「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 .... 11 12 13 14 15 16 17 18 19 .... 35 36 次へ＞- To provide a transfer printing apparatus that can transfer a pattern with high accuracy and no collapse of the pattern even when the pattern is to be formed by transferring onto a print object such as a film and glass having no absorption of ink, and to provide a transfer printing method.
転写によりインキの吸収のないフィルムやガラス等の被印刷物にパターンを形成する場合にも、パターン形状がつぶれず、精度良く転写可能な転写印刷装置及び転写印刷方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - By using this method, asymmetry in the edge shape of the resist patterning-formed second layer pattern 12 is moderated, which enables a highly accurate measurement of the overlap accuracy calculated by sensing the edge positions of the first layer pattern 11 and the second layer pattern 12.
これにより、レジストパターンで形成される第２層パターン１２のエッジ形状の非対称性が緩和され、第１層パターン１１と第２層パターン１２のエッジ位置を検出して算出する重ね合わせ精度を高精度に測定できる。 - 特許庁 - To provide a metal thin film pattern forming method on a polyimide resin base material and a metal thin film circuit pattern forming method on a polyimide resin base material for forming a metal thin film on a surface of the polyimide resin base material with high deposition reliability and high pattern accuracy.
金属薄膜を密着信頼性及びパターン精度高くポリイミド樹脂基材の表面に形成することができるポリイミド樹脂基材の金属薄膜パターン形成方法及び金属薄膜回路パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method by which formation of a surface hardly-solubilized layer is prevented without reducing the thickness of a resist layer, a resist pattern shape and dimensional accuracy are improved, and throughput is not lowered, with respect to a pattern forming method using a chemically amplified resist.
化学増幅型レジストを用いたパターン形成方法において、レジスト層を膜減りさせずに表面難溶化層の形成を防止し、レジストパターン形状及び寸法制度を向上させ、スループットを低下させないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photomask and its manufacturing method by which the productivity can be improved by reducing the exposure time for forming a pattern, no post-treatment after exposure is required, and the pattern accuracy can be improved, and to provide a photomask manufacturing apparatus and a method for forming a pattern.
パターン形成の露光時間を短縮させて生産性の向上を図り、露光後の後処理が必要でなく、パターン精度を良好にできるフォトマスクおよびその製造方法、フォトマスク製造装置、並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a recording apparatus capable of recording without shift in a ruled mark or color shift, which reduces influences on detection accuracy and adjustment accuracy of an impact position and improves impact accuracy even when a disturbance is superimposed on a detection result of a registration adjustment pattern.
レジスト調整パターンの検出結果に外乱が重畳された状態においても、検出精度ひいては着弾位置調整精度への影響を減少させ、着弾精度を向上し、罫線ずれや色味ずれのない記録が可能な記録装置を実現すること。 - 特許庁 - To solve such a problem that, when a pattern of a resist mask is formed with light, the exposure light passes through a glass substrate and is reflected from a stage to decrease the accuracy of pattern forming.
レジストマスクのパターン描画を光で行うとき、描画光がガラス基板を通してステージ上で反射し、パターン描画精度が低下するという問題が本発明で解決すべき課題である。 - 特許庁 - According to this structure, partial shrinkage of a pattern which is caused by the electron beam emitted for measurement or inspection can be suppressed to improve the overall accuracy of pattern formation in the semiconductor wafer.
当該構成によれば、測定や検査のために行われる電子ビームによって生ずる部分的なパターンのシュリンクを抑制し、半導体ウェーハ全体でパターンの形成精度を向上することが可能となる。 - 特許庁 - To provide a capacitive touch panel capable of detecting an input operation position with high accuracy even if an input operation plane becomes large and the resistance value of a detection electrode pattern or the wiring pattern thereof is changed.
入力操作面が大型化し、検出電極パターンやその配線パターンの抵抗値が変動しても、精度良く、入力操作位置を検出可能な静電容量方式タッチパネルを提供する。 - 特許庁 - To provide a photomask which can prevent the generation of static electricity to hardly cause the electrostatic damage of the photomask or the damage of a light shielding film pattern and does not impair the accuracy of the light shielding pattern, and to provide its manufacturing method.
静電気の発生を防止して、フォトマスクの静電破壊や遮光膜パターンの破損が生じにくく、かつ遮光膜パターンの精度を損なわないフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask blank for mold production and a mask blank with resist for mold production, which drastically shorten a production period of mold by forming a fine pattern in high pattern accuracy; and to provide a production process of the mold.
高いパターン精度で微細パターンを形成し、モールドの作製時間を大幅に短縮化するモールド製造用マスクブランクス、モールド製造用レジスト付きマスクブランクス及びモールドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of fabricating an electromagnetic wave shielding material which can form a fine metal pattern with high accuracy without carrying out an etching process, and which can achieve good adhesion between the metal pattern and a substrate.
