「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 .... 15 16 17 18 19 20 21 22 23 .... 35 36 次へ＞- To make possible a pattern drafting having a high CD accuracy wherein the line-edge roughness of a resist can be reduced by suppressing the wrong effect of noises.
ノイズによる悪影響を抑制することにより、レジストのラインエッジラフネスを低減することができ、ＣＤ精度の高いパターン描画を可能にする。 - 特許庁 - To provide a reflection type projection optical system which can project an image of a desired pattern at a desired magnification with the high accuracy, and an exposure system using the same.
所望のパターンの像を所望の倍率で高精度に投影することが可能な反射型投影光学系、及びそれを用いた露光装置を提供する。 - 特許庁 - As a result, even the difference in the edge pattern caused by the difference in the positional relation between the edges can be identified to improve the identification accuracy of the person image, for example.
この結果、エッジの位置関係の違いに起因するエッジパターンの違いをも識別し得、例えば人物画像の識別精度を向上できるようになる。 - 特許庁 - To provide a positive type radiation sensitive composition, by which the high resolution and a pattern with the satisfied dimensional accuracy are obtained, and a manufacturing method of a stamper using the same.
高解像度、かつ、寸法精度のよいパタンが得られるポジ型感放射線組成物及びそれを用いたスタンパの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a charged particle beam aligner and a method for measuring exposure dimensions in which the dimensions of an exposure pattern on a sample can be measured with high accuracy.
試料上の露光パターンの寸法測定の高精度化を図ることができる荷電粒子線露光装置及び露光寸法測定方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an imprint mold having a three-dimensional structure pattern with high accuracy and different height to be formed, and a manufacturing method for the imprint mold.
精度良く高さの異なる三次元構造パターンが形成されたインプリントモールド、およびインプリントモールド製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To improve use efficiency of light while keeping preferable exposure accuracy in a light irradiating device that irradiates an object with light in a lengthwise pattern to carry out exposure.
縦長のパターンに光を照射して露光を行なう光照射装置において、良好な露光精度を維持しながら、光の利用効率を上げること。 - 特許庁 - The conventional solder resist printing process is simplified by using this method which reduces the manufacturing cost and realizes a solder resist pattern with accuracy improved.
本発明による単純化されたソルダーレジスト印刷工程によって、生産費用の低減およびより正確なソルダーレジストパターンを実現することができる。 - 特許庁 - By this configuration, a field concentration near the end surface of the semiconductor layer 31 can be alleviated and the pattern accuracy can be improved while the gate insulating film 32 to be thinned.
半導体層31の端面近傍での電界集中を緩和し、ゲート絶縁膜32を薄膜化可能としつつパターン精度を高めることができる。 - 特許庁 - To provide a technique for improving detection accuracy of a modification made to a conductive pattern disposed on a circuit block to be protected.
保護対象の回路ブロックの上に配置された導電パターンに加えられた改変の検出精度を向上するための技術を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an article having a fine pattern which is directly formed on a hard base material and has excellent processing accuracy on a surface.
硬質基材に直接形成される微細パターンの加工精度が良好である、微細パターンを表面に有する物品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a beam-scanning inspection apparatus which can carry out length-measurement of a pattern and the like with accuracy.
本発明の目的は、上記問題を解決し精度良くパターン等の測長を行うことができるビーム走査形検査装置を提供することにある。 - 特許庁 - A mobile station, by taking advantage of the fact that the pattern of a cell-specific reference signal is known, can eliminate interferences by a cell-specific reference signal with high accuracy.
移動局は、セル固有参照信号のパターンが既知であることを利用してセル固有参照信号による干渉を高精度に除去することができる。 - 特許庁 - To provide an apparatus for measuring a displacement of a pantograph, capable of improving a pattern matching processing in accuracy, and to provide a method of detecting a hard spot of trolley wire.
パタンマッチング処理の精度を向上させることを可能とするパンタグラフ変位測定装置及びトロリ線硬点検出方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an etching agent which can prevent the dimensional accuracy of a wiring pattern from being lowered when an electroless-plated layer of copper is removed in a semi-additive process.
セミアディティブ法において無電解銅めっき層を除去する際に、配線パターンの寸法精度の低下を防止できるエッチング剤を提供する。 - 特許庁 - To surely realize enhancement in wiring flexibility, formation accuracy of a conductor pattern and connection reliability due to improvement in the resistance to a roughening solution.
配線自由度の向上、導体パターンの形成精度の向上、及び耐粗化液性等の改善による接続信頼性の向上を確実に図ること。 - 特許庁 - To measure a flow rate in a manner optimized for a consumption pattern of a user, and drastically reduce a power consumption without degrading the measurement accuracy of the flow rate.
