「MAGNETRON」を含む例文一覧(1445)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 .... 28 29 次へ＞- To provide a small, low-loss and low-cost magnetron filament power supply device capable of using a conventional general-purpose magnetron and having a simple structure.
従来の汎用マグネトロンを使用することができ、簡単な構成と小型で低損失、ローコストのマグネトロンフィラメント電源装置を提供する。 - 特許庁 - The source magnetron is smaller, stronger, and unbalanced source magnetron 62 and is positioned near the edge of the wafer in sputter deposition and etching.
該ソースマグネトロンは、より小さく、より強く、かつアンバランスのソースマグネトロン６２であり、スパッタ堆積及びエッチングにおいて、ウェーハのエッジ近くに位置している。 - 特許庁 - MAGNETIC ANISOTROPY FERROMAGNETIC MAGNETRON SPUTTERING TARGET AND PRODUCING METHOD THEREFOR
磁気異方性強磁性体マグネトロンスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - The strip magnetron may be a two-level folded magnetron (200) in which each magnetron forms a folded plasma loop extending between lateral sides of the strip target and its ends meet (220) in the middle of the target.
帯状マグネトロンは二段式褶曲マグネトロン（２００）であってもよく、ここで各マグネトロンが帯状ターゲットの側部の間に延びる褶曲プラズマループを形成し、またその端部はターゲットの中央で接する（２２０）。 - 特許庁 - MAGNET STRUCTURE FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND CATHODE ELECTRODE UNIT, AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR USING MAGNET STRUCTURE
マグネトロンスパッタリング装置用の磁石構造体およびカソード電極ユニット並びにマグネトロンスパッタリング装置並びに磁石構造体の使用方法 - 特許庁 - To provide a magnetron driving power supply unit capable of suppressing nonuniform vibration appearing in an anode current in driving a magnetron.
マグネトロンを駆動した際にアノード電流に現れる不均一な振動を低く抑えることができるマグネトロン駆動電源装置を提供する。 - 特許庁 - TARGET CONSTITUTION, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND MAGNETRON SPUTTERING SUPPLY SOURCE
ターゲット構成、デバイスを製造する方法、およびマグネトロンスパッタ供給源 - 特許庁 - To provide a magnetron which can reliably join a filament with hats on both ends for characteristic improvement, and a method for manufacturing the magnetron.
特性が向上し、フィラメントを両端のハットに確実に接合できるマグネトロン及びその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The magnetic fields by magnets 32 and 34 of a magnetron 16 are applied thereto.
これに、マグネトロン１６の磁石３２，３４による磁界も加えられる。 - 特許庁 - MAGNETRON CATHODE ELECTRODE, AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME
マグネトロンカソード電極及びマグネトロンカソード電極を用いたスパッタリング方法 - 特許庁 - In the dual magnetron for sputtering, the positions of the magnetron can be moved in complementary radial directions between sputter deposition and target cleaning.
スパッタリング用デュアルマグネトロンにおいて、該マグネトロンの位置は、スパッタ堆積とターゲット洗浄の間で、相補的半径方向に動かすことができる。 - 特許庁 - In the step S9, a magnetron drive time Ts is set to be 120 second.
ステップＳ９では、マグネトロン駆動時間Ｔｓを「１２０秒」に設定する。 - 特許庁 - HIGH-VOLTAGE FEED-THROUGH CAPACITOR, HIGH-VOLTAGE FEED-THROUGH CAPACITOR DEVICE, AND MAGNETRON
高電圧貫通型コンデンサ、高電圧貫通型コンデンサ装置、及び、マグネトロン - 特許庁 - The reference signal supply section 6 supplies a reference signal having a low power and a stable frequency as compared with those of the output from the magnetron 2 to the magnetron 2.
基準信号供給部６は、マグネトロン２の出力よりも低電力かつ周波数が安定した基準信号をマグネトロン２に供給する。 - 特許庁 - HIGH-VOLTAGE FEEDING CAPACITOR, HIGH-VOLTAGE FEED-THROUGH CAPACITOR DEVICE, AND MAGNETRON
高電圧貫通型コンデンサ、高電圧貫通型コンデンサ装置、及び、マグネトロン - 特許庁 - To provide a cathode for a magnetron where no cathode part is required to be heated.
