「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 .... 35 36 次へ＞- To prevent deterioration in the accuracy of expression in printing by reducing as much as possible the effects by a pattern and a texture of the raw material of a three-dimensional relief material.
三次元レリーフのレリーフ材料の素材の持つ柄や質感による影響をできるだけ低減し、印刷による表現の精度が低下するのを防止すること。 - 特許庁 - To provide an exposure method capable of forming a repeated pattern, with high interval accuracy on the side surface of the sample to be exposed.
本発明が解決しようとする課題は、被露光試料の側表面に高い間隔精度で繰り返しパターンを形成できる露光方法を提供できるようにすることである。 - 特許庁 - To detect a position with high accuracy without executing pattern matching in a rotational direction even when a detection target is disposed in an attitude including displacement in the rotational direction.
検出対象が回転方向の位置ずれを含んだ姿勢で配置されている場合にも、回転方向のパターンマッチングを行うことなく、高精度の位置検出を行う。 - 特許庁 - To reduce a detection time of a frame synchronization pattern in a phase modulation signal (B-PSK) at a lowest transmission rate in hierarchical transmission and to enhance the detection accuracy.
階層化伝送における最低速伝送の位相変調信号（Ｂ−ＰＳＫ）におけるフレーム同期パターンの検出時間を短縮し、かつ、検出精度の向上を図る。 - 特許庁 - To provide an electron beam transfer device which is capable of reducing the temperature rise of a reticle even when the reticle is irradiated with the beam for a long time, and effecting the pattern transfer with high accuracy.
長時間ビームをレチクルに照射してもレチクルの温度上昇を小さくでき、高精度のパターン転写を行える電子線転写装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a photoelectric conversion device which is kept high in pattern accuracy, improved in sensitivity, and manufactured at a low cost with high yield through a simple process by improving itself in rate of hole area.
パターン精度や、歩留を確保しつつ、開口率を稼ぐことにより、感度をより向上させた光電変換装置を、簡単な工程で、低コストで実現する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a screen for screen printing by which the surface of a resist film can be leveled without leaving unevenness thereon and a printing pattern with good printing accuracy can be formed.
レジスト膜の表面に凸凹を残すことなく平坦にし、印刷精度のよい印刷パターンが形成できるスクリーン印刷用スクリーンの製造方法を提供する。 - 特許庁 - An open mask and the mask pattern parts arranged in the opening portions of the open mask are adhered to each other via the shock absorbing member to improve positional accuracy, thus suppressing thermal expansion.
これにより、オープンマスクと、オープンマスクの開口部に配列されるマスクパターン部とを緩衝部材で接合させて位置精度を向上させ、熱膨張を抑制できる。 - 特許庁 - To provide an image input apparatus for suitably carrying out exposure control on the basis of a detection result by detecting an object pattern with high accuracy even in a scene of a state such as a backlight wherein the exposure control is difficult.
逆光など露出制御の難しいシーンにおいても精度よく被写体パターンを検出し、検出結果にもとづいて露出制御を好適に行う。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device manufacturing method capable of improving the accuracy of pattern width of a photosensitive film by changing an exposure condition by a new factor.
新たな因子で露光条件を変化させることにより、感光膜のパターン幅の精度を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a production method for photo mask, with which desired dimension or position accuracy is provided with high yield in respect to the mask patterns of different intra-plane apertures or pattern densities.
面内の開口率やパターン密度が異なるマスクパターンに対して、収率良く所望の寸法精度や位置精度を得るフォトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a stencil mask which can control line width with higher accuracy without influence of fine and coarse patterns and pattern size at the time of application of the near exposure method.
近接露光法を適用する際に、パターンの疎密、パターンサイズに影響されることなく、高精度な線幅制御が可能となるステンシルマスクを提供することである。 - 特許庁 - To provide a letterpress becoming the original mold of an intaglio for forming a thick film pattern and holding high detailedness, a high aspect ratio, high positional accuracy and strength.
厚膜パターンを形成するため凹版の元型となる凸版であって、該凸版を高精細、高アスペクト比、高位置精度、強度を保持している凸版を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of dispensing a complicated process accompanying a thermal treatment, and forming resin posts different in height with excellent pattern accuracy.
熱処理に伴う煩わしい工程が不要であり、異なる高さを有する樹脂ポストを優れたパターン精度で形成できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Further, the unevenness in the density can be more remarkably viewed and adjusting accuracy is enhanced when the test pattern is regular dither matrix providing a space frequency by which visual sensitivity is enhanced.
なお、テストパターンを視覚感度が高くなる空間周波数を与える正規ディザマトリックスとすれば濃淡のムラがより顕著に視覚でき、調節精度が向上する。 - 特許庁 - To prevent charging and discharge breakdown of a resist accompanying irradiation of charged beam, and to improve pattern accuracy and production yield in exposure mask.
