樹脂フィルムをレーザー光線によりマスク溶接する方法及び装置 - 特許庁
- 特許庁
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