流量の計測精度を低下させることなく、利用者の消費形態に適した流量の計測を行って消費電力の大幅な削減を図る。 - 特許庁 - To provide a radiation-curable composition which gives cured articles having excellent pattern accuracy, even when exposure is relatively a little.
露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、及び該組成物を硬化させてなる硬化膜を提供する。 - 特許庁 - To provide a bonder having an illuminator for facilitating recognition of outline and pattern matching with high accuracy at the time of recognizing the image of a semiconductor pellet.
半導体ペレットを画像認識するにあたり、その外形認識及びパターンマッチングが容易で、その精度も高い照明装置を有するボンダを提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a wiring substrate capable of forming a wiring pattern with high accuracy on an aluminum nitride sintered body with high joint strength.
精度の高い配線パターンを、高い接合強度で窒化アルミニウム焼結体上に形成することができる配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The radicals and ions are supplied periodically by a plurality number of times, even after the mask has been completed, thus maintaining pattern position accuracy over a long time.
ラジカルやイオンの供給をマスクの完成後も複数回、定期的に行うことによって、パターン位置精度を長期間に渡って保つことができる。 - 特許庁 - To provide an inexpensive and new patterning technique of an inorganic film effectively patterning a piezoelectric film or the like, excelling in accuracy of the shape of a pattern, and facilitating patterning.
圧電膜等のパターニングに有効であり、パターン形状精度が良好で、パターニングが容易で低コストな新規な無機膜のパターニング技術を提供する。 - 特許庁 - To provide an electronic watermark detector capable of improving the detection accuracy of a watermark pattern embedded in video information by various electronic watermark systems.
様々な電子透かし方式により、映像情報に埋め込まれた透かしパターンの検出精度を高めることができる電子透かし検出装置を提供する。 - 特許庁 - If the flatness accuracy of the glass substrate 20 is proper, the photolithography apparatus 10 makes the glass substrate 20 exposed to exposure laser light LP and forms a circuit pattern.
ガラス基板２０の平面精度が良好であれば、露光装置１０は、露光用レーザ光ＬＰによりガラス基板２０を露光させ、回路パターンを形成する。 - 特許庁 - To improve detection accuracy of a motion vector for an image containing a cyclic pattern, when detecting the motion vector for generating an interpolation frame.
補間フレームを作成するための動きベクトルの検出において、周期的なパターンを含んでいる画像に対して、動きベクトルの検出精度を向上する。 - 特許庁 - To form a high resolution and high accuracy chemically amplified resist film pattern having excellent dry etching resistance and small edge roughness in electron beam lithography.
電子線リソグラフィにおいて、ドライエッチング耐性に優れ、エッジラフネスが小さい、化学増幅型高解像度・高精度レジスト膜パターンの形成を可能にする。 - 特許庁 - Thus, high alignment accuracy can be maintained, even when exposure processing is applied to the lots in which plates of different pattern forming states are mixed.
これにより、パターンの形成状態の異なるプレートが混在したロットを露光処理する場合においても、高い重ね精度を維持することが可能となる。 - 特許庁 - To improve accuracy of shape control for a silicon substrate, in a method for manufacturing a mask having a silicon substrate with an opening pattern formed thereon.
開口パターンが形成されたシリコン基板を有するマスクを製造する方法において、シリコン基板に対する形状制御の精度向上を図る。 - 特許庁 - To produce a laminated structure wherein a two-dimensional pattern is formed on a substrate by fine projections with high dimensional accuracy.
基板上に微細な突起によって二次元のパターンが形成された積層構造体を、高い寸法精度で製造することができる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for molding a polymer having a minute uneven pattern of a high aspect ratio in high shape accuracy and a polymer molding molded by the method.
基材上に、微細で且つ高アスペクト比の凹凸パターンを有するポリマーを高い形状精度で成形する方法及びそのポリマー成形体を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron beam exposure apparatus which can improve throughput and the accuracy of a formation pattern during partial batch exposure.
部分一括露光において、スループットの向上を図るとともに、形成パターンの精度を向上させることのできる電子ビーム露光装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a photomask by which an etching bias in a photomask can be predicted with high accuracy corresponding to a pattern opening ratio.
フォトマスクの製造方法に関し、フォトマスクに於けるエッチングバイアスの予測をパターン開口率に対応して行なうことで、高精度の予測を可能にしようとする。 - 特許庁 - To improve accuracy of a circuit simulation in pattern design by faithfully reproducing a diode characteristic of a light emitting device formed of an organic material.
