「Line width」を含む例文一覧(3396)

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  • A controller 501 decides whether the width of the relevant line is below a reference line width and, if below the reference line width, decides whether the density of the lines is over a predetermined reference density.
    制御ユニット５０１において、当該線の線幅が基準線幅以下であるか否か判定し、基準線幅以下と判定した場合には、当該線の濃度が予め定めた基準濃度以上であるか否かを判定する。 - 特許庁
  • To provide an electron beam lithography process which is reduced in line width variation.
    線幅変化が低減された電子ビーム・リソグラフィ・プロセスを提供する。 - 特許庁
  • Usually, the width of incoming light on a scan line L of laser reflection light R2 is wider than the width of incoming light on the scan line L of disturbance light.
    通常、レーザ反射光Ｒ２の走査線Ｌ上における入光幅は、外乱光の走査線Ｌ上における入光幅よりも広い。 - 特許庁
  • To provide a photomask in which dispersion of line width is accurately corrected, and the line width can be adjusted to fluctuation of an exposing device, a method and device for correcting the line width of a photomask, and an electronic device using the same.
    フォトマスクの線幅のばらつきを精度良く補正し、露光装置の変動に対しても線幅を調整できるフォトマスク、フォトマスクの線幅補正方法、線幅補正装置及びそれを用いた電子デバイスを提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern line width measuring method of a semiconductor element and its apparatus for preventing error of line width measurement of an actual pattern.
    実際パターンの線幅測定に誤謬が発生しないようにする半導体素子のパターン線幅測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor memory device in which bus width of a data line is reduced.
    データ線のバス幅を低減した半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
  • The width of the above score line is preferably 0.1 mm or longer but 1 mm or shorter.
    その際、上記筋状傷は、幅0.1mm以上、1mm以下とするのがよい。 - 特許庁
  • To form a wiring pattern that contains tungsten and has a small line width.
    タングステンを含み、小さな線幅を有する配線パターンを形成する。 - 特許庁
  • New focusing conditions are set on the basis of the calculated line width.
    当該線幅に基づいて，新たなフォーカス条件の設定を行う。 - 特許庁
  • To improve the line width uniformity of patterns formed on a substrate.
    基板に形成されるパターンの線幅均一性を向上させること。 - 特許庁
  • A horizontal line that resizes to any page width selected by the user
    ユーザーが選択した任意のページ幅にサイズを調整する水平行。 - NetBeans
  • The damper can have a width that changes along the line of the opening.
    ダンパは、開口の線に沿って変化する幅を有することができる。 - 特許庁
  • A side guide 3b is movably provided in the width direction of a carrying line 4.
    サイドガイド３ｂを、搬送ライン４の幅方向に移動可能に設ける。 - 特許庁
  • Even though the narrowest line width of the beam is the 0.9 to 1.0 times wider than the narrowest line width, the accuracy of the line width is obtained at a value fully lower than ±10%, which is the objective of the accuracy, if an allowance in threshold values 63 is severely confined to ±1% or thereabouts.
    ビームが最小線幅の０．９〜１．０倍でも、スレッショールド値６３のバラツキを±１％程度と厳しくすれば、線幅精度は目標である±１０％よりも十分に低い値におさまる。 - 特許庁
  • To automatically generate a pattern which has different line width by automatically varying the line width by changing parameters on the basis of a generated reference pattern.
    作成した基準パターンを元にパラメータ変更により線幅を自動変更して線幅の異なるパターンを自動生成することを課題とする。 - 特許庁
  • The mask 8 is provided with an opening having an exposure margin of 0.5-1.0 times of the line width in the line width direction of the resist pattern 7.
    マスク８は、レジストパターン７の線幅方向に、この線幅の０．５倍以上１．０倍以下の寸法の露光マージンを有する開口部を備える。 - 特許庁
  • PULSE-WIDTH CONTROL CIRCUIT, SCANNING LINE DRIVE CIRCUIT AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT
    パルス幅制御回路、走査線駆動回路及び半導体集積回路 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING SHEET WIDTH IN TANDEM LINE OF HOT ROLLING
    熱間圧延のタンデムラインにおける板幅制御方法および装置 - 特許庁
  • In this case, the line width difference is a difference between a line width of a pattern extending in a first direction along a plane of the substrate and a line width of a pattern extending in a second direction perpendicular to the first direction along the plane of the substrate.
