「Line width」を含む例文一覧(3396)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 67 68 次へ＞- To provide an exposing system which can predict the quantity of exposure enough to form a resist pattern having a line width equivalent to a design value even if there is any manufacturing error in the line width of a mask pattern.
マスクパターンの線幅が製造誤差を有する場合も、設計値と等しい線幅を有するレジストパターンを形成可能な露光量を予測する露光システムを提供する。 - 特許庁 - A metallic thin film part 150 is manufactured, having a shape defined with a length L, a film thickness h, and a line width w, with only its end faces 151 and 152 exposed, as viewed along the line width w direction.
長さＬ、膜厚ｈ及び線幅ｗで定義される形状であって、線幅ｗ方向でみた端面１５１、１５２のみを露出させた金属薄膜部１５０を作製する。 - 特許庁 - To thicken the line width of horizontal lines in a subscanning direction without losing the shape of picture data developed like a bit map and to uniform a line width ratio of vertical lines to horizontal lines.
ビットマップ状に展開した画像データの形状を損なわずに水平線分の副走査方向の線幅を太線化し、垂直線分と水平線分の線幅比率を均一化する。 - 特許庁 - The photo mask 3 is constituted of a pattern 3a which is formed on a region where the resist 2 is to be eliminated and has line width more than or equal to resolution limit and a pattern 3b having line width rougher than or equal to the resolution limit.
フォトマスク３は、レジスト２を除去しようとする領域に形成した解像限界以上の線幅のパターン３ａと、解像限界以下の線幅のパターン３ｂとからなる。 - 特許庁 - Even when the insulation layer and the wiring layer 12 are thinned, by adjusting the width of the slit 21, the desired characteristic impedance is obtained without reducing the line width of the signal line 12a.
絶縁層や配線層１２が薄くされてもスリット２１の幅を調整することで、信号線路１２ａの線路幅を狭することなく所望の特性インピーダンスを得られる。 - 特許庁 - The line on the COF is branched from wide-width lines to narrow-width lines, that is, from t1 to t3 or from t4 to t6 on an area where the line of the COF is connected to a terminal part 11 of a TFT.
ＣＯＦの配線がＴＦＴの端子部１１と接続する場所では、幅の広い配線から幅の狭い配線ｔ１からｔ３、または、ｔ４からｔ６に分岐している。 - 特許庁 - The width Wc in the direction vertical to the scheduled processing line 42 of the cooling region 44 is set shorter than the width W in the direction vertical to the scheduled processing line of the laser irradiation region 40.
冷却領域４４の加工予定線４２と垂直方向の幅Ｗｃは、レーザ照射領域４０の加工予定線と垂直方向の幅Ｗよりも短く設定される。 - 特許庁 - To improve the variations of the line width over the entire surface of a wafer with respect to a slimming manufacturing method and a slimming method for slimming the line width formed on the wafer.
本発明は、ウェハー上に形成された線幅をスリミングするスリミング製造方法およびスリミングシステムに関し、ウェハー全面に渡って線幅バラツキを改善することを目的とする。 - 特許庁 - The line width correction part 40 of the image forming apparatus includes a controller 400, a data storage part 401, a data comparison part 402, a correction value calculation part 403, and a line width correction processing part 406.
画像形成装置の線幅補正部４０は、制御部４００、データ記憶部４０１、データ比較部４０２、補正値算出部４０３、線幅補正処理部４０６を備える。 - 特許庁 - The width of the bottom face of the second portion 22 in a direction perpendicular to the straight line 100 is narrower than the width of the bottom face of the first portion 21, in a direction perpendicular to the straight line 100.
第２の部分２２の底面における直線１００と直交する方向の幅は、第１の部分２１の底面における直線１００と直交する方向の幅よりも狭い。 - 特許庁 - A one-dot-width-unoccupied longitudinal line interval dnL in the one-dot-width-unoccupied longitudinal line images 54a_1 is made narrow therein stepwisely toward a right side to form a gradation to a low density.
その場合、１ドット幅抜き縦線画像５４ａ_1での１ドット幅抜き縦線間隔ｄｎＬが右方に向かって段階的に小さくされて低濃度への階調が形成される。 - 特許庁 - In the line width of the liquid injection section A2 and the liquid flow section A1, the width (d) of the liquid injection section A2 is less than twice the line width (b) of the liquid flow section A1 and is greater than the diameter of the function liquid L.
