「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)

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  • PATTERN ACCURACY EVALUATION METHOD
    パタン精度評価方法 - 特許庁
  • PATTERN CONNECTION ACCURACY INSPECTING METHOD
    パターン接続精度検査方法 - 特許庁
  • PATTERN OVERLAPPING ACCURACY MEASURING METHOD
    パターン重ね合せ精度測定方法 - 特許庁
  • To form a pattern with high alignment accuracy.
    高いアライメント精度でパターンを形成する。 - 特許庁
  • METHOD OF DRAWING ULTRA-FINE PATTERN WITH HIGH ACCURACY
    極微細パターンの高精度描画方法 - 特許庁
  • To maintain the high overlay accuracy of a pattern.
    パターンの高い重ね合わせ精度を維持する。 - 特許庁
  • To maintain a high overlay accuracy of a pattern.
    パターンの高い重ね合わせ精度を維持する。 - 特許庁
  • To inspect a pattern with high accuracy and efficiency.
    高い精度および効率でパターンを検査する。 - 特許庁
  • To improve a metal pattern in shape accuracy.
    金属パターンの形状精度を向上させる。 - 特許庁
  • To correct the pattern of a photomask with high accuracy.
    フォトマスクのパターン修正を高精度で行う。 - 特許庁
  • To form a micro opening pattern with high accuracy.
    高精度な微細開口パターンを形成すること。 - 特許庁
  • To maintain desired transfer pattern formation accuracy.
    所期の転写パターン形成精度を維持すること。 - 特許庁
  • To form a pattern from a pattern-forming material with accuracy on a substrate.
    基板上のパターン形成材料から精度よくパターンを形成する。 - 特許庁
  • Also, the pattern accuracy of the mask pattern is reverse calculated from the design margin M.
    また、この設計マージンMからマスクパターンのパターン精度を逆算する。 - 特許庁
  • METHOD FOR MEASUREMENT OF OVERLAY ACCURACY AND PATTERN FOR MEASUREMENT OF OVERLAY ACCURACY
    重ね合わせ精度測定方法および重ね合わせ精度測定用パターン - 特許庁
  • To provide a pattern recognition device, a pattern recognition program and a pattern recognition method, for enabling high-accuracy pattern recognition.
    パターン認識を高精度に行うパターン認識装置、パターン認識プログラム、パターン認識方法を提供する。 - 特許庁
  • EQUIPMENT AND METHOD FOR MEASURING PATTERN MATCHING ACCURACY
    パターン重ね合わせ精度測定装置および方法 - 特許庁
  • To achieve high-speed and high-accuracy pattern recognition.
    高速かつ高精度なパターン認識を可能とする。 - 特許庁
  • To finish the corner of a pattern as a desired pattern, and to improve the pattern accuracy.
    パターンの角部の形状を所望パターン通りに仕上げることができ、パターン精度の向上をはかる。 - 特許庁
  • To provide a board pattern forming method capable of improving a pattern in accuracy.
    パターンの精度を向上できる基板のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To prevent deformation in a resist pattern shape and a decrease in accuracy in a transfer pattern.
    レジストパターン形状の変形、および転写パターンの精度低下を防ぐ。 - 特許庁
  • To print out a position coding pattern with higher accuracy.
    位置コーディングパターンをより高い精度でプリントアウトする。 - 特許庁
  • INJECTION MOLDED FORM WITH FINE PATTERN TRANSFERRED IN HIGH ACCURACY
    微細なパターンが高転写された射出成形体 - 特許庁
  • To improve pattern inspection accuracy for an inspection sample.
    被検査試料のパターン検査の精度を高めること。 - 特許庁
  • APPARATUS AND METHOD FOR MEASUREMENT OF ACCURACY OF PATTERN OVERLAP
    パターン重ね合わせ精度測定装置および方法 - 特許庁
  • To acquire an optical element having excellent accuracy of a pattern.
    優れたパターン精度を有する光学部品を得る。 - 特許庁
  • To provide a gray tone mask capable of improving a pattern shape and pattern accuracy.