陰極部を加熱する必要がないマグネトロン用陰極を目的とする。 - 特許庁 - METHOD OF FORMING DIELECTRIC THIN FILM AND HIGH-FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
誘電体薄膜の形成方法および高周波マグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁 - To provide a microwave apparatus, which bearing a magnetron, is a moving type, assuring for longer service life of the magnetron and higher reliability.
マグネトロンを搭載し、かつ移動する形式のマイクロ波装置において、マグネトロンの長寿命化と高信頼性を確保したマイクロ波装置を可能にする。 - 特許庁 - To restrain the variation of input power for a magnetron driving power supply due to voltage variation of commercial power and to moderate thermal stress to the magnetron driving power supply.
商用電源の電圧変動によるマグネトロン駆動用電源の入力電力の変動を抑制し、マグネトロン駆動用電源の熱的なストレスを緩和する。 - 特許庁 - The supply unit 6 supplies to the magnetron 2, a reference signal whose power is lower than that of the output of the magnetron 2, and frequency is stabilized.
基準信号供給部６は、マグネトロン２の出力よりも低電力かつ周波数が安定した基準信号をマグネトロン２に供給するものである。 - 特許庁 - To provide a magnetron improved in reliability and work efficiency for welding of a choke coil to a capacitor terminal of the magnetron driven by using an inverter power supply.
インバータ電源を用いて駆動するマグネトロンのチョークコイルとコンデンサ端子との溶接に対して信頼性および作業性を向上したマグネトロンの提供。 - 特許庁 - MICRO WAVE PLASMA GENERATOR, AND MAGNETRON SPUTTERING FILM FORMATION APPARATUS USING THE SAME
マイクロ波プラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置 - 特許庁 - To provide a microwave generator capable of precisely controlling filament temperature of a magnetron for realizing long service life of the magnetron.
マグネトロンのフィラメント温度を精度良く制御することができ、もってマグネトロンを長寿命化させることができるマイクロ波発生装置を提供する。 - 特許庁 - PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND W MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM
半導体素子の製造方法およびマグネトロンスパッタリング装置用Ｗ材 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING DIELECTRIC OXIDE FILM AND DUAL-CATHODE MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
酸化物誘電体膜の製造方法とデユアルカソードマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁 - To provide a cathode for a magnetron without the need for its cathode part to be heated and a method for manufacturing the cathode, and to provide a magnetron using the cathode.
陰極部を加熱する必要がないマグネトロン用陰極及びその製造方法並びにその陰極を用いたマグネトロンを提供することを目的とする。 - 特許庁 - The impedance generator 5 can reduce the width of variation in oscillation frequency of the magnetron 2, by adjusting the load impedance of the magnetron 2.
インピーダンス発生器５は、マグネトロン２の負荷インピーダンスを調整することにより、マグネトロン２の発振周波数の変化幅を縮小することができる。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND Ta MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
半導体素子の製造方法およびマグネトロンスパッタリング装置用Ｔａ材 - 特許庁 - A potential difference is given between the cylindrical magnet 8 and the intermediate cylindrical electrode 7 by a magnetron discharge power source 9 to generate magnetron discharge plasma F.
円筒型磁石８と中間円筒電極７の間にマグネトロン放電電源９で電位差を与え、マグネトロン放電プラズマＦを発生する。 - 特許庁 - To provide a magnetron filament power supply device in which downsizing can be made and a stable filament power supply can be supplied even to a general-purpose magnetron.
小型化できると共に、汎用のマグネトロンに対しても安定したフィラメント電源を供給することができるマグネトロンフィラメント電源装置を提供する。 - 特許庁 - To obtain a magnetron sputtering apparatus and a magnetron sputtering method for improving the use efficiency of a hollow target of a cylindrical shape, etc.
円筒状等の中空状ターゲットの利用効率の向上を図ることができるマグネトロンスパッタリング装置及びマグネトロンスパッタリング方法を得ることを目的とする。 - 特許庁 - To control driving of a magnetron on the basis of an output level by directly detecting the output level of a microwave outputted from the magnetron.
マグネトロンから出力されるマイクロ波の出力レベルを直接検出することで、その出力レベルに基づいてマグネトロンの駆動を制御する。 - 特許庁 - To provide a magnetron which is small in number of part items and excellent in workability.
部品点数が少なく、また、作業性のよいマグネトロンを提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for reducing the permeability of a target material by the magnetron sputtering method.