    ここで、前記線幅差は、基板の面に沿って第１方向に延びるパターンの線幅と該基板の面に沿って前記第１方向に垂直な第２方向に延びるパターンの線幅との差である。 - 特許庁
  • A scanning-line driving circuit 2 performs vertical scanning with reference time width which is N (N: integer larger 2) times as large as originally necessary specific time width (subfield time width) and time width with offsets of lengths (reference time width+specific time width), (reference time width+2×specific time width)... (reference time width+(N-1)×specific time width).
    走査線駆動回路２は、本来必要となる特定時間幅（サブフィールド時間幅）のＮ（Ｎ：２より大きい整数）倍の基準時間幅、および、（基準時間幅＋特定時間幅）、（基準時間幅＋２×特定時間幅）、・・・（基準時間幅＋（Ｎー１）×特定時間幅）なる長さのオフセット付き時間幅によって垂直走査を行う。 - 特許庁
  • The fine line width change means is allowed to have a line width UI determination means for changing the amount of thickening to desired width by providing a user interface UI.
    さらに細線幅変更手段に関して、太くする量をユーザーインターフェース（ＵＩ）を設けることで所望の幅に変更することができる細線幅ＵＩ決定手段を備えた。 - 特許庁
  • A line control system 240 performs a prescribed line width control processing to the extracted pattern part.
    ライン制御システム２４０は、抽出されたパターン部位に対し、所定のライン幅制御処理を施す。 - 特許庁
  • A straight line running within the width of the pupil and extending in the upper/lower direction is set as a measuring line (S1).
    瞳孔の幅の範囲内を通り、上下に延びる直線を計測列として設定する（ステップＳ１）。 - 特許庁
  • The gate line has a first width on the active region, and has a second width larger than the first width on the field region.
    前記ゲートラインは、前記アクティブ領域上では第１幅を有し、前記フィールド領域上では前記第１幅より広い第２幅を有する。 - 特許庁
  • This thin film transistor comprises a channel part of which the direction of channel width is the horizontal direction and the channel width is equal to plural data line width.
    この薄膜トランジスタは、チャネル幅の方向が横方向であると共に複数のデータ線幅に等しいチャネル幅を持つチャネル部分を含む。 - 特許庁
  • The width direction of the air passage surface of the heat exchanger 3 for cooling is brought into line with the width direction of the air passage A.
    冷却用熱交換部３の空気通過面の幅方向を空気通路Ａの幅方向と一致させる。 - 特許庁
  • To provide an image information processing method capable of clarifying the contour of a vertical line without changing the original line width against a vertical line part of an average width of one pixel.
    平均１画素幅の縦線部分に対して元の線幅を変えることなく，かつ縦線の輪郭の明瞭化を図ることのできる画像情報処理方式を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a highly precise photonic phase synchronous system with a high long-term reliability for generating a narrow line width intermediate frequency signal of a 10 Hz or smaller line width.
    線幅10Hz以下の狭線幅な中間周波数信号を発生させる超高精度かつ長期信頼性の高い光位相同期システムを提供する。 - 特許庁
  • METHOD FOR PREDICTING PATTERN LINE WIDTH AND METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN USING THE METHOD
    パターン線幅予測方法及びそれを用いたマスクパターン修正方法 - 特許庁
  • The pattern with a uniform line width can be exposed by correcting an electronic radiation dosage of the basis of the measured result of the line width of the mark 6.
    マーク６の線幅の測定結果に基づいて、電子線量を補正することにより均一な線幅のパターンを露光することが可能となる。 - 特許庁
  • RING LASER DEVICE AND CONTROL OF SPECTRUM LINE WIDTH OF RING LASER GYRO APPARATUS
    リングレーザー装置及びリングレーザージャイロ装置のスペクトル線幅の制御方法 - 特許庁
  • The dot diameters are obtained from the previously known correlation between line width and dot diameters.
    予め知見しておいたライン幅とドット径の相関からドット径を求める。 - 特許庁
  • Related to a width Ws of signal line ID, width Wg of ground line GND and insulating layer thickness H, H≤0.5 mm while Wg≥Ws is optimum.
