「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 .... 10 11 12 13 14 15 16 17 18 .... 35 36 次へ＞- To provide a lighting system which is configured to reduced the cost and size, and which can form an illumination pattern in a form of an N-gon frame with high accuracy.
低コスト、小型可能で、Ｎ角形の枠状の照射パターンを高精度に形成することが可能な照明装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a vehicle travel control system and a vehicle travel control method which improve accuracy of reproducing a travel pattern of a vehicle.
車両の走行パターンを再現する精度が向上する車両走行制御システム、車両走行制御方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a piezoelectric vibrating body which has a highly accurately formed minute pattern on upper and lower sides of a piezoelectric vibrator with high accuracy to thereby prevent a cross sectional part from being short- circuited.
圧電振動子の上下面の微細パターンを高精度に形成し、断面部のショートを防止した圧電振動体の提供。 - 特許庁 - To provide a method for pattern formation capable of affording in high accuracy, well-balanced filter patterns and fluophor patterns, and capable of improving the yielding percentage and/or lowering the cost.
健全なフィルタパターンと蛍光体パターンが高精度に得られ、歩留まり向上や低コスト化が可能なパターン形成方法を得る。 - 特許庁 - To provide a pattern recognizing device more improved in accuracy in comparison with a conventional recognizing device for performing rough classification on the basis of main component analysis or the like.
主成分分析等に基づいて大分類を行う従来の認識装置と比べ、より高精度なパターン認識装置の提供。 - 特許庁 - To provide a hardening composition for nanoimprinting lithography, having a low viscosity and a high transcription pattern accuracy, and excellent in a mechanical strength.
低粘度で高い転写パターン精度を有しつつ、機械的強度に優れたナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an arrival direction estimating device capable of estimating an arrival direction of an arriving wave with accuracy higher than that of an antenna pattern table.
アンテナパターンテーブルの精度よりも高い精度で到来波の到来方向を推定可能な到来方向推定装置を提供する。 - 特許庁 - To form a fine pattern of uniform line width with high accuracy by reducing focus error caused by flexure of mask.
マスクの撓みに起因するフォーカス誤差を低減することにより、均一な線幅の微細なパターンを高い精度で形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide a technique that improves accuracy of alignment for an object having a repetition pattern and a similar line segment.
繰り返しパターンや類似した線分を有する物体に対する位置合わせの精度を向上させる為の技術を提供すること。 - 特許庁 - To obtain an excellent image composition result by improving matching degree among a plurality of images and improving pattern alignment accuracy.
複数画像間の絵柄の一致度を高め、かつ絵柄の位置合わせ精度を高める工夫によって、良好な画像合成結果を得る。 - 特許庁 - To provide a pattern recognition apparatus that is lightweight for mounting, and to suppress the effects of registration conditions or check conditions on recognition accuracy.
実装上軽量で、かつ、登録条件、又は照合条件による認識精度に対する影響を抑制することを目的とする。 - 特許庁 - To solve the problem wherein riding comfort is deteriorated when enhancing a following performance to a speed pattern by frequently switching notches so as to improve the accuracy of a stop.
停止精度を向上するため、ノッチを頻繁に切り替えて速度パターンへの追従性を高めると、乗り心地が悪化する。 - 特許庁 - To provide a curable composition for optical imprint excellent in pattern accuracy and novel photo-curability and a method for producing cured products using the same.
パターン精度に優れた、新規な光硬化性に優れたインプリント用硬化性組成物および硬化物の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide electron beam transfer equipment which can reduce defocusing due to space charge effect and can form a pattern with higher accuracy and high throughput.
空間電荷効果によるボケを低減でき、より高精度・高スループットでパターン形成できる電子ビーム転写装置を提供する。 - 特許庁 - To provide the forming method of a thin film pattern which is excellent in the uniformity of linewidth accuracy in the surface of a substrate and between substrates.
基板面内および基板間においての線幅精度の均一性が良好な薄膜パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a laser plotting device which performs the reduction magnification correction processing of a plotting pattern to the size fluctuation of a processing object with high accuracy.
処理対象物の寸法変動に対する描画パターンの縮倍補正処理を高精度に行うレーザ描画装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method for a material having low transmittance of light for alignment with high alignment accuracy and less number of processes.
