「First layer」を含む例文一覧(24472)

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  • The method for manufacturing the semiconductor device having the tapered through hole comprises the steps of forming a interlayer dielectric 2 and a first plasma nitride film 7 on a lower layer wiring 1, dry etching with a photoresist 3 as a mask, and forming a recess 8 on a surface of the dielectric 2.
    下層配線1上に層間絶縁膜2及び第1のプラズマ窒化膜7を形成し、フォトレジスト3をマスクとしてドライエッチングを行い、層間絶縁膜2の表面に凹部8を形成する。 - 特許庁
  • In a lithographic apparatus that transfers a pattern onto a substrate, the date and time of the activation of a software upgrade is compared with the date and time of exposure of a first layer of a substrate or a "lot" of substrates.
    基板にパターンを転写するリソグラフィ装置において、ソフトウェアアップグレードのアクティベーションの日付および時刻が、基板または基板の「ロット」の第1の層の露光の日付および時刻と比較される。 - 特許庁
  • A second insulating film 7 whose thickness is 400 nm is formed on the substrate, and a contact hole 8 is formed through the second insulating film 7 and the first insulating film 6a, and reaches the impurity diffusion layer 5.
    基板上に、厚さ400nmの第2絶縁膜7を形成し、第2絶縁膜7及び第1絶縁膜6aを貫通して不純物拡散層5に到達するコンタクトホール8を形成する。 - 特許庁
  • A P-type first well region 300 lower in concentration than the push-in diffusion region 440 is formed in the semiconductor layer 200 partly overlapping the push-in diffusion region 440 in a plan view.
    押込拡散領域440よりも低濃度のP型の第1ウェル領域300は、半導体層200に、平面視で一部が押込拡散領域440と重なるように設けられている。 - 特許庁
  • The first and second close contact layer, 109 and 110, are connected to the peripheral region of the second titanium nitride film 106 through a protrusion, which protrudes inwardly from the lower end of a sidewall.
    第1及び第2の密着層109、110は、側壁部の下端から内側に張り出す張り出し部において、第2の窒化チタン膜106における開口部の周辺領域と接続している。 - 特許庁
  • An intermediate layer, in which first buffer layers and second buffer layers are alternately and repeatedly stacked more than or equal to three times on a substrate composed of a different material from that of a GaN-based nitride semiconductor film, is formed.
    前記GaN系窒化物半導体膜とは異種の材料からなる基板上に第1のバッファ層および第2のバッファ層を交互に3回以上繰り返し積層した中間層を形成する。 - 特許庁
  • This shoe 2 is provided with an upper 4, an insole 6, a cushion layer 8, a midsole 10, an outsole 12, an outside reinforced portion 14a, an inside reinforced portion 14b, a first reinforcing band 16 and a second reinforcing band 18.
    靴2は、アッパー4、インソール6、クッション層8、ミッドソール10、アウトソール12、アウトサイド補強部14a、インサイド補強部14b、第一補強バンド16及び第二補強バンド18を備えている。 - 特許庁
  • A P-SiO_2 interlayer insulating film 8 having a dielectric constant not lower than 4 is formed on the protective film 7, and an Al wiring 10 for a first layer is formed on the P-SiO_2 interlayer insulating film 8.
    上記保護膜7の上に誘電率4以上からなるP−SiO_2層間絶縁膜8を形成し、このP−SiO_2層間絶縁膜8に第1層のAl配線10を形成する。 - 特許庁
  • The joint part 6 composed of a main phase 14 connecting with the first member 4 and also a surface ceramic composition layer 13, existing between the second member and the main phase 14.
    接合部6が、第一の部材7に接する主相14、および第二の部材4に接すると共に第二の部材と主相14との界面に存在する界面セラミック組成物層13を備えている。 - 特許庁
  • The electrophotographic member includes a polysiloxane having a first unit represented by SiO_0.5R^1(OR^2)(OR^3), a second unit represented by SiO_1.0R^4(OR^5) and a third unit represented by SiO_1.5R^6 in an outermost layer.