    信号ラインＩＤの幅Ｗｓ、グランドラインＧＮＤの幅Ｗｇ及び絶縁層厚Ｈは、Ｈ≦０．５ｍｍで且つＷｇ≧Ｗｓが最適とされる。 - 特許庁
  • To reduce variation of line width of a transfer material in a squeegee scanning direction.
    スキージの走査方向における転写材の線幅のバラツキを抑制する。 - 特許庁
  • In a step B, the band width of on-line between the user terminal and the server is determined.
    ステップＢは、ユーザー端とサーバーとの間のオンラインの帯域幅を決める。 - 特許庁
  • The digit line DL has a width WDL at the intersection part, and the bit line BL has a width WBL at the intersection part.
    ディジット線ＤＬはこの交差部分において幅ＷＤＬを有しており、かつビット線ＢＬはこの交差部分において幅ＷＢＬを有している。 - 特許庁
  • To provide an exposure method capable of forming resist patterns with a fixed line width.
    線幅が一定のレジストパターンを形成可能な露光方法を提供する。 - 特許庁
  • A pneumatic tire 1 has a plurality of inclined grooves 11 inclined with respect to a virtual line (tread-width-direction line L) along the direction of a tread width W.
    空気入りタイヤ１は、トレッド幅Ｗ方向に沿った仮想線（トレッド幅方向線Ｌ）に対して傾斜した複数の傾斜溝１１を備える。 - 特許庁
  • ii. Equipment that can burn a pattern with a line width of less than 1 micrometer
    ２　一マイクロメートル未満の線幅のパターンを焼き付けることができるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • Therefore, a reflection or transmission loss can be prevented from occurring because the line width is made narrow, the impedance is increased and further mismatching with the part of wide line width occurs.
    このため、線幅が狭くなりインピーダンスが上昇、さらに線幅の広い部分と不整合を生じ、反射、伝送損失が起こることを防止できる。 - 特許庁
  • Thereby, the width dimension of the data line 30 can be optionally set.
    これにより、データ線３０の幅寸法を任意に設定することができる。 - 特許庁
  • Because the power supply pads are provided in the rear row, the line width of a power supply line led out from each power supply pad can be made to be equal to the width of the pad.
    給電パッドが後列に設けられているため、各給電パッドから引き出される給電配線をパッド幅と同じ線幅にすることができる。 - 特許庁
  • Pattern line width variation quantity occurring in a development process with respect to a desirable pattern is estimated and a corrective exposure is performed using a dose or bias corresponding to the estimated pattern line width variation.
    所望のパターンに対して現像段階で生じるパターン線幅変化量を予測してこれに相応するドーズ、またはバイアスで補正露光する。 - 特許庁
  • Longitudinal line of the lattice pattern has a width of two pixels or more, e.g. three pixels.
    格子状パターンの縦線の幅は２画素以上、例えば３画素とする。 - 特許庁
  • METHOD FOR ON-LINE IDENTIFYING WIDTH DEFORMATION MODEL IN HOT FINISHING MILL
    熱間仕上げ圧延機における板幅変形モデルのオンライン同定方法 - 特許庁
  • As a result, an accumulated layer 32 having the fixed line width can be formed.
    これにより、一定の線幅の堆積層３２を形成することができる。 - 特許庁
  • Also, the projection part 3 is a projecting line in the groove width direction of the lower frame member 11.
    又、凸部３は下枠部材１１の溝幅方向の凸条である。 - 特許庁
  • SINGLE-CHAMBER GAS DISCHARGE LASER HAVING SEED BEAM WITH NARROWED LINE WIDTH
    ライン幅を狭められたシードビームを有する単一チャンバ式のガス放電レーザ - 特許庁
  • FILM QUALITY EVALUATION METHOD AND DEVICE, LINE WIDTH VARIATION EVALUATION METHOD AND DEVICE, AND PROCESSING METHOD AND DEVICE HAVING LINE WIDTH VARIATION EVALUATION FUNCTION
    膜質評価方法及びその装置、線幅変動評価方法及びその装置並びに線幅変動評価機能を有する処理方法及びその装置 - 特許庁
  • As a result, variations in line width caused by a change in transmittance during the exposure of the reticle is suppressed, and the controllability of the line width can be improved.
    このようにすれば、レティクルの露光中における透過率変化による線幅の「ばらつき」を抑制し、線幅の制御性を向上させることができる。 - 特許庁
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