エッチング工程を行うことなく、微細な金属パターンを高精度で形成することができ、該金属パターンの基材との密着性も良好な、電磁波シールド材料の作製方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pattern inspection apparatus and a method for it which can finely set an area where a high accuracy inspection is required, suppress detection of untrue defects and rapidly inspect a pattern.
高精度の検査が必要なエリアをきめ細かく設定し、かつ擬似欠陥の検出を抑制しつつ、迅速にパターン検査をすることが可能なパターン検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a switch board and its manufacturing method which lowers the specific resistance of a switch pattern, makes fine the boundary line of the switch pattern, and obtains a good rectangular on-off waveform at a high accuracy.
スイッチパターンの比抵抗を低くでき、スイッチパターンの境界線部分をファイン化でき、きれいな矩形状の精度のよいオンオフ波形が得られるスイッチ基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a plasma display panel with good combustibility of resist layer and excellent workability, which is capable of forming excellent pattern for size accuracy without generating pattern fracture by blister.
レジスト層の燃焼性が良好で、ブリスターによるパターン欠損が生じることなく寸法精度に優れたなパターンを形成でき、作業性に優れたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To transfer a circuit pattern having a size finer than a half of a wavelength of an exposure beam on a semiconductor wafer plane with excellent accuracy by means of a mask whereupon an integrated circuit pattern is formed and a reduction projection aligner.
集積回路パターンを形成したマスクと縮小投影露光装置により、露光光の波長の半分より微細な寸法の回路パターンを精度よく半導体ウエハ面に転写する。 - 特許庁 - To provide a lithography simulation method capable of accurately verifying a transcription pattern even though a calculating area of the lithography simulation is narrowed to achieve a good balance between a reduction of calculation time and an accuracy of the pattern verification, and to provide a program for making a computer execute the method.
リソグラフィ・シミュレーションの計算領域を狭くしても転写パターンを正確に検証することができ、計算時間の短縮とパターン検証の正確性との両立をはかる。 - 特許庁 - To provide a plating film deposition method capable of easily depositing a plating film of excellent quality on a polymer base material with a desired pattern, and forming a fine plating film pattern of high accuracy.
ポリマー基材上に良質なメッキ膜を所望のパターンで容易に形成することができ、且つ、微細で高精度なメッキ膜パターンを形成させることが可能なメッキ膜の形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a laminate where by a period for manufacturing the laminate is shortened, adjusting accuracy is improved between an outer layer pattern and an inner layer pattern, and flatness can be secured.
積層板の製造に必要な期間の短縮、外層パターンと内層パターンの合わせ精度の向上、および平坦性の確保を図ることができる積層板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To calculate an absolute position through a small amount of operation even when a false random code is used for an ABS pattern, and also to ensure the accuracy of the absolute position even when thickening or the like occurs in the ABS pattern.
ＡＢＳパターンに擬似ランダム符号を用いても少ない演算量で絶対位置を算出すると共に、ＡＢＳパターンに太り等が生じた場合でも絶対位置の精度を確保できる。 - 特許庁 - To provide a radiation-curing composition giving a cured object excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film and a method for forming a pattern.
露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resin composition which is developed with water, achieves good pattern accuracy, ensures little residue of organic matter after baking by heating, and is used chiefly for a resistive element pattern excellent in adhesion, and also to provide a cured product thereof.
水で現像ができ、パターン精度が良好で、加熱焼成後の有機物の残渣が少なく、密着性に優れた抵抗体パターン用等の樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁 - To provide a latent image carrier where an area having different characteristic from that of the periphery can be formed in an optional pattern with good positioning accuracy and a mark for positioning, a pattern for correcting an exposing dot position or the like can be formed.
周囲と特性の異なる領域を任意のパターンで位置精度良く作成可能であり、位置決め用マークや露光ドット位置補正用パターン等を作成可能とした潜像担持体を提供する。 - 特許庁 - To propose a magnetic pattern detection apparatus in which reduction in detection accuracy of a magnetic pattern can be avoided even if an output level of a sensor output signal of a magnetic sensor device varies due to an individual difference or a temperature.
個体差や温度に起因して磁気センサ装置のセンサ出力信号の出力レベルが変化しても磁気パターンの検出精度の低下を回避できる磁気パターン検出装置を提案すること。 - 特許庁 - To provide a vapor deposition mask structural body having high durability capable of preventing a metal mask from being sagged by the thermal expansion in the vapor deposition using the mask for forming a pattern, and maintaining the high pattern accuracy.
パターン形成のためにマスクを用いた蒸着において、熱膨張によってメタルマスクがたるむのを防ぎ、高いパターン精度を維持でき、高い耐久性をもつ蒸着用マスク構造体を実現する。 - 特許庁 - Consequently, the voltages of the on-off pattern data meeting the gradation data are impressed to the liquid crystals in accordance with the data outputted from the pattern table 104 and therefore the aperture ratio of the liquid crystals is controlled with high accuracy.
