「Line width」を含む例文一覧(3396)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 .... 67 68 次へ＞- In this panel structure, the line width of the current feed line in other area parts can be extended without increasing the area of the intersection part of the current feed line with the signal line.
このパネル構造の場合、電流供給線と信号線との交差部分の面積を増やすことなく、その他の領域部分での電流供給線の線幅を広げることができる。 - 特許庁 - In the EL display panel having a pixel structure corresponding to an active matrix driving system, the line width of an intersection part with a signal line of a current feed line commonly connected to a plurality of pixel circuits is formed narrower than the line width of a non-intersection part with the signal line.
アクティブマトリクス駆動方式に対応した画素構造を有するＥＬ表示パネルにおいて、複数の画素回路に共通に接続される電流供給線のうち信号線との交差部分の線幅を、信号線との非交差部分の線幅よりも細く形成する。 - 特許庁 - The inter-line correction circuit 15 is provided with an integer part correction part for performing the correction of a 1 line unit and a decimal part correction part for performing the correction of less than 1 line by arithmetic interpolation, and when a 1-dot width black thin line detection part 23 detects a 1-dot width black thin line, the decimal part correction part is made inoperative.
ライン間補正回路１５は、１ライン単位の補正を行う整数部補正部と、１ライン未満の補正を補間演算によって行う小数部補正部とを含み、１ドット幅黒細線検出部２３が１ドット幅黒細線を検出したときは小数部補正部を非作動にする。 - 特許庁 - In the exposure controlling image data for scanning type exposure using negative and positive thin line images, the width of the negative thin line and the width of the positive thin line of the negative and positive thin line images are combined by different combination.
ネガポジ細線画像を用いた走査型露光のための露光管理用画像データであって、前記ネガポジ細線画像のネガ細線の幅とポジ細線の幅を異なる組み合わせにしたことを特徴とする走査型露光のための露光管理用画像データ。 - 特許庁 - When a straight line is decided, a reference line D1 is found, effective width is calculated on the basis of the reference line D1 (S440) to judge its effectiveness (S442), and when the width line is effective, a fair copy of the track K is taken (S444 and S446).
また直線と判定された場合は、基準線Ｄ_１を求め、この基準線Ｄ_１に基づいて有効幅の算出をし（Ｓ４４０）、有効性の判断をし（Ｓ４４２）、有効である場合は軌跡Ｋを清書する（Ｓ４４４，Ｓ４４６）。 - 特許庁 - The detection part 324 detects the edge pixel for each line sequentially from a line where a defective width determined by a first calculation part 323 is the maximum, and sets the threshold of a subsequent line so that the threshold of the subsequent line may become lower as the defective width gets narrower.
上記検出部３２４は、第１の算出部３２３で求められた欠陥幅が最大となるラインから順に各ラインごとにエッジ画素を検出し、欠陥幅が狭いほど次のラインの閾値が低くなるように次のラインの閾値を設定する。 - 特許庁 - A width generation program 111 extracts the ones at a closest position among the block line data in parallel and opposing relation with the road center line data and decides a width value from a distance between the block line segment and a road center line segment.
幅員生成プログラム１１１は、道路中心線データに対して平行かつ対面関係にある街区線データの中で最も近接位置にあるものを抽出し、その街区線分と道路中心線分の間の距離から幅員値を決定する。 - 特許庁 - This semiconductor storage device is constituted to make the read/write bit width variable by selecting the read line of a read circuit 21 and a write line of a write circuit 20 by a read line selector 23 and a write line selector 22 in accordance with a read/write bit width set signal.
読み出しライン選択器２３、書き込みライン選択器２２により読み出し回路２１の読み出しライン、書き込み回路２０の書き込みラインを読み出し／書き込みビット幅設定信号に従って選択して読み出し／書き込みビット幅を可変とする。 - 特許庁 - INJECTION-LOCKED LASER DEVICE AND SPECTRAL LINE WIDTH ADJUSTMENT METHOD THEREOF
注入同期型レーザ装置及び注入同期型レーザ装置のスペクトル線幅調整方法 - 特許庁 - The orthogonal line To is located outside the vehicle width direction H from an area center of gravity Co.
直交線Ｔｏは、面積重心Ｃｏよりも車幅方向Ｈの外側にある。 - 特許庁 - To equalize the line width of a pattern of a processing film formed on a substrate, in a substrate plane.
基板上に形成される被処理膜のパターンの線幅を基板面内で均一にする。 - 特許庁 - To restrain a noise width and base line fluctuation in a reference cell within a measuring time.
測定時間内における参照セルのノイズ幅、及びベースライン変動を抑制すること。 - 特許庁 - The width W becomes shorter than the length L of the center line CL at an optional position.
幅Ｗは、任意の位置において中心線ＣＬの長さＬよりも短くなっている。 - 特許庁 - Cutting the wrap 2 along the line 4 allows the width of the wrap 2 to be narrower easily.