高いアライメント精度、および少ない工程数でアライメント用の光の透過率が低い材料のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The registration accuracy of an arbitrary layer of a semiconductor device that is manufactured in lot units and a resist pattern formed on it is measured.
ロット単位で製造される半導体デバイスの任意の層と、その上に形成されるレジストパターンとの重ね合わせ精度を測定する。 - 特許庁 - To provide a method and a device for correcting a white defect in a photomask with high correction accuracy while preventing influences on image quality on transferring a pattern.
転写時の像質への影響がなく修正精度の高いフォトマスクの白欠陥修正方法及び装置を提供すること。 - 特許庁 - To eliminate fixed pattern noise that occurs in an imaging device of an electronic camera with high accuracy even though fluctuations of an environment are large in an imaging mode.
電子カメラの撮像素子で発生する固定パターンノイズを、撮像時の環境の変動が大きくとも、高い精度で除去する。 - 特許庁 - To improve overlay accuracy of a circuit pattern by sharply reducing friction of a stage drive system generated at acceleration/deceleration of a stage.
ステージの加減速時に発生するステージ駆動系のフリクションを大幅に低減し、回路パターンの重ね合わせ精度を向上させる。 - 特許庁 - To improve a degradation in tracking accuracy on a boundary portions between cardiac chambers and cardiac muscle due to the influence of speckle pattern noise caused by a contrast medium.
造影剤によるスペックルパターンノイズの影響による心腔と心筋との境界部分のトラッキング精度の低下を改善すること。 - 特許庁 - To provide a display pattern inspection method of a liquid crystal display panel, which can reduce the rate of mis-judment and can enhance inspection accuracy.
誤判定率を低減し、検査精度を向上することのできる液晶表示パネルの表示パターン検査方法を提供すること。 - 特許庁 - To detect a watermark pattern without the reduction of detection accuracy, prolongation of detection time, degradation of picture quality and increase of detection throughput.
検出精度の低下、検出時間の増加、画質の劣化、または検出の処理量の増加なしにウォータマークパターンを検出する。 - 特許庁 - To provide a screen plate which can effectively inhibit fall in accuracy of a printing pattern caused by deformation of a screen for supporting.
支持用スクリーンの変形を要因とする印刷パターンの精度低下を効果的に防止することが可能なスクリーン版を提供する。 - 特許庁 - To form an upper electrode with higher accuracy on a high stepped pattern including in a capacitance element including a lower electrode of a polar structure.
柱状構造の下部電極を有する容量素子において、高段差パターン上に上部電極を加工精度良く形成する。 - 特許庁 - To provide a film deposition apparatus and a film deposition method capable of forming a thin film pattern with high accuracy while ensuring the physical strength of a mask.
マスクの物理的強度を確保しつつ、薄膜パターンを高精度に形成可能な成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁 - To decrease an influence of a light having a wavelength different from that of a pattern light of an EUV exposure to improve an accuracy of a lithography.
ＥＵＶ露光におけるパターン光と異なる波長の光の影響を低減することができ、パターン転写精度の向上をはかる。 - 特許庁 - To carry out repair within a very short time that can keep the dimensional accuracy of a thick film pattern without causing new disconnection.
新たな断線を発生せず、しかも厚膜パターンの寸法精度を維持できる上に、非常に短い時間での補修を可能とする。 - 特許庁 - To provide a pattern recognizing device, capable of recognizing patterns whose changes of gradation are repeated in the one-dimensional direction at even intervals with high accuracy.
濃淡変化が１次元方向に等間隔で繰り返されるパターンを高精度に認識できるパターン認識装置を提供する - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a circuit arrangement capable of exposing the electric conduction pattern from coated resin with ease and sufficient accuracy.
被覆樹脂からの導電パターンの露出を容易かつ精度良く行うことが可能な回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To enhance the recognition of an operation pattern and response accuracy by quickly specifying an interested area without performing complicated image control.
複雑な画像制御を行うことなく、関心領域を迅速に特定することで、動作パターンの認識、並びに応答精度を高める。 - 特許庁 - To provide a method of forming a resist pattern, capable of keeping high film thickness accuracy of photoresist without strictly controlling an exposure quantity.
露光量を厳密に制御せずとも、フォトレジストの膜厚精度を高く維持することのできるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of creating a design layout of a semiconductor device that can modify design pattern at a high-speed and with high accuracy.