これら、液体注入部Ａ２と液体流動部Ａ１との線幅において、液体注入部Ａ２の幅ｄが、液体流動部Ａ１の線幅ｂの２倍以下であり、機能液Ｌの直径より大きい構成である。 - 特許庁 - A planar space width S between the first metal wiring 3s and the second metal wiring 6s is narrower than either of a line width L1 of the first metal wiring 3s and a line width L2 of the second metal wiring 6s and is, for example, zero.
第１メタル配線３ｓと第２メタル配線６ｓとの間の平面的なスペース幅Ｓは、第１メタル配線３ｓのライン幅Ｌ１および第２メタル配線６ｓのライン幅Ｌ２のいずれよりも狭く、例えば０である。 - 特許庁 - As shown in Figure 2, a binding member 4 having a guide hole 9 which is used for guiding the main line 2 and the branch line 3 and has a portion having a smaller width than the width of a knot 8 is disposed at a place near to the knot 8 of the main line 2 with the branch line 3.
図２に示すように、主糸２と枝糸３との結び目８の近傍に、主糸２と枝糸３とを通す連通孔９を有し、連通孔９、結び目８の幅よりも小さい幅となる部分を有する結束部材４が配置されている。 - 特許庁 - Prior to a general laser operation, the correlation between a spectral line width W in a line width threshold Thresu of a spectral waveform f(λ) measured by an etalon spectrometer 32 and the spectral line width W or spectral purity E95 of a true spectral waveform g(λ) of laser beam is preliminarily determined, and stored in a storage part 41.
通常のレーザ運転前に、エタロン分光器３２で計測されるスペクトル波形ｆ（λ）の線幅閾値Thresuにおけるスペクトル線幅Ｗと、レーザ光の真のスペクトル波形ｇ（λ）のスペクトル線幅Ｗやスペクトル純度Ｅ９５と、の相関が予め求められ、記憶部４１に記憶される。 - 特許庁 - The line width of additional information with a defective part, such as data on the difference between, e.g., an original document and an additional document where additional data is added, is detected; according to the line width, a different defective-part restoration process suitable for a process sequence based on the line width is executed.
例えば原本ドキュメントと、追記データの付加された追記ドキュメントの差分データのように欠損部を有する追記情報の線幅を検出し、線幅が細い場合と太い場合とで、それぞれの線幅に適合した処理シーケンスに従った欠損部修復処理を実行する。 - 特許庁 - The irregularities in the line width of the pattern formed on the reticle 6 are measured, an exposure value which sets the line width of the pattern formed on the reticle 6 equal to the desired line width of a device pattern formed on a wafer 7 is obtained, and the wafer 7 is subjected to an exposure process as the exposure value is controlled corresponding to the irregularities.
レチクル６に形成されたパターンの線幅のばらつきを計測し、該パターンの線幅に対してウェハ７上に形成されるデバイスパターンの線幅を所望の値にする露光量を求め、該露光量が前記ばらつきに対応して露光されるように露光量を制御する。 - 特許庁 - When forming a blue character image or line image whose toner applied amount is equal to or above 0.7 mg/cm^2, and whose line width is 0.12 to 0.8 mm, a width exposure device 2Y is controlled, so that thickness in the edge area of the line width of a magenta toner image is increased further than in the center area thereof.
トナー載り量が０．７ｍｇ／ｃｍ^２以上で線幅が０．１２ｍｍ〜０．８ｍｍのブルーの文字画像又は線画像を画像形成する場合には、幅露光装置２Ｙを制御して、マゼンタトナー像の線幅の縁領域を中心領域よりも厚みを割り増す。 - 特許庁 - In a scan image, a reference line and A, B detection lines are provided, where the reference line corresponds to the center line in a width direction of a conveying passage of a document, and the A, B detection lines are positioned at both the sides of the reference line.
スキャン画像において、原稿の搬送経路の幅方向の中央線に対応する基準線と、この基準線の両側に位置するＡ検出ライン及びＢ検出ラインが設けられる。 - 特許庁 - The width W of the conduction section 120 is smaller than an interval Wab from a center line (a) of one data line 103 between the data liens 103 at both sides to a center line (b) of the other data line 103.
導電部１２０の幅Ｗは、両脇のデータ線１０３のうち一方のデータ線１０３の中心線ａから他方のデータ線１０３の中心線ｂまでの間隔Ｗａｂよりも小さい。 - 特許庁 - A dynamic image of the circumference of the vehicle is taken, a horizontal line is set on the taken image, and an image of a predetermined width along the line (line image) is extracted.
自車両周囲の動画像を撮像するとともに、撮像画像上に水平方向のラインを設定し、そのラインに沿った所定の幅の画像（ライン画像）を抽出する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device where a scribe line can be lessened in line width, and a chip can be lessened in size by a method, wherein the corner of the scribe line is used effectively for forming the device.
