「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 35 36 次へ＞- To provide a part-batch pattern forming method where a pattern can be transferred with strict dimensional accuracy.
厳しい寸法精度でパターン転写できるようにした部分一括パターンを作成する方法を提供する。 - 特許庁 - To form a pattern having high accuracy and excellent visibility without producing a boundary line in the pattern by scanning.
走査によってパターン内部に境界ラインを生じさせず、精度が高く視認性の優れたパターンを形成する。 - 特許庁 - To accurately form a pattern without causing a pattern displacement even when the mechanism of a drawing device has an accuracy error.
描画装置の機構に精度誤差があっても、パターン位置ずれを起こすことなく、精度よくパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide an pattern forming method capable of inexpensively executing with high precision and high accuracy and a formed pattern.
高精細高精度でしかも安価に実施し得るパターン形成方法およびその形成パターンを提供する。 - 特許庁 - To shorten drawing time without reducing accuracy of pattern drawing when a hard disk pattern is drawn.
ハードディスクパターンを描画するにあたり、パターン描画の精度を低下させることなく、描画時間を短縮する。 - 特許庁 - To provide a pattern recognizing device capable of keeping the accuracy of pattern recognition higher than a fixed value.
パターン認識における認識精度を一定値以上維持することが可能なパターン認識装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a cyclic pattern nonuniformity inspection device for stably and high-accuracy imaging/detecting nonuniformity in a cyclic pattern.
周期性パターンのムラを安定的、高精度に撮像、検出可能な周期性パターンムラ検査装置を提供する。 - 特許庁 - To carry out high accuracy model-base optical proximity correction (OPC) on a feature pattern including an oblique pattern.
斜め形状パターンを含む図形パターンに対して高精度のモデルベース光近接効果補正（ＯＰＣ）を実行する。 - 特許庁 - To form a next layer circuit pattern with higher positional accuracy in relation to a circuit pattern already formed.
既に形成された回路パターンに対し、次の層の回路パターンの位置を精度良く形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide a forming method of a thin film pattern by which a fine thin film pattern can be stably formed with sufficient accuracy.
微細な薄膜パターンを精度良く安定して形成できる薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for calculating a resist pattern using a computer to improve calculation accuracy of the resist pattern.
レジストパターンの算出精度を向上させる、コンピュータを用いてレジストパターンを算出する方法を提供する。 - 特許庁 - To improve overlapping accuracy of an exposure pattern with respect to a reference pattern of a substrate coated with a photosensitive resin.
感光性樹脂を塗布した基板の基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上する。 - 特許庁 - To provide a mask pattern correction method and a mask pattern correction apparatus that reduce a correction error associated with flare correction to enhance a dimensional accuracy of a resist pattern.
マスクパターン補正方法及びマスクパターン補正装置に関し、フレア補正に伴う補正誤差を小さくして、レジストパターンの寸法精度を高める。 - 特許庁 - To provide a mask scanning lithography method by which a pattern can be formed with high dimensional accuracy without relying upon the kind of a character pattern nor other patterns existing in the periphery of the character pattern.
キャラクタパターンの種類やキャラクタパターンの周辺に位置する他のパターンに依存することなく、高精度な寸法のパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a vehicular headlight capable of improving light-distribution accuracy of a high beam light-distribution pattern and a low beam light-distribution pattern (a light-distribution pattern for a daytime running light).
ロービーム用配光パターンおよびハイビーム用配光パターン（デイタイムランニングライト用配光パターン）の配光精度を向上させること。 - 特許庁 - To provide a pattern retrieval device capable of retrieving a pattern similar to an presented pattern from a pattern database with high accuracy even when a photographing parameter is varied in reading the presented pattern.
提示された模様の読み取り時の撮影パラメータが変動していても、提示された模様に類似する模様を模様データベースから精度良く検索することを可能とする模様検索装置を提供する。 - 特許庁 - To realize a pattern connection accuracy inspecting method which inspects with high accuracy and at a high speed, the connection accuracy at region boundaries of a pattern exposed or written on many regions by each region.
多数の領域ごとに露光又は描画されたパターンの領域境界部における接続精度を高い精度で高速に検査することができるパターン接続精度検査方法を実現する。 - 特許庁 - To improve overlay accuracy between a reticle pattern and a region demarcated on a wafer.
レチクルパターンとウエハ上の区画領域との重ね合せ精度の向上を図る。 - 特許庁 - To provide a technology for creating a dictionary for pattern recognition which is high in recognition accuracy.