    パターン形状やパターン精度を高めることができるグレートーンマスクを提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern drawing apparatus which fast draws a pattern with high accuracy.
    高精度なパターン描画を高速に行うパターン描画装置を提供する。 - 特許庁
  • To reduce a circuit pattern area, and to increase dimensional accuracy of a hole pattern.
    回路パターン面積を縮小するとともに、ホールパターンの寸法精度を高める。 - 特許庁
  • To provide a resist pattern prediction system capable of predicting a resist pattern at high accuracy.
    高い精度でレジストパターンを予測可能なレジストパターン予測システムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a gray tone mask capable of improving a pattern feature and pattern accuracy.
    パターン形状やパターン精度を高めることができるグレートーンマスクを提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming apparatus which alleviates degradation in accuracy for forming a pattern due to a variation in manufacturing accuracy of the nozzle hole of a head and facilitates pattern formation of high accuracy.
    ヘッドのノズル孔製造精度のばらつきに起因する形成パターンの精度低下を緩和し、高精度なパターン形成を実現するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁
  • METHOD FOR EVALUATING PATTERN SHAPES WITH HIGH ACCURACY, AND APPARATUS THEREOF
    高精度パターン形状評価方法及びその装置 - 特許庁
  • To secure pattern detection accuracy during correction.
    補正実行時におけるパターンの検出精度を確保する。 - 特許庁
  • The liquid immersion exposure is conducted with proper pattern transfer accuracy.
    良好なパターン転写精度で液浸露光ができる。 - 特許庁
  • To improve the exposure position accuracy of a mask pattern of a photomask.
    フォトマスクのマスクパターンの露光位置精度を向上する。 - 特許庁
  • To improve dimensional accuracy of a gate pattern of a semiconductor device.
    半導体装置のゲートパターンの寸法精度を高める。 - 特許庁
  • To obtain a pattern verification-inspection method by which a pattern dimension of a mask pattern is inspected with high accuracy.
    マスクパターンのパターン寸法を精度良く検査することができるパターン検証・検査方法を得ること。 - 特許庁
  • To provide a pattern dividing method, capable of forming a pattern through a high throughput/high accuracy.
    高スループット・高精度でパターンが形成できるパターン分割方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a servo pattern recording device in which recording accuracy of a servo pattern can be improved.
    サーボパターンの記録精度を向上し得るサーボパターン記録装置を提供する。 - 特許庁
  • To form an electrode of high pattern accuracy without requiring high-accuracy etching control.
    高精度のエッチング制御を必要とすることなく、パターン精度の高い電極を形成する。 - 特許庁
  • To form a pattern with high resolution, high sensitivity and good dimensional accuracy.
    高解像、高感度、寸法精度よくパターンを形成する。 - 特許庁
  • A pattern with high accuracy is formed by using the resin film.
    この樹脂膜を用いて精度の高いパターンを形成する。 - 特許庁
  • To improve pattern accuracy of a semiconductor integrated circuit device.
    半導体集積回路装置のパターン精度を向上させる。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device of high dimension accuracy in pattern.
    パターンの寸法精度が高い半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a template for improving accuracy of pattern matching.
    パターンマッチングの精度を向上させるテンプレートを提供する。 - 特許庁
  • MEASURING DEVICE AND MEASURING METHOD FOR RETICULE PATTERN POSITION ACCURACY
    レチクル、パターン位置精度の測定装置および測定方法 - 特許庁
  • To provide a resist pattern forming method, in which the overlaying accuracy of pattern is improved.
    パターンの重ね合わせ精度を向上させたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • A problem of a poor pattern positional accuracy can be solved by not directly connecting the electrolytic pattern and the exposure pattern.
    また、電解パターンと露出パターンを直接つなげないことでパターン位置精度の問題を解消できた。 - 特許庁
  • METHOD FOR SETTING DESIGN MARGIN OF WAFER PATTERN, METHOD FOR SETTING PATTERN ACCURACY AND METHOD FOR SETTING DESIGN MARGIN OF MASK PATTERN
    ウェハパターンの設計マージン設定方法、パターン精度設定方法およびマスクパターンの設計マージン設定方法 - 特許庁
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