スクライブラインのコーナー部を素子形成に有効利用することにより、スクライブラインの幅の縮小とチップサイズの縮小を可能とした半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming device which forms an optimum image by eliminating irregularities in the line width of a vertical one dot line and a horizontal one dot line (aspect ratio) and irregularities in an isolated one dot diameter.
縦１ドットラインと横１ドットラインの線幅（縦横比）のばらつき、孤立１ドット径のばらつきを無くして最適な画像を形成する画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To form line width of a vertical line and a horizontal line substantially the same in an image forming apparatus such as a digital copier using an LED array capable of executing a gradation expression as an exposure unit.
階調表現が可能なＬＥＤアレイを露光装置として用いたディジタル複写機などの画像形成装置において、縦線と横線の線幅をほぼ同じにする。 - 特許庁 - Line width or line length of each rewrite voltage applying line between respective flash memories is set to W or L1 by which desired inductance component and capacitance component are obtained.
各フラッシュメモリ間の書き換え電圧印加ラインは所望のインダクタ成分、ならびにコンデンサ成分が得られる線幅Ｗもしくは線長さＬ１に設定されている。 - 特許庁 - A folding line setting section adjusts the position of the sheet in the sheet width direction so that glue is transferred to the vicinity of the folding line by using the obtained folding line position information.
折りライン設定部は、取得された折りライン位置情報を利用して、折りライン周辺に糊が転写されるように、用紙幅方向における用紙の位置を調整する。 - 特許庁 - When cutting a strip by using the rotary die roller, a corner cutting line is formed for smoothly connecting a longitudinal directional cutting line and a width directional cutting line in a round shape.
このロータリーダイロールを用いてストリップを裁断すれば、縦方向裁断線と巾方向裁断線を滑らかにアール形状に接続するコーナ切断線が形成される。 - 特許庁 - A grating line is formed inside the external form having an arbitrary smooth contour by defining the external form of the grating line by cell structure having a side thinner than grating line width.
格子線幅よりも細かい辺を持つセル構造により、格子線の外形を規定することにより、任意で滑らかな輪郭を持つ外形の内部に格子線を形成する。 - 特許庁 - An internal data bus DBA and an internal column line start signal line YA connected to the forth memory sub-array 11D are formed respectively as a signal line having 65 bits width.
第４のメモリサブアレイ１１Ｄと接続される内部データバスＤＢＡ及び内部カラム線起動信号線ＹＡはそれぞれ６５ビット幅の信号線として形成されている。 - 特許庁 - A signal line 2 of the transmission line is configured with a conductor membrane whose cross-section is rectangular, and at least both side faces 21, 22 of the signal line 2 in the width direction are in contact with a dielectric base 1.
信号線２は、断面長方形状の導体膜で構成され、少なくとも、幅方向の両側面２１、２２が誘電体基体１に接している。 - 特許庁 - The paper pressure member 25 has an axial line that is parallel to the paper width direction, and it is rotatable around the axial line, while its move in the axial line direction is regulated.
用紙押さえ部材２５は、軸線が用紙幅方向と平行で、軸線まわりには回転自在であるが、軸線方向への移動は規制されたローラ２６からなる。 - 特許庁 - To reduce the line width of a wiring line, such as a power line, where a large current needs to flow on an array substrate without affecting a manufacturing cost, throughput, etc.
アレイ基板において、電源ライン等の大電流を流す必要のある配線についても、製造コストやスループット等に影響を与えることなく線幅を削減可能とする。 - 特許庁 - To provide a coated line inspection method, device, program, and storage medium which inspect whether a width of a coated line is proper while permitting meandering of the coated line to some extent.
塗布ラインの蛇行をある程度許容しつつ塗布ラインの幅が適正であるか否かを検査する塗布ライン検査方法、装置、プログラムおよび記憶媒体を提供する。 - 特許庁 - Besides, by cutting the rear of the microstrip line 13 and charging a metal 14, the line of low impedance is provided without widening the line width and the miniaturization of a circuit is attained.
また、マイクロストリップ線路１３の裏面を切削し、金属１４を充填することで、線路幅を大きくすることなく低インピーダンスの線路を得て、回路の小型化を図る。 - 特許庁 - To extract the feature of a thin line without increasing noise components even when the line width of a character line constituting a character is different at the time of extracting the feature matrix of the character.
文字の特徴マトリクスを抽出する際に、文字を構成する文字線の線幅が異なった場合でも、ノイズ成分を増加させずに細い線の特徴を抽出する。 - 特許庁 - With this configuration, the region width (effective gate width) where the boundary line between the N-type region 14 and the P-type region 16 and the gate electrode 24 cross each other is made larger than the gate width of the gate electrode 24.