また、ミシン目４に沿って切断することでラップ２の幅を簡単に小さくできる。 - 特許庁 - To narrow a line width, to improve modulation efficiency and to improve frequency responses.
狭線幅・高変調効率・高周波数応答の半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁 - By thinning the line width of the image G1, the consumption of the toner is lowered.
そこで、枠線画像Ｇ１の線幅を細くすることにより、トナーの消費量を削減する。 - 特許庁 - To produce a photomask capable of improving, e.g. gate line width controllability on a wafer.
ウェーハ上の例えばゲート線幅制御性を向上できるフォトマスクの作成を可能にする。 - 特許庁 - STRUCTURE OF ELECTRODE WIRING OF SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING FINE LINE WIDTH AND ITS FORMING METHOD
微細線幅を有する半導体素子の電極配線の構造及びその形成方法 - 特許庁 - The line width W of a character pattern 20 is obtained by line width detecting processing of a line width detecting part 5 and a sub-pattern consisting of the directional components of the character is obtained by sub- pattern extracting processing of a sub-pattern extracting part 7 to be stored respectively in plural memories 8 to 11.
文字パタン２０の線幅Ｗが線幅検出部５の線幅検出処理により求められ、文字の方向成分で構成されたサブパタンが、サブパタン抽出部７のサブパタン抽出処理で求められてそれぞれ複数のメモリ８〜１１に格納される。 - 特許庁 - To provide an edge position detector capable of measuring accurately a line width of a mark.
マークの線幅を正確に測定することができるエッジ位置検出装置を提供する。 - 特許庁 - Moreover, fluctuation LER in the line width in the target pattern is measured with SEM (S4).
そして、ＳＥＭにより、ターゲットパターンにおける線幅ばらつきＬＥＲを測定する（Ｓ４）。 - 特許庁 - CIRCUIT FOR GENERATING PULSE WIDTH MODULATION SIGNAL, DATA LINE DRIVING CIRCUIT, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
パルス幅変調信号生成回路、データライン駆動回路、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁 - The line width L of the mesh pattern is preferably ≥10 μm and ≤100 μm.
網状パターンの線幅Ｌとしては１０μｍ以上１００μｍ以下が好ましい。 - 特許庁 - METHOD OF ESTIMATING LINE WIDTH AND OUT-OF-FOCUS AMOUNT OF PATTERN FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM
荷電粒子線露光装置におけるパターンの線幅及びボケ量の推定方法 - 特許庁 - To sufficiently disperse weight to the top line width of the side sole weight and clubface of a golf putter head.
ゴルフパターヘッドのサイドソールウエイトとフェースのトップライン巾にウエイトを充分に分散させる。 - 特許庁 - ULTRASONIC OPTICAL FREQUENCY SHIFTER AND MICHELSON TYPE SPECTRUM LINE WIDTH MEASURING APPARATUS USING THE SAME
超音波光周波数シフタ及びそれを用いたマイケルソン型スペクトル線幅測定装置 - 特許庁 - PHOTOMASK, METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING LINE WIDTH OF PHOTOMASK, AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME
フォトマスク、フォトマスクの線幅補正方法、線幅補正装置及びそれを用いた電子デバイス - 特許庁 - The distance between the amplitude center line K of the sub-grooves 20 is 25 to 50% of the tread width.
副溝２０の振幅中心線Ｋ間の距離はトレッド幅の２５〜５０％である。 - 特許庁 - At least one element of the read-out character can be increased or decreased in line width.
読み出された１文字の内、少なくとも一つのエレメントは、その線幅を増減できる。 - 特許庁 - In a preferred embodiment, a line width of 0.2 pm is provided using injection seeding.
好適な実施例では、注入シーディングを使い０．２ｐｍの線幅を提供している。 - 特許庁 - To improve uniformity in the wafer plane distribution in regard to the film thickness and line width of a thin film or a pattern.
薄膜又はパターンの膜厚や線幅の面内分布の均一性を向上させる。 - 特許庁 - The line width of the transfer pattern on each pattern position of length measuring position recognition is measured (ST104).
各測長箇所認識パターン位置における転写パターンの線幅を測定する（ST104)。 - 特許庁 - A line width coordination portion 20 computes a flat ratio (flat degree) between the main scanning direction and sub scanning direction and determines whether there is any dot flat phenomenon in any direction or not, based on the line width of the main scanning direction and the line width of sub scanning direction.
線幅調整部２０は、主走査方向の線幅および副走査方向の線幅に基づいて、主走査方向と副走査方向との間の扁平率（扁平の度合い）を算出し、いずれかの方向にドット扁平が生じているか否かを判断する。 - 特許庁 - A line pattern on a semiconductor device now measures several tens of nanometers in width.