有機材料で形成された発光素子のダイオード特性を忠実に再現することでパターン設計時における回路シミュレーションの精度を向上させる。 - 特許庁 - To provide a capacitance type coordinate detector constituted so that coordinate detection is performed with high accuracy even when bypasses are formed in an electrode pattern.
電極パターンに迂回路を形成しても高い精度で座標検出を行えるようにした静電容量式の座標検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a metal mask in which an opening width can be made narrower compared with a conventional one even if manufactured using the same pattern accuracy as a photoresist.
フォトレジストとして同じパターン精度のものを用いて製造しても、開口幅を従来に比べて狭くすることができるメタルマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a measuring method of a regist pattern with high accuracy by controlling the volume shrinkage of a scanning electron microscope which is caused by electron irradiation.
走査型電子顕微鏡の電子線照射によるレジストパータンの体積収縮を抑制して、測定精度を向上し得る方法を提供する - 特許庁 - To provide a multilayer ceramic package which can equally suppress the shrinkage during ceramic sintering and reduce degradation of internal circuit pattern accuracy caused by the dispersion of the shrinkage.
セラミック焼結時の収縮を均等に抑制し、収縮のバラツキに起因する内部回路パターン精度の低下を低減する多層セラミックパッケージを得る。 - 特許庁 - To provide a circuit simulation device for improving the accuracy of circuit simulation when designing a pattern by reproducing the diode characteristic of a light emitting element.
発光素子のダイオード特性を再現してパターン設計時における回路シミュレーションの精度を向上させる回路シミュレーション装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for producing semiconductor integrated circuit which forms a gate electrode pattern of MOS transistor with respect to design value with high accuracy.
ＭＯＳトランジスタのゲート電極パターンを設計値に対して高精度に形成することを可能にする半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a toner density sensor which can improve detection accuracy in pattern detection by making a spot shape on a radiating surface be a true circle.
照射面のスポット形状を正円にすることにより、パターン検出の検出精度を向上することができるトナー濃度センサを提供する。 - 特許庁 - To improve the accuracy of evaluation of the reproduced quality of test pattern data for deciding optimum laser power at the time of recording data even if high speed test writing is performed.
高速試し書きの場合でも、データ記録時の最適なレーザパワーを決めるためのテストパターンデータの再生品質の評価を精度良くできるようにする。 - 特許庁 - To correct a process model matching with each layout pattern set as the object of the simulation and to enhance the fitting accuracy of a simulation.
シミュレーションの対象となる個々のレイアウトパターンに合わせてプロセスモデルを補正できるようにすると共に、シミュレーションのフィッティング精度を向上できるようにする。 - 特許庁 - To provide an alkali developable photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, transparency, adhesiveness, alkali resistance or the like and capable of forming a fine pattern with high accuracy.
感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for reliably and fast identifying and measuring an objective pattern with high accuracy out of drawn patterns without relying manpower.
描画されたパターン中から確実かつ精度高くかつ高速かつ人手に頼ることなく対象パターンを特定し、測長などする方法を提供する。 - 特許庁 - To identify even difference in an edge pattern caused by difference in positional relation between edges to improve identification accuracy of a person image, for example.
エッジの位置関係の違いに起因するエッジパターンの違いをも識別できるようにすることで、例えば人物画像の識別精度を向上させること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device which is capable of controlling the line width of a resist pattern and the thickness of a resist film with high accuracy, taking an environment around a substrate into consideration.
基板周囲の環境を考慮した、より精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor, by which the processing dimensional accuracy is improved, and also to provide a method for forming a mask pattern, and a Levenson type phase shift mask.
加工寸法精度の向上を図ることが可能な半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a stencil reticle manufacturing method which is capable of ensuring a stitching margin through a comparatively easy method and improving a pattern connection accuracy and to provide others.
比較的容易な方法でスティッチングマージンを確保してパターン接続精度を向上させることのできるステンシルレチクル作製方法等を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrostatic suction device which can prevent the accuracy of an exposure pattern from lowering due to leakage current to a wafer dislocation due to thermal expansion of the wafer.
ウエハへの漏れ電流やウエハの熱膨張ずれによって露光パターン精度が低下することを防止できる静電吸着装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a small electronic component with a conductor pattern, which is low direct current resistance and uniform in dimensional accuracy and a manufacturing method thereof.
導体パターンの直流抵抗値が小さく、かつ、導体パターンの寸法精度のばらつきが小さい小型の電子部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
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