    最外層に、SiO_0.5R^1(OR^2)(OR^3)で示される第1のユニット、SiO_1.0R^4(OR^5)で示される第2のユニットおよびSiO_1.5R^6で示される第3のユニットを有するポリシロキサンを含有する。 - 特許庁
  • The core layer 13a and the semiconductor optical amplifier 33 generate a first laser beam which is propagated clockwise in the optical path 41, and a second laser beam which is propagated counterclockwise in the optical path 41.
    半導体光増幅器33およびコア層13aは、光路41を時計回りに伝搬する第1のレーザ光と、光路41を反時計回りに伝搬する第2のレーザ光とを発生させる。 - 特許庁
  • When the electrostatic latent image is read, the light source control means 40 switches the comb teeth 35a in order, and applies the specified DC voltage to between the each comb teeth 35a and a first conductive layer 31.
    静電潜像を読み取る際には、光源制御手段40が、クシ歯35aを順次切り替えながら、夫々のクシ歯35aと第一の導電層31との間に所定の直流電圧を印加する。 - 特許庁
  • Low elasticity rubber absorbing energy of small vibration is used for the first damping rubber layers 11A and 11B, and high elasticity rubber absorbing energy of medium to large vibration is used for the second damping rubber layer 12.
    第1の減衰ゴム層11A,11Bには、小振動のエネルギーを吸収する低弾性のゴムが、第2の減衰ゴム層12には、中〜大振動のエネルギーを吸収する高弾性のゴムが使用される。 - 特許庁
  • The plurality of relay connection bodies 51 are so structured that the surface of each granular base body 53 made of a material with more elasticity than the first base body 11 and the second base body 21 is coated with a conductive layer 52.
    複数の中継接続体51は、第1基体11及び第2基体21よりも弾性のある材料からなる粒状基体53の表面を導電層52で被覆した構造を有する。 - 特許庁
  • Non-photosensitive parts 12, 15 of the first and second laminated photosensitive resin layer 10, 13 are then etched together with developer liquid and the remaining photosensitive resin is thermally set to form an organic insulating film 17.
    積層した第1,第2の感光性樹脂層10,13の未感光部12,15を現像液で一緒にエッチングした後、残った感光性樹脂層を熱硬化させて有機絶縁膜17を形成する。 - 特許庁
  • A base end part 40B of the ignition ball support column 40 abuts to a fire-proof layer 20 of the combustor main body part 12, and is sandwiched with the first clamping ring body 30 and the second clamping ring body 32.
    また、焼玉支柱40の基端部40Bは燃焼装置本体部12の耐火層20に当接すると共に第1挟持リング体30と第2挟持リング体32に挟まれている。 - 特許庁
  • It follows that a depletion layer extends except the outermost periphery to the exterior from each guard ring portions 27_1 to 27_3 first reaches the intermediate diffused layers 52_1 to 52_3, and then reaches the guard ring portions 27_2 to 27_4 located outside.
    従って、最外周を除く各ガードリング部27_1〜27_3から外側に広がった空乏層は、先ず中継拡散層52_1〜52_3に達し、次いで、外側に位置するガードリング部27_2〜27_4に達する。 - 特許庁
  • As regards the molding of the molding 10, first, a coloring material is kneaded with a material with a viscosity of 10^6-5×10^7 mPa s at 25°C to manufacture a molding material for the pattern layer.
    成形品10の成形は、先ず、材料温度25℃の条件下で粘度が100〜5000万mPa・sとなる材料に、着色材料を混練して模様層用成形材料を作製する。 - 特許庁
  • The nonvolatile semiconductor storage device is provided, which is equipped with a memory string having memory cells, each of which has a channel, a first insulating film, an electric charge storage layer and a gate electrode laminated therein; and a driving section connected to the memory cells.
    チャネル、第1絶縁膜、電荷保持層及びゲート電極が積層されたメモリセルを有するメモリストリングと、メモリセルに接続された駆動部と、を備えた不揮発性半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
  • A strain occurs in a crystal structure of the first magnetic layer 23a by this lamination structure, thereby enabling a magnetic strain constant λ to be increased, and the magnetic detection element having a large magnetic elastic effect can be provided.
