Due to the multiple exposure, the light intensity of the respective patterns is the same even if the phase absolute value in the mask varies, thereby improving the dimensional accuracy of the transferred pattern. 多重露光により、マスクにおける位相の絶対値が変動しても、それぞれのパターンの光強度は同一となり、転写されたパターン寸法精度が向上する。 - 特許庁
To manufacture a car seat with the good outward appearance by aligning the seam part of different covering materials and a pad easily with good accuracy in the car seat having a pattern. パターンを有する車両用シートにおいて、異なる表皮材の縫い合わせ部とパッドを簡単且つ精度良く位置合わせして、見栄えの良い車両用シートを製造する。 - 特許庁
To provide a droplet discharge head and a droplet discharge apparatus in which processing accuracy of a pattern formed from droplets is improved by suppressing the wetting and spreading of the droplets. 液滴の濡れ広がりを抑えることによって液滴からなるパターンの加工精度を向上させた液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置を提供することである。 - 特許庁
To enhance writing performance such as dimensional accuracy of a pattern by preventing the occurrence of such a state as a part of a beam is missed or a part of a beam is exposed during writing. 描画中にビームの一部が欠けている状態や、ビームの一部が露光された状態となるのを防ぎ、パターン寸法精度などの描画性能を向上させる。 - 特許庁
To provide an electric discharging device which is simple in structure, and improved in machining speed and accuracy of electric discharging by exciting an electrode at a desired frequency, a desired amplitude and in a desired pattern. 構成がより簡単で、電極を所望の周波数、振幅、パターンで加振し放電加工の加工速度、精度の改善が可能となる放電加工装置を得る。 - 特許庁
To provide a method for fabricating electronic apparatus for controlling shape and thickness of fine pattern in higher accuracy with less amount of damage on a device with a simplified process. 簡単なプロセスで、かつデバイスへのダメージも少なく、微細化されたパターンの形状および膜厚を高精度に制御できる電子装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus, a method, and a program capable of making an image detection process to be effective while maintaining detection accuracy of an image pattern to be detected, and to provide a storage medium. 検出すべき画像パターンの検出精度を維持しつつ、画像検出処理を効率化する画像処理装置、方法、プログラムおよび記憶媒体を提供すること。 - 特許庁
To raise detection accuracy of a developer pattern by transfer of a groove part of a supply member, developer stripes to be generated in accordance with state change of developer, and image density. 供給部材の溝部の転写による現像剤パターン、現像剤の状態変化に伴って発生する現像剤スジ、及び画像濃度の検出精度向上を図る。 - 特許庁
To provide a method of forming an illumination intensity correcting filter, capable of preventing loosening of a photosensitive coating film on the quartz glass and forming a light-shielding part of a prescribed pattern with a high accuracy. 石英ガラス上の感光性塗布膜の弛みを防止して、所定のパターンの遮光部を高精度に形成できる照度補正フィルターの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for evaluating a magnetic recording medium which improves the speed and accuracy of the evaluation of the magnetic recording medium having a magnetic recording pattern separated magnetically. 磁気的に分離された磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の評価に対する迅速性及び正確性を高めた磁気記録媒体の評価方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for correcting a proximity effect which can improve the accuracy of a proximity effect correction by taking differences in the quantity of out-of-focused light between meshes corresponding to divisions of a mask pattern into consideration. マスクパターンを分割したメッシュ毎のビームぼけ量の違いを考慮することで近接効果補正の精度う改善した近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁
To prevent deterioration of the performance of an element or a decrease in yield due to a decrease in an pattern overlapping accuracy caused by deformation of the shape of an exposure region. 露光領域の形状の歪みに起因するパターンの重ね合わせ精度の低下による素子性能の劣化又は歩留まりの低下等を防止できるようにする。 - 特許庁
To eliminate an adverse influence on the accuracy at the time of loading wafers by vibration during the operation of a gate valve which is an entrance or exit of a sample chamber for pattern evaluation of wafers. ウェーハのパターン評価をする試料室の出入口となるゲートバルブ作動時の振動が、ウェーハをロードする際の精度に悪影響を与えないようにする。 - 特許庁
To suppress variations in inspection accuracy, due to the different levels of proficiency among workers by easily determining the presence of uneveness in a periodic pattern in an object of inspection. 被検査体の周期性パターンにおけるムラの有無を容易に判定するものであり、作業者間の習熟度の違いによる検査精度のばらつきを抑える。 - 特許庁
