「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)

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  • In the insulating layer on which the pattern in this invention is formed, a pattern boundary surface has an excellent profile, and the substrate is not damaged, so that the high degree of accuracy is acquired in embodiment of a desired pattern.
    本発明によるパターンが形成された絶縁層は、パターン境界面のプロファイルが優秀であり、基板が損傷されず、所望のパターンの具現において正確度が高い。 - 特許庁
  • To decrease the data quantity for correction of a pattern obliquely disposed in patterns for drawing a mask pattern on a photomask while maintaining the accuracy almost equal to correction of a pattern disposed in parallel.
    フォトマスクにマスクパターンを描くためのパターンのうち、斜めに配置されたパターンの補正について、平行に配置されたパターンの補正と同等の精度を維持しつつ、データ量を低減する。 - 特許庁
  • To conduct the formation of a pattern with higher accuracy and high aesthetic property while maintaining the flushness of the surface of a metal body after the pattern is formed in a method of forming the pattern on the surface of the metal body.
    金属体表面にパターンを形成する方法において、パターン形成後の金属体表面の面一性を保ちつつ、より正確で審美性の高いパターン形成を行う。 - 特許庁
  • To provide a device for forming a pattern which efficiently forms a wiring pattern of a conductive body on a base material by a series of processes, and surely forms a high-accuracy wiring pattern with high conductivity.
    基材に導電体の配線パターンを一連の処理で高効率に形成し、且つ、高導電率で高精度の配線パターンを確実に形成するパターン形成装置等を提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern film forming device capable of forming a pattern film with favorable positional accuracy by arranging a mask formed in a thin film on the surface of a wafer with high precision, and to provide a pattern film forming method.
    基板表面に対して薄膜化したマスクを高精度に配置させ、位置精度良好なパターン成膜を行うことが可能なパターン成膜装置および方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a mask for forming a thin film pattern of a lamination structure to solve a problem of accuracy degradation when a metal mask of high accuracy is used, and a method for manufacturing the same.
    精度が高いメタルマスクを用いた場合の精度の低下を除いた積層構造の薄膜パタン−ン形成用マスクとその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To enhance throughput by shortening drawing time per total area of a sample without lowering drawing accuracy for pattern regions that require high accuracy.
    高精度の要求されるパターン領域の描画精度を落とすことなく、試料全面当たりの描画時間を短縮することができ、スループットの向上をはかる。 - 特許庁
  • To provide a technology capable of specifying the position of a line pattern with higher accuracy (accuracy of a unit less than one pixel of a reading image pitch) than an image reading resolution.
    ラインパターンの位置を、画像読取解像度よりも高い精度(読取画像ピッチの1画素未満単位の精度)で特定することができる技術を提供する。 - 特許庁
  • To provide a charged beam writing method capable of improving a beam dimensional accuracy during an electron beam writing and consequently improving a resist pattern dimensional accuracy.
    電子ビーム描画時のビーム寸法精度を向上させ、ひいてはレジストパターン寸法精度を向上させ得る荷電ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a mask in which a mask can be formed in good dimensional accuracy and a pattern can be drawn with good dimensional accuracy.
    寸法精度よくマスクを形成することが可能であり、また寸法精度よくパターンを描画することが可能なマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To improve printing accuracy in offset printing and enable printing in sufficient accuracy even if it is accurate pattern formed on glass as necessary.
    オフセット印刷での印刷精度を向上し、必要に応じてガラス上に形成する精密パターンであっても十分な精度で印刷できるようにする。 - 特許庁
  • To improve position accuracy and dimensional accuracy in pattern transfer by suppressing the distortion of a reticle caused by vacuum adsorption from the lower surface side of the reticle (an original).
    レチクル(原版)下面側からの真空吸着に起因するレチクルの歪みを抑制して、パターン転写時の位置精度や寸法精度を向上させる。 - 特許庁
  • To obtain a recorder employing a long head performing high speed recording in which a check pattern is read out with high accuracy and high accuracy correction is performed automatically.