荷電ビーム照射に伴うレジストの帯電及び放電破壊を防止することができ、露光用マスクにおけるパターン精度の向上及び製造歩留まりの向上をはかる。 - 特許庁 - To achieve reduction in manufacturing cost and higher pattern accuracy by exposing a larger substrate with a smaller mask; and moreover to form various patterns on a substrate.
より小さなマスクで大きな基板への露光を可能して低コスト化及びパターン精度の高精度化を図り、更に、基板上により多彩なパターンの作成を可能にする。 - 特許庁 - To provide an exposure method that transfers a pattern with high accuracy even in immersion exposure on a substrate through liquid between a projection optical system and the substrate.
投影光学系と基板との間の液体を介して基板を液浸露光処理する場合においても、精度良くパターン転写できる露光方法を提供する。 - 特許庁 - To draw a pattern with high accuracy even if height of a surface of a substrate fluctuates in scanning the substrate with optical beams by moving a chuck including the substrate mounted thereon by a stage.
基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際、基板の表面の高さが変動しても、パターンの描画を精度良く行う。 - 特許庁 - To obtain a logic LSI which is shortened in testing time by making the preparation of an input pattern for test extremely easier and, at the same time, is improved in measurement accuracy by making measurement extremely easier.
テスト用入力パターンの作成を極めて容易にし、試験時間を短縮すると共に、測定を極めて容易にし、測定効率を改善した論理ＬＳＩを得る。 - 特許庁 - To provide a mark and a method for alignment for pattern exposure and an aligner where the alignment accuracy is enhanced at low cost, without deterioration in the space efficiency in mark placement.
マーク配置スペース効率劣化なく、安価に位置合わせ精度を向上させるパターン露光用位置合わせマーク及び位置合わせ方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an organic thin-film transistor of stable performance and high carrier mobility capable of being manufactured by a simple method, for which production efficiency is excellent and of which the pattern accuracy is high.
簡便な方法で製作でき、生産効率に優れ、しかもパターン精度が高く、したがって性能の安定した、キャリア移動度の高い有機薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁 - To improve the workability and the machining accuracy by freely setting the ram operation pattern according to the degree of skill and the taste of an operator.
作業者の熟練の度合いや嗜好の違いに応じて、ラム動作パターンを設定自在とすることにより、作業性の向上と加工精度の向上を図ることにある。 - 特許庁 - To provide a coin identifying device capable of easily identifying the type and truth/falsehood of a coin with high accuracy by paying attention to recessed/projecting information made by a punched pattern on the coin surface.
コイン表面における打抜模様がなす凹凸情報に着目して、その種別や真偽を簡易に精度良く識別することのできるコイン識別装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an intermediate stamper in which the alignment accuracy has enhanced in an imprint method using the intermediate stamper, and to provide a method for precisely forming an uneven pattern.
中間スタンパを用いるインプリント法において、アライメント精度が向上した中間スタンパの製造方法並びに凹凸パターンの精確な形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To enable a test of high accuracy wherein, with a simple circuit with few number of gates, a test pattern is easily generated, related to a test of an input/output part of a semiconductor integrated circuit.
半導体集積回路の入出力部のテストに、テストパターンの作成が容易で、少ないゲート数の単純な回路でよく、精度の高いテストを可能とすること。 - 特許庁 - To provide technology for improving accuracy where modification added to a conductive pattern arranged on a circuit block to be protected is detected.
保護対象の回路ブロックの上に配置された導電パターンに加えられた改変の検出する精度を向上するための技術を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a wet developer for circuit formation with which a fine circuit pattern with high accuracy of line width can be formed by an electrophotographic method.
電子写真法による回路形成用現像剤として、ライン幅精度が高く、緻密な回路パターンを形成できる回路形成用湿式現像剤を提供する。 - 特許庁 - To obtain an apparatus and method of exposure and a method for manufacturing a device, which can align a pattern image with a shot region on a substrate with higher accuracy.
基板上のショット領域に対してより高精度にパターン像を重ねあわせることができる露光装置及び方法並びにデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution and little dependence on pattern density (iso-dense bias) and capable of stably forming various fine patterns with high accuracy.
感度および解像度に優れ、粗密依存性が小さく、多様な微細パターンを高精度にかつ安定して形成できる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a three-dimensional measuring apparatus capable of quickly performing three-dimensional measurements and inspections while maintaining high measuring accuracy, and of obtaining pattern data comparatively easily.
高い計測精度を維持しながらスピーディに三次元計測、検査を行うこと、パターンデータを比較的容易に取得することの可能な三次元計測装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a planar optical waveguide circuit device for improving wiring pattern dimension accuracy by suppressing the resist contraction of a lift-off wiring process.
リフトオフ配線プロセスにおけるレジスト収縮を抑制し、配線パターン寸法精度を向上させる平面光導波回路デバイスの製造方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a multilayer ceramic capacitor in which an electrode pattern having an arbitrary thickness can be formed with high accuracy.
任意の厚みの電極パターンを高精度に形成することが可能な積層セラミックコンデンサの製造方法および積層セラミックコンデンサの製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method of forming two parallel wire patterns, often used in various electronic devices, optical device or the like, with high accuracy.