Thus, even when a defect takes place in the pattern parts 1b, 1d, since the error accompanied with the defect is decreased, the processing accuracy can be enhanced. このようにすると、パターン部1b、1dに欠陥が発生している場合であっても、欠陥に伴う誤差が小さくなるので加工精度を向上させることができる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a new and improved lower panel for a PDP capable of forming a high-definition barrier rib pattern with high form accuracy by utilizing an X-ray. X線を利用して高精細の隔壁パターンを高い形状精度で成形できる、新規かつ改良されたPDP用下部パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a contact exposure device which can improve the exposure accuracy of patterns to a plate to be exposed by suppressing the deformation of a pattern plate, frame or base plate. パターン板や枠体または基台の変形を抑えることで、被露光板へのパターンの露光精度を向上させることが可能な密着露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a stencil mask for charged particle beam capable of being manufactured inexpensively, without having to employ an SOI (silicon-on insulator) substrate and avoided from the distortion of a substrate, while being formed through pattern forming with high accuracy. SOI基板を用いることなく、安価に製造でき、基板の歪みが回避され高い精度でパターン形成された荷電粒子線用ステンシルマスクを提供する。 - 特許庁
Thereby, the resin layer 35a having a uniform thickness can be formed on the surface 34a of the board 20a before pressing a transfer pattern, so that the accuracy of thickness can be improved. これにより、転写型を加圧する前に、基板上20aの表面34aに均一な厚みの樹脂層35aを成形でき、厚みの精度が向上する。 - 特許庁
Even when a measurement position of the image taking-in sensor 3 toward the printing plate pattern changes, calculated area ratio does not vary, thereby achieving measurement with high accuracy. 刷版パターンに対する画像取り込みセンサ3の計測位置が異なっても、算出する面積率が変動しない為、高精度に測定することが可能である。 - 特許庁
To provide a technique that copes with a tendency of making electrode pattern formation accuracy difficult caused by a tendency or the like of making electrodes high-density due to a tendency of making PDPs high-definition. PDPの高精細化に伴う電極の高密度化などによる電極パターン形成精度の困難化に対して対処できる技術を提供する。 - 特許庁
Local positional deviation or size dispersion carried by the prescribed LED chip 10 to be inspected is reflected to the inspection pattern, to thereby heighten visual inspection accuracy. 検査パターンは、検査すべき所定のLEDチップ10が有する局所的な位置ずれや大きさのばらつきが反映されたものとなり、外観検査精度が高められる。 - 特許庁
Thereby, a high-definition barrier rib pattern suitable for a high resolution display is provided with high form accuracy, and entire panel manufacturing processes can be simplified. これにより、高解像度ディスプレイに適した高精細の隔壁パターンが高い形状精度で提供されるとともに全体的なパネル製作工程が単純化される。 - 特許庁
To improve the dimensional accuracy of a substrate by reducing the warpage of a calcination substrate and improve the connecting strength of a conductor pattern and a low-temperature calcination ceramic which are calcined simultaneously. 焼成基板の反りを小さくして基板寸法精度を向上させると共に、同時焼成する導体パターンと低温焼成セラミックとの接合強度を向上させる。 - 特許庁
To provide a phase shift mask which enables an improvement in exposure dimensional accuracy without allowing illumination light to substantially receive the influence of shifter side walls and without depending on pattern shapes. 照明光がシフター側壁の影響を実質上受けることなく、且つパターン形状によらず露光寸法精度向上が可能となる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁
To provide an inorganic particle-containing photosensitive composition having high sensitivity and capable of forming a pattern having high dimensional accuracy and a sensitive film obtained from the composition. 高感度で寸法精度の高いパターンを形成することができる無機粒子含有感光性組成物およびそれから得られる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁
To provide an apparatus capable of producing a formed glass substrate having large area and holding a fine pattern formed by surface unevenness in high forming accuracy and productivity. 表面に凹凸により微細なパターンが形成された大面積のガラス製成形基板を、高い成形精度且つ高い生産性で製造することができる装置を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid drop ejection production apparatus for producing a high grade, high quality, high accuracy and high reliability pattern wiring board or a device substrate with high yield. 