    この積層構造によって第1磁性層23aの結晶構造に歪が生じ磁歪定数λを大きくでき、磁気弾性効果の大きな磁気検出素子を提供することができる。 - 特許庁
  • A second interlayer insulating film (7) 7a is laminated on the surface of the first interlayer insulating film 3 to form second layer interconnections (interconnections) 10a, 10b on the leveled surface through conductive plugs 9a, 9b.
    第1層間絶縁膜3の表面に第2層間絶縁膜(7)7aを積層し、平坦化した表面に導電性プラグ9a、9bを介して第2層配線(配線)10a、10bを形成する。 - 特許庁
  • The first transparent plastic film base material 1 is plastered on the second transparent plastic film base material 4 with the transparent adhesive agent 3 in the state that the transparent gas barrier layer 2 is clamped toward the inside.
    ついで、前記透明ガスバリア層2を内側に挟み込んだ状態で、前記透明粘着剤3により、前記第1の透明プラスチックフィルム基材1と第2のプラスチックフィルム基材4とを貼着する。 - 特許庁
  • In the pneumatic tire 1, a first filler portion 31 is made from a rubber material having tanδ(20[°C]) smaller than side wall rubber 7, and disposed so as to surround a wind-up end portion of a carcass layer.
    この空気入りタイヤ1では、第一フィラー部31がサイドウォールゴム7よりも小さいtanδ(20[℃])を有するゴム材料から成ると共に前記カーカス層の巻き上げ端部を包み込んで配置される。 - 特許庁
  • Each member of a back light 7, a second polarizing plate 6, a twisted optical compensation layer 4, a liquid crystal cell 3, a retardation plate 2 and a first polarizing plate 1 is layered in this order from the side opposite from the viewing side of the liquid crystal display element.
    液晶表示素子の反視認側から、バックライト7、第2偏光板6、ねじれ光学補償層4、液晶セル3、位相差板2、第1偏光板1の順に各部材を積層する。 - 特許庁
  • A first to eighth sensor units 511, 522, 523, 514, 531, 542, 543, 534 are manufactured from a spin valve magnetoresistance effect film using a self pin type ferromagnetic fixed layer composed of two layers of ferromagnetic films coupled strongly anti-ferromagnetically.
    強く反強磁性的に結合した2層の強磁性膜からなるセルフピン型強磁性固定層を用いたスピンバルブ磁気抵抗効果膜から第一から第八のセンサユニット511,522,523,514,531,542,543,534を作製する。 - 特許庁
  • This adhesive sheet 1 comprises a first pressure sensitive adhesive layer 2, second pressure sensitive adhesive layers 3 formed on both surface of it, and release films 4 adhered on both adhesive surface of the pressure sensitive adhesive layers 3.
    粘着シート1は、第1の感圧接着層2と、その両面に形成された第2の感圧接着層3と、両感圧接着層3の接着面に付着された離型フィルム4とを備えている。 - 特許庁
  • In addition, second-conductivity base regions 33a and 33b are formed in the pressure resistant layer 13, and first conductivity source regions 37a are respectively formed in the base regions 33a and 33b.
    また、耐圧層13内に、第2の導電型のベース領域33a、33bを形成し、ベース領域33a、33b内に、第1の導電型のソース領域37aを形成し、トランジスタ1を構成させる。 - 特許庁
  • The first adhesion part 21 has an inner peripheral part 211 of which at least a part is bonded to the second adhesion part 22, and a part outside thereof is bonded to the diffusion resistance layer 17.
    第1接着部21は、その内周部211の少なくとも一部が第2接着部22に接合されていると共に、それよりも外側の部分が拡散抵抗層17に接合されている。 - 特許庁
  • The position of the first layer room part is set not to exceed an area surrounded by the post 2 even when the maximum displacement regulated by the base isolation device D is given and not to come into contact with the post 2.
    第1層の室部の位置は、免震装置Dによって規定される最大変位を与えた際にでも円柱2で囲まれた領域を越えず、かつ円柱2に接触しないように設定されている。 - 特許庁
  • The light emitting device includes a substrate 2, a light emitting element 4 mounted on the substrate 2, a light reflection plane for guiding light radiated by the light emitting element 4 upward, a first translucent member 5, and a phosphor layer 7.
