MAGNETRON PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD マグネトロンプラズマ処理装置および処理方法 - 特許庁
TWO-DIMENSIONAL MAGNETRON SCANNING FOR FLAT PANEL SPUTTERING フラットパネルスパッタリングの二次元マグネトロン走査 - 特許庁
MAGNETRON OSCILLATOR AND PLASMA TREATMENT DEVICE マグネトロン発振装置およびプラズマ処理装置 - 特許庁
PROTECTION CIRCUIT FOR MAGNETRON DRIVING POWER SOURCE DEVICE マグネトロン駆動用電源装置の保護回路 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING DEVICE AND SPUTTERING METHOD マグネトロンスパッタリング装置及びスパッタリング方法 - 特許庁
HIGH-VOLTAGE LEAD-THROUGH CAPACITOR AND MAGNETRON 高電圧貫通型コンデンサ並びにマグネトロン - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM EQUIPPED WITH MAGNETRON AND TARGET マグネトロンおよびターゲットを備えたスパッタ装置 - 特許庁
Operational data associated with the magnetron is tracked and written to the memory associated with the magnetron. マグネトロンに関連する動作データが追跡され、マグネトロンに関連するメモリに書き込まれる。 - 特許庁
To provide a magnetron sputtering apparatus of high use efficiency of a target and a magnetron sputtering method. ターゲットの使用効率の高いマグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法を実現する。 - 特許庁
CONTROL METHOD FOR MAGNETRON, SERVICE LIFE DETERMINATION METHOD FOR MAGNETRON, MICROWAVE GENERATOR, SERVICE LIFE DETERMINING DEVICE FOR MAGNETRON, PROCESSOR AND STORAGE MEDIUM マグネトロンの制御方法、マグネトロンの寿命判定方法、マイクロ波発生装置、マグネトロンの寿命判定装置、処理装置及び記憶媒体 - 特許庁
MAGNETIC FIELD GENERATING DEVICE FOR MULTIPOLAR MAGNETRON PLASMA マルチポール型マグネトロンプラズマ用磁場発生装置 - 特許庁
OPERATION CHECKING DEVICE OF MAGNETRON-DRIVING POWER SOURCE マグネトロン駆動用電源の動作確認装置 - 特許庁
MAGNETRON TYPE SPUTTERING DEVICE, AND FILM DEPOSITION METHOD マグネトロン型スパッタ装置および成膜方法 - 特許庁
MAGNETRON CATHODE PART AND ITS MANUFACTURING METHOD マグネトロン用陰極部及びその製造方法 - 特許庁
SPUTTER MAGNETRON HAVING TWO ROTATION DIAMETERS 2つの回転直径を有するスパッタマグネトロン - 特許庁
VAULT SHAPED TARGET AND HIGH-FIELD MAGNETRON ボールト形状のターゲット及び高磁界マグネトロン - 特許庁
Ti-W MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS マグネトロンスパッタリング装置用Ti−W材 - 特許庁
PORTABLE MICROWAVE OVEN USING PHASED-ARRAY MAGNETRON フェーズドアレイマグネトロン使用の携帯用電子レンジ。 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND THIN FILM MANUFACTURING METHOD マグネトロンスパッタ装置及び薄膜製造方法 - 特許庁
PULSE MAGNETRON DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME パルスマグネトロン装置およびその製造方法 - 特許庁
To provide a device for heating a cathode of a magnetron, capable of favorably shortening the time of preheating the magnetron. マグネトロンの予熱時間を良好に短縮することができる陰極加熱装置を提供する。 - 特許庁
MAGNETRON FOR MICROWAVE OVEN AND ITS MANUFACTURING METHOD 電子レンジ用マグネトロンおよびその製造方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM PRODUCTION METHOD マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 - 特許庁
NOISE FILTER OF MAGNETRON AND METHOD FOR FORMING THE SAME マグネトロンのノイズフィルタ及びその形成方法 - 特許庁
MAGNET STRUCTURE FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, CATHODE ELECTRODE UNIT, AND MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM マグネトロンスパッタリング装置用の磁石構造体およびカソード電極ユニット並びにマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁
FILM-FORMING METHOD BY SPUTTERING AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS スパッタ成膜方法及びマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁
MAGNETRON CATHODE, AND SPUTTERING SYSTEM INSTALLED WITH THE SAME マグネトロンカソードとそれを搭載したスパッタ装置 - 特許庁
MAGNET STRUCTURE FOR MAGNETRON SPUTTERING, CATHODE ELECTRODE UNIT, AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS マグネトロンスパッタリング用の磁石構造体およびカソード電極ユニット並びにマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁
LIQUID-COOLED MAGNETRON AND WATERPROOF DEVICE FOR ATTACHMENT THEREOF 液冷マグネトロンとその取付用防水装置 - 特許庁
MAGNETRON, MICROWAVE OVEN, AND HIGH FREQUENCY HEATING DEVICE マグネトロン、電子レンジ及び高周波加熱装置 - 特許庁
An apparatus for manufacturing a stress-free flexible printed circuit board comprises: a magnetron deposition source 70; a plurality of single magnetron deposition sources 10; and a plurality of dual magnetron deposition sources 20, wherein a substrate is installed to move in a direction from the single magnetron deposition sources 10 to the dual magnetron deposition sources 20. マグネトロン蒸着源70、多数の単一マグネトロン蒸着源10及び二重マグネトロン蒸着源20を含み、単一マグネトロン蒸着源10から二重マグネトロン蒸着源20への方向に基板が移動するように配置される。 - 特許庁
MANUFACTURE OF MAGNETRON PART AND MANUFACTURING DEVICE マグネトロン部品の製造方法および製造装置 - 特許庁
MAGNETRON FOR MICROWAVE OVEN AND ITS FORMING METHOD 電子レンジ用のマグネトロン及びその形成方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR MAGNETRON SPUTTERING マグネトロンスパッタリング装置及びマグネトロンスパッタリング方法 - 特許庁
MAGNETRON CATHODE, AND SPUTTERING APPARATUS USING THE SAME マグネトロンカソード及びそれを用いたスパッタリング装置 - 特許庁
MAGNETRON AND MICROWAVE APPLICATION DEVICE USING IT マグネトロン及びそれを用いたマイクロ波応用装置 - 特許庁
HIGH VOLTAGE CAPACITOR AND MAGNETRON (LOW HEIGHT HFC) 高電圧コンデンサ及びマグネトロン(低背型HFC) - 特許庁
MAGNETRON DRIVING POWER SOURCE DEVICE FOR ELECTRODELESS LIGHT SOURCE 無電極光源用マグネトロン駆動電源装置 - 特許庁
MAGNETRON DRIVE POWER SUPPLY DEVICE FOR ELECTRODELESS LIGHT SOURCE 無電極光源用マグネトロン駆動電源装置 - 特許庁
MAGNETRON DRIVING POWER SUPPLY FOR HIGH FREQUENCY HEATING DEVICE 高周波加熱装置のマグネトロン駆動用電源 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD マグネトロンスパッタリング装置および薄膜形成方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 - 特許庁
When the magnetron is rotated in a different direction, the magnetron is pivotably moved around the pivot by the hydrodynamic force between the magnetron and a cooling water tank. マグネトロンが異なる方向に回転するとき、マグネトロンと冷却水槽の間の流体力学的力により、マグネトロンがピボット軸の周りをピボット運動する。 - 特許庁
EQUIPMENT FOR MAGNETRON PLASMA TREATMENT AND METHOD OF PLASMA TREATMENT マグネトロンプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁
CATHODE STRUCTURE FOR MAGNETRON, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME マグネトロン用陰極構体及びその製造方法 - 特許庁
TARGET HAVING PROFILED THICKNESS FOR RF MAGNETRON 厚さがならい削りされた、RFマグネトロン用ターゲット - 特許庁
MAGNETRON UNIT OF SPUTTERING APPARATUS, AND SPUTTERING APPARATUS スパッタリング装置のマグネトロンユニット及びスパッタリング装置 - 特許庁