高品位、高品質かつ高精度で信頼性の高いパターン配線基板あるいはデバイス基板を歩留まり良く製造するための液滴噴射製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a system and method for electron beam exposure by which a pattern can be exposed on a wafer with accuracy, by correcting the irradiation time of an electron beam upon the wafer. ウェハに対する電子ビームの照射時間を補正し、精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a photomask, by which dimensional accuracy on a final pattern after multiple exposure processes can be improved, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device. 多重露光後の最終パターン上での寸法精度を改善することが可能なフォトマスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To connect electrodes and a wiring pattern electrically with hight positional accuracy and to provide a highly reliable semiconductor device and a method of manufacture. 本発明の目的は、電極と配線パターンとを位置精度よく電気的に接続し、かつ、信頼性の高い半導体装置及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a ceramic green sheet in which electrodes can be formed with good patternaccuracy and after the ceramic green sheet is formed, a carrier sheet can be easily released. パターン精度よく電極を形成でき、しかもセラミックグリーンシートの形成後にはキャリアシートを容易に剥離することができるセラミックグリーンシートの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an organic semiconductor element capable of easily manufacturing an organic semiconductor element having excellent patternaccuracy of an organic semiconductor layer and excellent transistor characteristics. 有機半導体層のパターン精度が良好であり、トランジスタ特性に優れた有機半導体素子を容易に製造することが可能な製造方法を提供すること。 - 特許庁
To contribute to improvement in exposure accuracy of EUV exposure or the like by inhibiting degradation in surface flatness caused by reflective pattern formation or degradation in surface flatness in electrostatic chucking. 反射パターン形成による表面平坦度の劣化や静電チャック時の表面平坦度劣化を抑制することができ、EUV露光などの露光精度の向上に寄与する。 - 特許庁
To provide a method and device which has little constraints of a data format and can obtain higher identification accuracy in a field for performing pattern recognition from multidimensional information. 多次元情報からパターン認識を行なう分野において、データ形式の制約が少なく、かつ、より高い識別精度を得ることが可能な方法および装置を提供する。 - 特許庁
Then the mask distortion caused by the electron beam exposure system for mask making is evaluated by measuring the posional distortion of the resist pattern in the position accuracy evaluation mark 40 of the etching mask. 次いで、エッチングマスクの位置精度評価マーク40のレジストパターンの位置ずれを測定することにより、マスク作製用電子線露光装置に起因するマスク歪みを評価する。 - 特許庁
To provide an inorganic particle-containing photosensitive resin composition capable of forming a high-accuracy pattern, excellent in thermal decomposability of organic components, and ensuring less shrinkage after baking. 精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an electroluminescent substrate or an electroluminescent element with sufficient accuracy of pattern without any restrictions on the sort of luminous materials. 発光材料の種類による制約がなく、得られるパターンの精度が充分得られるエレクトロルミネッセント基板もしくはエレクトロルミネッセント素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an exposure device which enhances the accuracy of superposition of functional patterns and a steep rise in the cost of which is suppressed, and to provide an exposed pattern forming method. 機能パターンの重ね合わせ精度を向上すると共に露光装置の高騰を抑制しようとする露光装置及び露光パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To simplify a fabricating process by performing a patterning process without using a photolithography process, and to form a thin film pattern at a home position by improving the accuracy of alignment. ホト工程を使用しないでパターニング工程を遂行し製造工程を単純化すると共にアラインメントの正確性を向上させて薄膜パターンを定位置に形成させる。 - 特許庁
To provide an optical film for display which ensures high light ray transmittance with a small number of sheets of base films and is manufactured while maintaining high positioning accuracy of a light-shielding pattern. 基材フィルムの枚数が少なくて光線透過率が高いと供に、遮光パターンの位置合わせ精度を高く維持して製造できるディスプレイ用光学フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a coin identifying device capable of easily identifying the type and truth/falsehood of a coin with high accuracy by paying attention to recessed/projecting information made by a punched pattern on the coin surface. コイン表面における打抜模様がなす凹凸情報に着目して、その種別や真偽を簡易に、精度良く識別することのできるコイン識別装置を提供する。 - 特許庁