様々な電子デバイス、光学デバイス等でしばしば用いられている平行な２本線パターンを高精度に形成するパターン形成方法提供することを目的とする。 - 特許庁 - To achieve accurate processing in a short time with the same accuracy as that for extremely precise simulation by relatively simple calculation, by which a high-precision pattern transfer is made.
比較的簡素な計算により、極めて厳密なシミュレーションと同等の精度をもって短時間で正確な処理を可能とし、高精度なパターン転写の実現に寄与する。 - 特許庁 - To realize correction with high accuracy in a shirt correction time in a mask pattern correction method used for forming desired patterns on a wafer by a projection optical system.
投影光学系によりウェハ上に所望パターンを形成するために用いられるマスクパターン補正方法において、短い補正時間で高精度な補正を実現する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition excellent in long-term stability when the composition is left to stand at room temperature, and allowing pattern formation with high accuracy even when exposure luminous energy is low.
長期の室温放置安定性に優れ、さらに露光量が比較的少なくても、精度よくパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To improve inspection accuracy by suppressing the effect of diffracted light by a simple technique even when the diffracted light is generated in an opening pattern of an inspection object.
検査対象物の開口部パターンにおいて回折光が発生する場合であっても、この回折光の影響を簡易的な手法で抑制し、検査精度を向上させる。 - 特許庁 - To carry out pattern baking with high accuracy by allowing a temperature change of a stage to be small, when driving the stage for moving a substrate by a linear motor, in a proximity exposure apparatus.
プロキシミティ露光装置において、基板を移動するステージをリニアモータにより駆動する際、ステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行う。 - 特許庁 - To improve focusing accuracy by detecting a specified position on the fundus of an eye to be examined using a pattern intrinsic to a part and making a focus detection position follow the movement of the eye to be examined.
部位固有のパターンを用いて被検眼の眼底上の特定位置を検出し、被検眼の動きにフォーカス検出位置を追従し、合焦精度の向上を図る。 - 特許庁 - To make joining accuracy between respective regions higher, in division exposure for dividing a chip pattern into a plurality of regions, exposing the respective regions separately and joining the respective regions to each other.
チップパターンを複数の領域に分け、各領域を別々に露光し繋ぎ合わせる分割露光を行なう際に、各領域間の繋ぎ合わせ精度を高精度にする。 - 特許庁 - To provide a display comprising arc tube array type display sub-modules connected in a lateral direction with high accuracy, configured in common without changing a display electrode pattern by each sub-module.
発光管アレイ型表示サブモジュールごとに表示電極パターンを変えることなく共通化され、高い精度で横方向に接続されてなる表示装置を提供する。 - 特許庁 - To maximally restrain a design change caused by a change in a shift pattern, by stabilizing a detection result by further restraining a variation in position detection accuracy.
位置検出精度のばらつきをより一層抑制して検出結果の安定化を図るとともに、シフトパターンの変更に伴う設計変更をできるだけ抑制する。 - 特許庁 - To provide an electron beam aligner for exposing a pattern onto a wafer with high accuracy by calculating the Abbe error of a wafer stage accurately and correcting the irradiating position of an electron beam.
ウェハステージのアッベ誤差量を正確に算出し、電子ビームの照射位置を補正することにより、ウェハにパターンを精度良く露光する電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a color filter and a method for manufacturing the filter by which a color pattern can be formed with high accuracy and high efficiency on a plastic film base material.
プラスチックフィルム基材上に着色パターンを高精度に、かつ高効率で形成すること可能とするカラーフィルターおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition excellent in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and capable of stably forming a fine pattern with a high degree of accuracy.
ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度に、かつ安定して形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a dial device where a plurality of contact pieces come into contact with an electrode pattern with stable pressure and at high positional accuracy and by which smooth and excellent click feeling is obtained.
複数の接片が電極パターンに安定した圧力で、かつ高い位置精度で接触するとともに、滑らかで良好なクリック感が得られるダイヤル装置を提供する。 - 特許庁 - In the mask that is complementarily divided in the electron beam projection exposure, a pattern requiring high dimensional accuracy and the other patterns are arranged at one mask and the other masks, respectively.
電子線投影露光における相補分割されたマスクにおいて、一つのマスクに高い寸法精度が要求されるパターンを、他方のマスクにそれ以外のパターンを配置する。 - 特許庁 - To provide a droplet discharge device in which alignment accuracy between a striking position of a droplet and an irradiation position of a laser beam is improved and a shape controlling property of a pattern is improved.
液滴の着弾位置とレーザ光の照射位置の整合精度を向上させて、パターンの形状制御性を向上させた液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - To cut a fuse with high accuracy and lessen the area of a pattern for positioning in trimming that it occupies in a scribe line region, in an IC where the fuse is trimmed with a laser.
ヒューズをレーザトリミングをするＩＣにおいて、高精度でヒューズを切断し、及びスクライブライン領域に占めるトリミング位置決め用パターンの面積を小さくすること。 - 特許庁
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