    基体2と、基体2上に搭載された発光素子4と、発光素子4から放射された光を上方へ導く光反射面と、第1の透光性部材5と、蛍光体層7とを備えている。 - 特許庁
  • In the phosphor 1, the second activator is homogeneously dispersed in a phosphor matrix particle 2 and the first activator 3 is unevenly distributed in the surface layer 2a of the phosphor matrix particle 2.
    このような蛍光体1において、第2の付活剤は蛍光体母体粒子2中に均一に分散しており、かつ第1の付活剤3は蛍光体母体粒子2の表層部2aに偏在している。 - 特許庁
  • The conductive part 11 is extended from the ground-contact surface 2a to a clearance between the first cap part 10A and the second cap part 10B and is connected to the tread reinforcement cord layer 7 at the clearance part 13 of the base part 9.
    導通部11は、接地面2aから第1のキャップ部10Aと第2のキャップ部10Bとの間をのびかつベース部9の隙間部13でトレッド補強コード層7に接続される。 - 特許庁
  • A base material T whose surface has been coated with a first layer of an adhesive A in an adhesive coating zone A is conveyed up to a die coater 30 while maintaining the surface of the adhesive A in the wet state.
    粘着剤塗工部20で表面に第1層目の粘着剤Aが塗工された基材Tは、その表面の粘着剤Aをウエット状態に維持したままダイコータ30まで搬送される。 - 特許庁
  • A transmission device 300 comprises a first signal plane 20 and a second signal plane 30, a communication element for connecting electromagnetically to these layers, and a dielectric layer arranged between these layers.
    本発明による通信デバイス300は、第1信号層20および第2信号層30と、これらの層に電磁的に接続する通信素子と、これらの層の間に配置される誘電層を備える。 - 特許庁
  • On a display surface 30 side of the display device 21, a first parallax barrier layer 33 for shielding, with respect to each viewing angle direction, the image displayed by the pixel group different from the image displayed by the pixel group to display the image in each viewing angle direction is provided.
    表示デバイス21の表示面30側に、各視角方向に対して各視角方向へ表示する画素群の画像と異なる画素群の画像を遮光する第1の視差バリア層33を設ける。 - 特許庁
  • The length L of an arbitrary cell length direction (lateral direction) of the gate pad part of the ECO cell is more than or equal to the total value of three times of the minimum line width of a first wiring layer and two times of the minimum separation distance.
    ECOセルのゲートパッド部の任意セル長方向(横方向)の長さLは、第1配線層の最小線幅の3倍と最小離間距離の2倍との合計値以上である。 - 特許庁
  • A recording layer 18 of a write-once/read-many optical recording medium 10 adapted to a high speed to a low speed is constituted by laminating first and second subsidiary recording layers 18A and 18B each of which essentially consists of one metal.
    低速〜高速追記型光記録対媒体10の記録層18はそれぞれひとつの金属を主成分とする第1及び第2副記録層18A、18Bを積層してなる。 - 特許庁
  • In addition, a rigid step is relaxed by interposing a second rubber 33' 100% extension modulus smaller than the first covered rubber layer 31 between the steel cords, and anti-deterioration breakage characteristic can be improved.
    また、スチールコード間に、第1の被覆ゴム層31よりも100%伸張モジュラスの小さい第2のゴム33’を介在させることで剛性段差を緩和し、耐劣化破壊特性を向上できる。 - 特許庁
  • A window body is formed from a pair of first and second elements A, A' consisting of flat plate parts a, a', rising parts b, b', attaching parts c, c' and bonding parts d, d' so as to have an air layer K therein.
    平板部(a、a’)と、立上部(b、b’)と、取付部分(c、c’)と、接合部(d、d’)とからなる一対の第1、2の要素(A、A’)からその内側に空気層(K)を有するように形成する。 - 特許庁
  • An Indium Tin Oxide (ITO) film 12, a light emitting layer 13, and an electrode 14 are formed on a first substrate 11 and moreover, an organic electroluminescence (EL) display 10 is formed by sticking the substrate and a second substrate 16 as an opposing substrate together.