To provide a solution ejection production apparatus capable of producing a high quality, high accuracy and high reliability pattern wiring board or a device substrate with high yield and exhibiting reliability in long term use, and to provide a high accuracy, high quality and high precision pattern wiring board or a device substrate being produced by the apparatus. 高品質かつ高精度で信頼性の高いパターン配線基板あるいはデバイス基板を歩留まり良く製造でき、長期使用における信頼性のある溶液噴射製造装置を提供し、さらにその製造装置により製作される高精度かつ高品質で信頼性の高い機能を付与されたパターン配線基板、デバイス基板を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid drop ejection production apparatus capable of producing a high quality, high accuracy and high reliability pattern wiring board or a device substrate with high yield and exhibiting reliability in long term use, and to provide a high accuracy, high quality and high reliability pattern wiring board or a device substrate being produced by the apparatus. 高品質かつ高精度で信頼性の高いパターン配線基板あるいはデバイス基板を歩留まり良く製造でき、長期使用における信頼性のある液滴噴射製造装置を提供し、さらにその製造装置により製作される高精度かつ高品質で信頼性の高い機能を付与されたパターン配線基板、デバイス基板を提供する。 - 特許庁
To provide a photomask blank which is capable of shortening the dry-etching time by increasing the dry-etching speed of a light shielding film, reducing the film reduction of a resist film, improving resolution and patternaccuracy (CD accuracy) by reducing the thickness of the resist film, and forming a light shielding film pattern having a good cross-sectional shape due to the reduction of the dry-etching time. 遮光膜のドライエッチング速度を高めることで、ドライエッチング時間が短縮でき、レジスト膜の膜減りを低減することができ、レジスト膜を薄膜化して解像性、パターン精度(CD精度)を向上でき、ドライエッチング時間の短縮化による断面形状の良好な遮光膜のパターンが形成することができるフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁
To provide encapsulated particles for static charge image development which is capable of print a wiring pattern with high density and high accuracy by electrostatic recording method or electrophotography, and is capable of forming a conductive patter with high accuracy and low resistance without vacant space and fault, and to provide a manufacturing method of the same and conductive wiring pattern forming method using above encapsulated particle. 静電記録方式あるいは電子写真法により高密度かつ高精度の配線パターンの印刷が可能であり、空隙や欠陥等のない高精度、かつ低抵抗の導電性パターンを形成することが可能な静電荷現像用カプセル化粒子及びその製造方法、及びそれを用いた導電性配線パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for releasing a flexible film from a reinforcing plate without incurring position deviation or disconnection of a circuit pattern, break of a bonding pad with an electronic component, damage of the electronic component, and the like in a circuit board member wherein the high-accuracy circuit pattern is formed by sticking the flexible film through an organic layer to the reinforcing plate and maintaining dimension accuracy. 可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせ、寸法精度を維持することで、高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材を、回路パターンの位置ずれや断線、電子部品との接合パッド部の破断や電子部品の破損を起こすことなく、可撓性フイルムを補強板から剥離する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a die machining method by which a fine pattern can be formed on the surface of a desired shape with high accuracy in an easy production process without limiting the size of the fine pattern while avoiding complexity of the die production process in a method of producing the die for molding a molded article having the fine pattern. 微細パターンを有する成形品を成形するための金型の製造方法について、その製作工程の煩雑化を避け、微細パターンのサイズが制限されないで、所望形状の表面に微細パターンを容易な製作工程で高精度に形成できるように、金型加工方法を工夫すること。 - 特許庁
Furthermore, a 1st retrieval processing to retrieve the image slippage position by using the electronic watermark pattern having a slippage by each small area with respect to the embedded electronic watermark pattern and a 2nd retrieval processing to detect an electronic watermark by using the electronic watermark pattern for setting the same small area when embedding the electronic watermark pattern are used to perform efficient the electronic watermark detection and to enhance the accuracy. また、埋め込んだ電子透かしパターンに対して小領域毎にずれを持たせた電子透かしパターンを用いて画像ずれ位置を探索する第1探索処理と、電子透かしパターン埋め込み時と同じ小領域設定の電子透かしパターンを用いて電子透かしの検出を行なう第2探索処理を併用することで、電子透かし検出の効率化、精度向上を実現する。 - 特許庁
Specifically, a dual damascene structure corresponding to a design pattern figure can be formed by means of one exposure, development and etching step using a high resolution gray scale mask, which reduces a production process of a dual damascene structure and enhances the patternaccuracy. 具体的には、高分解能グレーマスクを用いて、1回の露光、現像及びエッチング工程により、設計パターン形状に対応したデュアルダマシン構造を形成可能とし、デュアルダマシン構造の作製工程の短縮化及びパターン精度を向上させる。 - 特許庁