    高速で記録を行う長尺ヘッドを用いた記録装置において、チェックパターンを高精度で読み取りを行い、高精度な補正を自動で行う。 - 特許庁
  • To simply form a repeating pattern being fine and regular with high accuracy on a molding surface of a mold.
    モールドの成形表面に、微細にして規則的な繰返しパターンを高い精度で簡易に形成する。 - 特許庁
  • To establish a means for fast identifying a face pattern of a person and an animal from a picture image with high accuracy.
    画像イメージから人間や動物の顔パターンを、高速かつ高精度に識別する手段を確立する。 - 特許庁
  • To suppress the shift of a coil pattern by securing high shape accuracy, and to enhance the insulation reliability.
    高い形状精度を確保してコイルパターンのずれを抑制するとともに、絶縁信頼性を向上させる。 - 特許庁
  • To provide a molding roll for transferring a pattern in high accuracy in an extrusion molding method.
    押出成形法において、高い精度でパターンを転写させるための成形用ロールを提供すること。 - 特許庁
  • To prevent charging by static electricity during a manufacture process and to improve the accuracy of a pattern film.
    製造工程中の静電気による帯電を防止し、かつ、パターン膜の高精度化を実現すること。 - 特許庁
  • To improve reliability of a device by making frequency error detection accurate by improving SYNC pattern detection accuracy.
    SYNCパターン検出精度を上げ周波数誤差検出を正確にし、装置の信頼性を向上する。 - 特許庁
  • To provide a resin plate in which a fine pattern can be formed with high accuracy, and to provide a method for forming the plate.
    微細パターンを精度よく形成することのできる樹脂板およびその形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a technique for manufacturing stably and at low cost a printing plate adaptable to high-accuracy pattern printing.
    高精細なパターン印刷に適応できる印刷版を安定かつ低コストに製造する技術の提供。 - 特許庁
  • As a result, the processing accuracy of the pattern of the upper layer is ensured and a hole filling of the via hole is convenient also to a mounting of a component on the board 3.
    このため,上層のパターン加工精度が確保され,また部品の実装にも便利である。 - 特許庁
  • To detect a duty at high speed and with high accuracy even in a case where input data are other than an alternating pattern.
    入力データが交播パターン以外の場合であっても、高速かつ高精度にデューティを検出する。 - 特許庁
  • To provide a phase shift mask blank with which a fine pattern is stably transferred with high accuracy.
    微細なパターンを高い精度で安定的に転写することが可能な位相シフトマスクブランクを提供すること。 - 特許庁
  • To read an unevenness pattern with high accuracy, even under a longitudinally vibrating condition.
    縦振動を引き起こしている状況下でも、凹凸形状を精度高く読取ることができるようにする。 - 特許庁
  • To provide a method of forming a pattern, patterning a resin layer on a plastic base material with good accuracy.
    プラスチック基材上に、樹脂層を精度良くパターニングすることができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a reflective optical sensor that detects the toner concentration and the position of toner pattern, with higher accuracy.
    トナーパターンのトナー濃度や位置を、より高精度に検出できる反射型光学センサを提供する。 - 特許庁
  • To estimate an area representing an estimation target plane with high accuracy even if there is an area having no pattern.
    パターンのない領域があっても、推定対象平面を表わす領域を精度よく推定する。 - 特許庁
  • To provide a stamper capable of forming a concavo-convex pattern, having the concave parts with desired aperture length, with a high degree of accuracy.
    所望の開口長の凹部を有する凹凸パターンを高精度で形成し得るスタンパーを提供する。 - 特許庁
  • Accordingly, high-accuracy OPC can be executed in a short time even on a feature pattern having an oblique figure.
    斜め形状の図形を有する図形パターンに対しても、高精度のOPCを短時間で実行できる。 - 特許庁
  • To efficiently create a trouble message pattern with high trouble detection accuracy, in a short time.