この結果、液晶には、パターンテーブル１０４から出力されたデータに基づいて、階調データに応じたオンオフパターンの電圧が印加されるので、液晶の開口率が高精細に制御される。 - 特許庁 - To enable character recognition with high accuracy by avoiding excessive association of characteristic points and also excessive matching involved in it in the association of characteristic points between an inputted pattern and a dictionary pattern.
入力パタンと辞書パタンとの間の特徴点の対応付けにおける、過度の特徴点の対応づけおよびそれに伴う過度のマッチングを回避して、高精度の文字認識を可能にする。 - 特許庁 - To prevent degradation in the collation accuracy of a dynamic image even if an image pattern which commonly appears in many images or an image pattern of which feature quantity is not stably determined exists in an image.
多くの映像中に共通に現れる映像パタンや特徴量が安定的に求まらない映像パタンが映像中に存在していても、動画像の照合精度の低下を防止する。 - 特許庁 - By this setup, the line width of the resist pattern is predicted by the use of the above function models, a feed forward control can be realized, and the line width of the resist pattern and the thickness of the resist film can be controlled with high accuracy.
これにより、上記関数モデルによって、例えば線幅を予測することによりフィードフォワード制御が可能となり、精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an exposure mask by which a resist pattern formed by a lithographic process can be finely processed with preferable pattern shape accuracy, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.
リソグラフィー処理によって形成されたレジストパターンを形状精度良好に微細化処理することが可能な露光マスクの作製方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain excellent pattern characteristic (pattern accuracy) when etching a copper foil laminate by effectively preventing resin dust deposition in a laminating step with an insulating prepreg mainly consisting of epoxy resin or the like.
エポキシ樹脂等を主成分とする絶縁性プリプレグとの積層工程において、レジンダストを効果的に防止し、それによって積層銅箔のエッチングに際して良好なパターン特性（パターン精度が良い）を得る。 - 特許庁 - To provide a method for forming conductive pattern without deterioration in shape accuracy of printing patterns with initial formation of printing when selectively forming conductive patterns on the printing pattern.
印刷パターン上に選択的に導電性パターンを成膜する際、初期の印刷形成による印刷パターンの形状精度を損なうことなく導電性パターンを形成可能な方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a mask for vapor deposition, a mask for vapor deposition, and a manufacturing method of a display device in which a multiple pattern can be materialized while forming a through hole pattern with excellent accuracy.
透過孔パターンを精度良く形成しつつ、多面取りを実現することが可能な蒸着用マスクの製造方法および蒸着用マスクならびに表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for measuring temperature for a finely writing device which can form a high-accuracy pattern by accurately measuring the temperature of a substrate while the substrate is transported and while the pattern is written on the substrate.
搬送途中の基板温度及び描画中の基板温度を正確に測定し、高精度なパターンを形成できる微細描画装置における温度測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a cleaning device or cleaning method which is capable of cleaning a mask for fine pattern exposure with high performance without the occurrence of the change in the pattern dimensions of the mask and film stress distortion and to provide a semiconductor device transferred with the high-accuracy patterns.
微細パターン露光用マスクのパターン寸法変化や膜応力歪みを生じさせない高性能なマスク洗浄が可能となる洗浄装置あるいは洗浄方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure mask which can form a design pattern having roughness and fineness in compliance with design data with good accuracy and a method of manufacturing the same, and a method of forming a transfer pattern using this exposure mask.
疎密を有する設計パターンを設計データ通りに精度よく形成することが可能な、露光マスクその製造方法、ならびにこの露光マスクを用いた転写パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for measuring misalignment between patterns on both surfaces of a double-face mask with high accuracy, and to provide a method for preparing a double-face mask having a top-surface pattern and a back-surface pattern superposed with high accuracy, using this measurement method.
両面マスクにおける両面のパターンのずれを高い精度で測定する方法を提供すること、および、その測定方法を使用して表面のパターンと裏面のパターンが高い精度で重ね合わせられた両面マスクを作成する方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a silica-based photosensitive resin composition having excellent long-term storage stability at room temperature (20 to 25°C) and high sensitivity and allowing pattern formation with high accuracy, to provide a method for forming a silica-based insulating coating film for obtaining a cured product with high pattern accuracy by using the composition, and to provide electronic components using the composition.
長期の室温（２０〜２５℃）保存安定性に優れ、さらに高感度で、精度よくパターン形成できるシリカ系感光性樹脂組成物、これを用いたパターン精度の高い硬化物が得られるシリカ系絶縁被膜の形成方法、電子部品を提供する。 - 特許庁 - To attain plotting with high accuracy and at high speed with fixed exposure on the substrate as a whole, by further enhancing the flexibility in exposure adjustment in scanning and plotting a fine pattern formed on a magnetic disk medium by electron beams, and plotting the complicated shape of the fine pattern with high accuracy.
磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの電子ビームによる走査描画における照射線量調整の自由度をさらに高めて、微細パターンの複雑な形状の描画を高精度に行い、基板全体で一定の照射線量で高精度かつ高速に描画可能とする。 - 特許庁 - To provide a mask where a joining accuracy of a transfer pattern to be transferred on an object suppresses an effect by a variation of an amount of exposure, sensibility of a resist etc., and where a stable pattern excellent in the joining accuracy can be transferred on the object to be exposed, and to provide its manufacturing method.
被露光体に転写される転写パターンのつなぎ精度が、露光量やレジスト感度等の変動による影響を受けることを抑え、安定してつなぎ精度の良好なパターンを被露光体に転写することができるマスクおよびその作製方法、並びに露光方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method and manufacturing system of a plasma display panel, by which positional misalignment can be determined with proper accuracy at any given location in the panel, and the substrates can be glued together with a high accuracy, because the actual transparent electrode pattern and rib pattern in a cell can be observed without relying on an alignment mark.
アライメントマークによらず、セル内の実透明電極パターンとリブパターンとを観察可能であるため、精度良くまたパネル内の任意の箇所において位置ずれを確認でき、高精度の基板貼り合わせが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法及び製造システムを実現する。 - 特許庁 - To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device which can improve the accuracy of a wiring connection to a semiconductor element, etc. and the forming accuracy of a wiring pattern and further is made of a member in which its wiring pattern is easily bent and to provide a method of manufacturing the semiconductor device and an electronic apparatus.
半導体素子などに対しての配線接続の精度及び配線パターンの形成精度を向上させることができ、さらにその配線パターンが容易に曲げられる部材からなる半導体装置、半導体装置の製造方法および電子機器を提供する。 - 特許庁 - To obtain a method of producing a fine pattern which has excellent transfer printing e and high pattern accuracy; is capable of performing transfer- printing at high alignment accuracy using a master with a light transmission part; has high fineness and high density; and is capable of mass-producing with a high yield, and a printed wiring board using the method.
転写性に優れ、パターン精度が高く、光透過部を有したマスター版を使用してアライメント精度よく転写することができ、高精細で高密度で、そして歩留り良く量産可能な微細パターンの製造方法およびそれを用いたプリント配線板を提供することを目的とする。 - 特許庁 - When the birefringence is 1.2 nm/cm or less, a pattern including an isolated line is exposed; when the birefringence is 2 nm/cm or less, a pattern including dense lines is exposed with high control accuracy of the line width; and when the birefringence is 4 nm/cm or less, a pattern containing dense lines is exposed at regular control accuracy of the line width.
複屈折量が１．２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、孤立線を含むパターンを露光し、複屈折量が２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを高い線幅制御精度で露光し、複屈折量が４ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを通常の線幅制御精度で露光する。 - 特許庁 - To provide a magnetic recording medium which is manufactured with a proper yield, by forming a tracking servo pattern with high density as tracking servo information, performing positioning of a magnetic head with accuracy at the center of a magnetic recording track, and forming a resist pattern which is used, when forming a pattern form comprising magnetic layers with high accuracy.
トラッキングサーボ情報としてトラッキングサーボパターンを高密度で形成することができ、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるものとなるとともに、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを高精度で形成することができ、歩留まりよく製造できる磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁 - To provide a correcting method and a correcting device for a pattern, capable of correcting a pattern defect with high accuracy and capable of suppressing deterioration of, in particular, a non-rectangular pattern shape, in the case of pattern correction of a photomask, a wafer, or the like, used in a semiconductor manufacturing process.
本発明は、半導体製造工程で使用されるフォトマスクやウエハ等のパターン修正処理において、パターン欠陥を高精度に修正することができるとともに、特に非矩形形状のパターン形状の劣化を抑制することができるパターンの修正方法及び修正装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a droplet ejection weight measuring method of a pattern forming apparatus by which ejection weight of a droplet can be measured with high accuracy.
液滴の吐出重量を高精度で測定することができるパターン形成装置の液滴吐出重量測定方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for inexpensively assisting drawing of a pattern at a predetermined position on the surface of a stereoscopic object by an operator in high accuracy.
安価に、しかも、高い精度で、作業者が立体物の表面の所定の位置に模様を描画するのを支援する方法を提供する。 - 特許庁 - To efficiently manufacture a lead frame without requiring a high accuracy in forming an etching pattern to form the lead frame.
リードフレームを形成するためのエッチングパターンを形成する際に高精度を必要とせず、効率的にリードフレームを製造することを可能にする。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