    第1基板11上に、ITO膜12、発光層13、電極14を形成し、さらに、対向基板としての第2基板16と貼り合わせて有機ELディスプレイ10を形成する。 - 特許庁
  • A surface emitting laser 200 has a layered structure where a lower mirror 212, an active layer 214 and an upper mirror 216 are stacked on a substrate 210, and comprises a first structure 280 with a surface step structure.
    面発光レーザ200は基板210上に下部ミラー212、活性層214、上部ミラー216が積層された積層構造を有し、表面段差構造を有する第1の構造体280を備える。 - 特許庁
  • A second passivation film 9 covering the first passivation film 8 is formed on the lower portion of each side wall of the ridge portion 5A and the top face of the second p-type cladding layer 5 in the vicinity of each side wall of the ridge portion 5A.
    また、リッジ部5Aの側壁下部、およびリッジ部5Aの側壁近傍のp型第2クラッド層5の上面には、第1パッシベーション膜8を覆うように第2パッシベーション膜9が形成されている。 - 特許庁
  • The communication control means is used to relay received content data to a lower-layer terminal unit, and to supply the content data to the output control means in a first state, where the content data are outputted.
    通信制御手段は、受信したコンテンツデータを下層の端末装置へ中継し、コンテンツデータを出力する第1状態である場合には、コンテンツデータを出力制御手段に供給する。 - 特許庁
  • The protective insulating film 10 covering the surface of the compound semiconductor region 2 is so formed as to have a two-layer structure of a first insulating film 11 and a second insulating film 12 whose properties are different from each other.
    化合物半導体領域2の表面を覆う保護絶縁膜10を性質の異なる第1の絶縁膜11と第2の絶縁膜12との2層構造を有するように形成する。 - 特許庁
  • In the steps for forming the printing parts of the second and subsequent layers, the printing parts of the second and subsequent layers are formed in the arrangement/discharge order of ink dots different from that of the first layer printing part.
    この際、2層目以降の印刷部を形成する工程で、1層目の印刷部のインクドットの配列・吐出順序とは異なるインクドットの配列・吐出順序で2層目以降の印刷部を形成する。 - 特許庁
  • At least in the first overlapped region OL_R1, the second pads 217 are connected to the second blind via 216 either directly or via the sixth interconnection layer 218, but are not connected to a through-via.
    また、少なくとも第1の重複領域OL_R1内において、第2パッド217は、直接または第6配線層218を介して第2ブラインドビア216に接続され、スルービアに接続されていない。 - 特許庁
  • In Step 110, the second heap, which is the lower layer, is cleared when the first heap is cleared, and the variables identifying the objects in the second heap are removed from the set when the second heap is cleared.
    処理110において、第1のヒープをクリアする際に、下位層である第2のヒープをクリアし、第2のヒープをクリアする際に、集合から第2のヒープ内のオブジェクトを特定する変数を除去する。 - 特許庁
  • As shown in Fig.5 (C), a scintillator panel 24 is stuck to the sensor panel 23 so that the outer edge of the first adhesive layer 26 is arranged on the outside of an effective detection area 43a.
    同図(C)に示すように、第1の接着層26の外縁が光センサ43の有効検出エリア43aの外側に配置されるように、シンチレータパネル24をセンサパネル23に貼り合わせる。 - 特許庁
  • In the Schottky diode 11 of the semiconductor element, a silicon-carbide supporting substrate 13 having a first surface 13a and a second surface 13b opposed to the layer 13a exhibits a carrier concentration exceeding 1×10^18 cm^-3.
    ショットキダイオード11で炭化ケイ素支持基体13は、第1の面13aと第1の面の反対側の第2の面13bとを有しており、1×10^18cm^−3を超えるキャリア濃度を示す。 - 特許庁
  • The detection marker 21 is formed by printing with ink which is the same color system as a ground color of the base first printing layer 25 or that of the medium for printing 23, and is also provided with an infrared absorption power.
    検出用マーカー21を下地となる第1印刷層25または被印刷媒体23の地色と同色系であり、しかも赤外線吸収能を備えるインキによって印刷形成する。 - 特許庁
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