マグネトロンスパッタリング法のターゲット材の透磁率の低減方法の提供。 - 特許庁 - When the temp. of a magnetron 8 lowers to predetermined temp. after the constant temp. is elapsed, the pellets are again heated by the magnetron only for a predetermined time (Δt).
一定時間が経過した後、マグネトロン８の温度が所定の温度にまで低下すると、再び、所定時間（Δｔ）だけ、マグネトロン８による加熱を行なう。 - 特許庁 - To provide a miniaturized magnetron device with an improved energy conversion efficiency.
エネルギー変換効率が向上し、小型化されたマグネトロン装置を提供する。 - 特許庁 - To avoid thermorunaway when a magnetron 33 is driven over a long time in a power supply controller 40 which controls a pulse power supply 32 that drives the magnetron 33 by supplying a pulse current to the anode of the magnetron 33.
マグネトロン３３の陽極にパルス電流を供給してマグネトロン３３を駆動するパルス電源３２を制御する電源制御装置４０において、マグネトロン３３が長時間に亘って駆動される場合の熱暴走を回避する。 - 特許庁 - To provide a waterproof device for attachment of liquid-cooled magnetron, capable of mounting a liquid-cooled magnetron on the upper surface of a waveguide launcher easy to mount while interrupting water flowing from the liquid-cooled magnetron by dew condensation.
結露によって液冷マグネトロンから流れ出る水を防水し、取付けが簡単となる導波管ランチャーの上面に液冷マグネトロンを取付けることができるようにした液冷マグネトロンの取付用防水装置を提供すること。 - 特許庁 - Based on a characteristic that the higher the temperature of a magnetron 5, the lower the output of the magnetron 5, the output of the microwave is held constant by variably controlling the airflow of a fan 6 detecting the temperature of the magnetron 5 by a thermistor 10.
マグネトロン５の温度が上昇すると出力が低下するという特性を踏まえ、マグネトロン５の温度をサーミスタ１０で検知してファン６の風量を可変制御することにより、マイクロ波出力を一定に維持する。 - 特許庁 - To provide a magnetron cathode structure capable of uniformly enhancing welding strength between a magnetron cathode body and a cathode lead to support the magnetron cathode body, or to provide its manufacturing method capable of uniformly enhancing welding strength between the magnetron cathode body and the cathode lead.
マグネトロン用陰極本体とこのマグネトロン用陰極本体を支持する陰極リードとの溶接強度を一様に向上させることができるマグネトロン用陰極の構造、あるいはマグネトロン用陰極本体と陰極リードとの溶接強度を一様に向上させることのできる製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a cathode structure for a magnetron enabled to obtain an excellent short pulse operation.
良好な短パルス動作が得られるマグネトロン用陰極を提供すること。 - 特許庁 - To cut off an amount of use of materials without degrading load stability of a magnetron.
マグネトロンの負荷安定度を劣化させず材料の使用量を削減する。 - 特許庁 - The extending pipes respectively prevent unnecessary microwave noise generated from the magnetron.
延長管は、マグネトロンから発生した不要な極超短波ノイズを遮断する。 - 特許庁 - LARGE ELECTRIC POWER PULSED MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND LARGE ELECTRIC POWER ELECTRIC ENERGY SOURCE
大電力パルス化マグネトロンスパッタリング方法および大電力電気エネルギー源 - 特許庁 - MANUFACTURE OF THIN FILM, MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE
薄膜の製造方法、半導体装置の製造方法、およびマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁 - To provide a planer magnetron sputtering apparatus which can control the film thickness highly precisely.
高精度に膜厚を管理することができるプレーナマグネトロンスパッタ装置の提供。 - 特許庁 - To provide a magnetron with enhanced oscillation efficiency and saving energy.
マグネトロンの発振効率を高め省エネルギーに寄与するマグネトロンを提供すること。 - 特許庁 - FIELD ELECTRON EMITTING SOURCE, MAGNETRON USING IT, AND MICROWAVE APPLIED DEVICE
電界電子放出源及びそれを用いたマグネトロン及びマイクロ波応用装置 - 特許庁 - FIELD ELECTRON EMISSION SOURCE, MAGNETRON USING THE SAME, AND MICROWAVE APPLICATION DEVICE
電界電子放出源、及びそれを用いたマグネトロン及びマイクロ波応用装置 - 特許庁 - As a result, a high performance magnetron that has the high oscillation efficiency can be obtained.
その結果、発振効率が高い高性能のマグネトロンを得ることができる。 - 特許庁
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