半導体デバイス上の直線パターンは、今や幅 数10ナノメータと測定される(になっている)。 - 科学技術論文動詞集 - To provide a dried laver direction conversion conveyor capable of reducing the direction of width of a dried laver manufacturing line, converting the direction of dried laver, and conveying it and to provide the dried laver manufacturing line incorporating the conveyor and reducing width of the line.
海苔製造ラインの幅方向を小さくできる、乾海苔を方向転換して搬送する乾海苔方向転換コンベヤ及びこのコンベヤを組み込んでラインの幅を小さくした乾海苔製造ラインを提供する。 - 特許庁 - To reduce resistance by widening a line width of a landing plug contact hole connected perpendicular to a bit line or a storage node contact.
ビットラインまたはストレージノードコンタクトと垂直に接続されるランディングプラグコンタクトホールの線幅を広くして抵抗の減少を図る。 - 特許庁 - To easily and quickly measure an average line width of a line-and-space pattern, without conducting measurement in a large number of positions.
多数位置での計測を行うことなく、簡便にかつ高速にライン・アンド・スペースパターンの平均的な線幅計測を行う。 - 特許庁 - To provide an antenna for noncontact communication capable of expanding a communication distance without reducing line interval by reducing the line width of a coil.
コイルの線幅を細くして線間隔を狭めること無く、通信距離を拡大できる非接触通信用アンテナを提供する。 - 特許庁 - By a registration detection sensor 6, the toner applying amount and the line width of a line pattern 8 are detected in addition to the writing start position of the images of respective colors.
レジ検知センサ６は各色画像の書き出し位置を検知する他、ラインパターン８のトナー載り量・ライン幅を検知する。 - 特許庁 - A slot line 9 is formed which is composed of a second slot 8 of a narrower width on the extension line of the first slot 6.
また、第１のスロット６の延長線上には幅寸法の狭い第２のスロット８からなるスロット線路９を形成する。 - 特許庁 - To improve a well-known electron beam lithography so as to enable constituting curved line drawing of uniform line width by a little operation work.
僅かな演算作業で均一な線幅の湾曲線引を構成できるよう、公知の電子線リソグラフィー法を改良する。 - 特許庁 - A caulking method utilizes characteristics in which the human eye can more easily recognize the end and width of the line even from a longer distance in the case of the narrower line.
幅が狭いほど人間の目は、距離が長くなってもラインの端部や幅員を認識しやすい特性を利用した。 - 特許庁 - (1) Upon double-side printing, the paper width upon front-side printing is different from that upon rear-side printing, then, the misalignment in terms of margin width and ruled line between the front side and the rear side is corrected.
・両面印字時、おもての印字時と裏の印字時では紙幅が異なり、余白幅や罫線が合わないのを補正する。 - 特許庁 - In the drawing a signal line 111 extending from left with a width w1 is reduced thin to a width w0 to terminate within the section S1.
信号線１１１は、図中、幅ｗ_1にて左から延設され、幅ｗ_0に細く絞られて範囲Ｓ_1で止まるよう形成されている。 - 特許庁 - The bar width information included in each line information is made to correspond, and the integration is executed for every bar width information made to correspond.
集積は、ライン情報のそれぞれに含まれるバー幅情報を対応付けし、対応付けられたバー幅情報毎に行われる。 - 特許庁 - Width W1 of a circuit pattern at a part where the bending line L crosses is wider than width W2 of the circuit pattern at other parts.
折り曲げ線Ｌが交差する部分の回路パターンの幅Ｗ１は、他の部分の回路パターンの幅Ｗ２よりも広くなっている。 - 特許庁 - A plurality of bonding pads having a thin width part and a thick width part connected in series on a line are arranged alternately in a row such that the thick width part faces the thin width part of other adjacent bonding pad.
直線上に直列に接続された細幅部と太幅部を有する複数のボンディングパッドを、その太幅部が隣接する他のボンディングパッドの細幅部に対向するように、交互にかつ列状に配置する。 - 特許庁 - The light intensity distribution and the calculative light intensity distribution in a library are compared, and the line width of the virtual pattern to which the light intensity distribution adapts is considered as the line width of the actual pattern.
その光強度分布と，ライブラリ内の計算上の光強度分布が照合され，光強度分布が適合する仮想パターンの線幅が実際のパターンの線幅とされる。 - 特許庁 - In a part of bent line 8, the width of the flexible substrate 2 is made smaller than the length of the slit 3, and the width of the flexible substrate 2 is made larger with distance from the bent line 8.
曲げ線８の部分において、フレキシブル基板２の幅がスリット３の長さより狭くされるとともに、曲げ線８から遠ざかるにつれてフレキシブル基板２の幅が広くされている。 - 特許庁 - A line width difference between the optical image and the reference image provides an inspection value by measuring a difference between the optical image and the reference image or a line width between the edges which are detected in the optical image.
光学画像と参照画像との差または光学画像で検出したエッジ間の線幅を測定することにより、光学画像と参照画像との線幅の差から検査値を求める。 - 特許庁
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