    障害検知精度の高い障害メッセージパターンを短時間で効率的に生成することを課題とする。 - 特許庁
  • To provide a method for producing a phase shift mask, capable of contributing to fineness and high accuracy of a circuit pattern.
    回路パターンの微細化や高精度化に貢献し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an image processing method which can improve accuracy of detecting a feature pattern in an image.
    画像内の特徴パターンの検出精度を高めることができる画像処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a phase shift mask that can contribute to a finer circuit pattern and higher accuracy.
    回路パターンの微細化や高精度化に貢献し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To enable to form an organic pattern layer of an organic electronic device of high positional accuracy by a letterpress printing.
    有機電子デバイスの有機パターン層を凸版印刷により高い位置精度で形成可能とする。 - 特許庁
  • To provide an image forming device capable of improving the accuracy of detecting the density of a toner pattern.
    トナーパターン濃度の検出精度を向上することができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a photomask with which a fine photomask pattern can be formed with high accuracy.
    微細なフォトマスクパターンを高精度で形成することが可能なフォトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a pattern formed body by which processing such as cutting, polishing and chamfering can be carried out with high accuracy.
    切断、研磨、面取り等の加工を精度良く行うことができるパターン形成体の製造方法。 - 特許庁
  • To provide a new pattern forming method to be applied to high-accuracy alignment of a mold and a work.
    モールドとワークとの高精度な位置合わせに適用される新規なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To detect a position of a prescribed pattern comprising a dark part and a light part in an image signal with high accuracy.
    画像信号において、暗部と明部とからなる所定のパターンの位置を高精度に検出すること。 - 特許庁
  • To provide an exposure method for easily obtaining a rotational symmetric resist pattern with high accuracy.
    回転対称形のレジストパターンを高精度でかつ容易に得ることが可能な露光方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of forming a resist pattern that suppresses the deterioration focus accuracy caused by immersion exposure.
    液浸露光の際にフォーカス精度の悪化を抑制できるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To improve the quality of testing by generating a test pattern which detects bridge failures of LSI, with high accuracy.
    LSIのブリッジ故障を高精度に検出するテストパターンを作成し、テストの品質を向上する。 - 特許庁
  • To form a conductor pattern on the surface of a substrate with high accuracy by a print method using a mask.
    マスクを使用する印刷方法を用いて基板の表面に導体パターンを高精度に形成する。 - 特許庁
  • Thus, a desired resin pattern 30A can be obtained at high accuracy, so as to attain a high yield.
    その結果、所望の樹脂パターン30Aを高い確度で得ることができ、高い歩留まりが実現される。 - 特許庁
  • To provide an electron beam lithography device capable of writing the lattice pitch of a micro diffraction grating pattern with high accuracy.
    微細回折格子パターンの格子ピッチを高精度に描画できる電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide an irregularity inspection device of high detection accuracy for a cyclic pattern and an irregularity inspection method.
    高い検出精度を有する周期性パターンのムラ検査装置及びムラ検査方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of creating a mask pattern facilitating formation of a fine pattern with high accuracy in a lithographic process using a reflective optical system.
    反射型光学系を用いるリソグラフィ工程において微細なパターンを高精度に形成することができるマスクパターンデータの生成方法を提供する。 - 特許庁
  • To make it possible to pattern a film with good accuracy while suppressing the occurrence of damages of a resist in a method for forming a mask including a pattern forming process by lift-off.
    リフトオフによるパターンの形成工程を含むマスクの形成方法に関し、膜を精度良くパターニングし、しかもレジストのダメージ発生を抑制すること。 - 特許庁
  • To provide a pattern inspection device and a method capable of detecting with high accuracy defects of an opening pattern, even if there remain adjustment residues of alignment.
    アライメントの合わせこみ残差があっても、開口パターンの欠陥を高精度に検出することが可能なパターン検査装置及び方法を提供する。 - 特許庁
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