高速高精度に設計パターンを修正することが可能な半導体装置の設計レイアウト作成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a digital mirror device (DMD) pattern drawing apparatus which uses a high-accuracy and inexpensive microlens array causing no attenuation of exposure light.
露光光の減衰がなく、高精度で安価なマイクロレンズアレーを使用するデジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）パターン描画装置を提供する。 - 特許庁 - To produce an etching proximity effect correction model correcting a mask pattern with respect to an etching proximity effect with high accuracy.
エッチング近接効果に対するマスクパターンの補正を非常に高精度で行うことができるエッチング近接効果補正モデルを作成する。 - 特許庁 - By this method, a shape of the ball pattern part 28 constituting a recess channel 200 is formed with accuracy and superior reproducibility.
上記方法によれば、リセスチャネル２００を構成するボールパターン部２８の形状を正確、かつ再現性よく形成することができる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can form an aluminum wiring pattern highly accuracy, without using an antireflection film.
反射防止膜を使用しなくてもアルミニウム配線パターンを高精度に形成できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a calibration device or the like capable of performing the calibration processing with high accuracy and easily, using a simple calibration pattern.
単純なキャリブレーションパターンを用い、高精度且つ簡単にキャリブレーション処理を行うことができるキャリブレーション装置などを提供する。 - 特許庁 - As the result, SPM data can be related more exactly to the pattern pixels to improve the accuracy of the descreening process.
その結果、絵柄画素に対しより的確にＳＰＭデータとの対応付けをすることができるので、デスクリーニング処理の精度が向上する。 - 特許庁 - To provide a mask which can form a thin film pattern constituting pixels of an organic EL element in accuracy which can correspond to highly minute pixels.
有機ＥＬ素子の画素をなす薄膜パターンを、高精細画素に対応できる精度で成膜することができるマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a color filter which can form a high-accuracy pattern, prevent color mixture and realize reduction in thickness.
高精度のパターン形成を可能にし、混色を防ぐとともに薄型化を実現することのできるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a membrane mask and its manufacturing method which has an absorber pattern formed at a high position accuracy.
本発明は、吸収体パターンが高位置精度のメンブレンマスクおよびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - To provide a constitution capable of improving accuracy in measuring the size of a prescribed section of a given pattern.
与えられたパターンの所定の部分の寸法を測定する際の精度の向上を図り得る構成を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a vehicle travel control system and a vehicle travel control method by which accuracy for reproducing a travel pattern of a vehicle is raised.
車両の走行パターンを再現する精度が向上する車両走行制御システム、車両走行制御方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an ink pattern at a prescribed position on a base with high accuracy and to obtain printed matter of high precision.
基材上の所定の位置に高精度でインキパターンを設けることが可能となり、高精細な印刷物をを得ることを目的とする。 - 特許庁 - To prevent the short-circuiting of an edge part of an IC chip and an electrically conductive pattern of a land part without needing high accuracy.
高い精度を必要とせずに、ＩＣチップのエッジ部分とアンテナやランド部の導電性パターンとが短絡してしまうことを防止する。 - 特許庁 - To provide a pattern recognizing device for high-accuracy identification of a pattern, by orthogonalizing the pattern distribution of each class by orthogonalization selectively using main component vectors having an unique value which is larger than a prescribed value and a unique value corresponding to the main component vectors.
所定の値より大きな固有値を持つ主成分ベクトルとそれらに対応する固有値を選択的に用いた直交化により各クラスのパターン分布を直交化することで、高精度に識別可能なパターン認識装置を提供する。 - 特許庁 - To improve the dimensional accuracy of a hole pattern by reducing optical proximity effect in pattern exposure even when the hole pitch becomes small and to improve the focal depth in the pattern exposure regardless of whether the hole pitch is large or small.
ホールピッチが小さくなってもパターン露光時の光近接効果を低減してホールパターンの寸法精度を改善できるようにすると共にホールピッチの大小に関わらずパターン露光時の焦点深度を向上させることができるようにする。 - 特許庁 - To provide an exposure apparatus and an exposure method for exposing a wide range at once without using a photomask and for quickly correcting positional misalignment with high accuracy between a position of an exposure pattern in an underlay exposure pattern and an exposure position to form an overlay pattern.
フォトマスクを用いずに、一括に広範囲を露光すると共に、下層の露光パターンの位置と上層パターンを形成するための露光位置との位置ずれを、高速かつ高精度に補正し得る露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁
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