これにより、Ｎ型領域１４とＰ型領域１６の境界線とゲート電極２４が交差する領域幅（実効ゲート幅）が、ゲート電極２４のゲート幅よりも大きくなる。 - 特許庁 - On each position where a signal line 8 gets over the outline 11b of a scanning line 8, the signal line 8 is expanded to the outside in the width direction and a signal line expanding part 8a is arranged so as to be extended while covering the outline 11b of the scanning line.
信号線８が走査線１１の輪郭線１１ｂを乗り越える個所ごとに、信号線８を幅方向外側へと膨出させて、信号線膨出部８ａが走査線の輪郭線１１ｂを覆いつつ延びるように配置する。 - 特許庁 - A CPU 22 is used to apply a thin line intensifying processing for thickening the thin line width to the image data on a previous stage drum to perform a plate making processing of the previous stage drum and print processing by using the image data applied with the thin line width processing.
ＣＰＵ２２が、前段のドラムの画像データに対して細線幅を太くする細線強調処理を施し、細線強調処理を施した画像データを利用して前段のドラムの製版処理及び印刷処理を実行する。 - 特許庁 - In the line widths of the liquid-pouring portion A2 and the liquid-flowing portion A1, the line width d of the liquid-pouring portion A2 is less than twice the line width b of the liquid-flowing portion A1 and larger than the diameter of the functional liquid L.
これら、液体注入部Ａ２と液体流動部Ａ１との線幅において、液体注入部Ａ２の幅ｄが、液体流動部Ａ１の線幅ｂの２倍以下であり、機能液Ｌの直径より大きい構成である。 - 特許庁 - An integrated density profile computing part 105 computes an integrated density profile which is the relation between a position in a line width direction and an integrated value obtained by integrating the density of the line image up to the position in the line width direction, from the density profile.
積算濃度プロファイル算出部１０５は、濃度プロファイルから、線幅方向の位置と、線幅方向に該位置まで線画像の濃度を積算して得られた積算値との関係である積算濃度プロファイルを算出する。 - 特許庁 - The formed width W2 of the click spring 30 in the axis line O direction is larger than a sum of a displacement volume L of the concave and convex part 11 of the dial knob 10 in the axis line O direction and the formed width W1 of the concave and convex part 11 in the axis line O direction.
クリックばね３０の軸線Ｏ方向の形成幅Ｗ２は、ダイアルノブ１０の凹凸部１１の軸線Ｏ方向の変位量Ｌと凹凸部１１の軸線Ｏ方向の形成幅Ｗ１との合計より大きい。 - 特許庁 - To form a wiring pattern having a desired line width without measuring a film thickness distribution of a resist.
レジストの膜厚分布を測定することなく、所望の線幅の配線パターンを形成する。 - 特許庁 - To prevent occurrence of a color change in vector data independently of a color density and a line width of a vector.
ベクタのカラー濃度や線幅の如何にかかわらずベクタデータの色変化の発生を防止する。 - 特許庁 - On the jetting devices 13, 14, four nozzles 21 are respectively arrayed over the width direction of the line.
噴射装置１３、１４には、ライン幅方向にわたり４本のノズル２１が配列されている。 - 特許庁 - Consequently, width 30W of the throttle valve 30 in the rotary axis line 30L direction can be shortened.
これにより、スロットルバルブ３０の回転軸線３０Ｌ方向の幅３０Ｗが短くなる。 - 特許庁 - To provide a coating film forming apparatus capable of precisely controlling the line width of a resist pattern.
レジストパターンの線幅を精密に制御することができる塗布膜形成装置を提供する。 - 特許庁 - Further, by arranging the rod 58 on the edge line of the web 12, the width regulation of the coating liquid is performed.
また、ロッド５８ウエブ１２のエッジライン上に配設することにより、塗布液の幅規制を行う。 - 特許庁 - To easily execute exposure on a base plate without causing a line width difference even in the case of using plural masks.
複数のマスクを使用する場合でも、線幅差を発生させずに容易に基板に露光する。 - 特許庁 - Wide thin grooves 50 extending in a tire width direction are formed in a first shoulder land section line 32.
第１ショルダー陸部列３２には、タイヤ幅方向に延びる広幅細溝５０が形成されている。 - 特許庁 - The peak of FSG layer, corresponding to the width of a conductive metal line, is reduced by a step of CMP.
導電性金属ラインの幅に対応するＦＳＧ層のピークがＣＭＰのステップで減らされる。 - 特許庁
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