認識精度の高いパターン認識用辞書の作成技術を提供する。 - 特許庁 - To realize a second resist pattern with small variations in dimensions and a high forming accuracy.
寸法ばらつきが小さく、精度の高い第２のレジストパターンを形成できる。 - 特許庁 - To provide a compact photo-plotter that can be improved easily in pattern plotting accuracy and speed.
コンパクトなフォトプロッターでパターン描画の高精度化、高速化を容易にする。 - 特許庁 - Thereby, detection accuracy of the transmission light intensity pattern of the valuable paper sheet is improved.
これにより、有価紙葉の透過光量パターンの検出精度を向上する。 - 特許庁 - To provide a metal mask for achieving the formation of a deposition pattern of high accuracy.
高精度の成膜パターン形成を実現させるためのメタルマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide an imprint device that transfers a pattern with high accuracy and efficiency.
高い精度および効率でパターン転写を行うインプリント装置を提供する。 - 特許庁 - To form the conductive mesh pattern of a light transmission window material having electromagnetic wave shielding quality, with good form accuracy and good dimensional accuracy.
電磁波シールド性光透過窓材の導電性メッシュパターンを形状精度及び寸法精度良く形成する。 - 特許庁 - To provide a pattern evaluation method and a pattern evaluation device, capable of matching an objective pattern to a reference pattern with high accuracy in the pattern measurement using an SEM image, even when the pattern of the measurement object includes a relatively large defect.
ＳＥＭ画像を利用したパターン計測において、計測対象のパターンに比較的大きな欠陥が含まれている場合でも、基準パターンとのマッチングを高精度に実施することができるパターン評価方法及びパターン評価装置。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for manufacturing a pattern sheet which transmit a pattern of a pattern roll at high accuracy by an injection molding method.
押出成形法において高い精度でパターンロールのパターンを転写させることのできるパターンシート製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method and apparatus for manufacturing an optical pattern sheet, which transfer a pattern of a pattern roll with high accuracy in an extrusion molding method.
押出成形法において高い精度でパターンロールのパターンを転写させることのできる光学パターンシート製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method and apparatus for producing a pattern sheet which can transfer a pattern of a pattern roll 14 in high accuracy in an extrusion molding method.
押出成形法において高い精度でパターンロール１４のパターンを転写させることのできるパターンシート製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which can increase a productivity by increasing a pattern accuracy during formation of a pattern, and also an exposure apparatus using the method.
パターン形成において、パターン精度を向上させることができ、生産性を向上させることができるパターン形成方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a micro pattern forming method for easily transferring a pattern with high accuracy from a substrate having a fine uneven pattern to another substrate.
微細な凹凸パターンが形成された基板から、容易に他の基板等に正確なパターン転写を行うことができる微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern inspection apparatus for improving the inspection accuracy for inspecting a pattern, a pattern inspection method and a manufacturing method of a microstructure.
本発明は、パターン検査の検査精度を向上させることができるパターン検査装置、パターン検査方法、および微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - As a result, it is possible to set a background pattern optimum for each kind of paper on which the printing of the background pattern is to be carried out, thereby improving the representing accuracy of the background pattern.
よって、地紋印刷を実施する紙種に最適な地紋パターンを設定することが可能となり、地紋の再現精度を向上することができる。 - 特許庁 - To improve dimensional stability of a picture pattern by forming an uneven pattern on the surface of a transparent substrate sheet and the picture pattern of the underside with good registration accuracy.
透明基材シートの表面の凹凸模様と裏面の絵柄模様とを、見当精度良く形成し、絵柄模様の寸法安定性を良くする。 - 特許庁 - Consequently, positional accuracy of the underlying pattern 47 and the electrode pattern 49 can be enhanced with respect to the through hole 13.
よって、スルーホール１３に対する下地パターン４７及び電極パターン４９の位置精度を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern for imprinting having a high-accuracy fine pattern and to provide a template producing method.
高精度の微細パターンを有するインプリント用のパターンの形成方法およびテンプレートの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for correcting a mask pattern which forms a pattern that has high process likelihood and correction accuracy on a semiconductive wafer.
半導体ウェハ上にプロセス裕度及び補正精度が高いパターンを形成するマスクパターン補正方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a power loading pattern predicting apparatus which easily predicts a power loading pattern in a building in a high accuracy.
建造物における電力負荷パターンを高い精度で容易に予測する電力負荷パターン予測装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an information pattern detector which detects a vein pattern of a person with successful accuracy without influences of dirt, wrinkles, etc.
人の静脈パターンを、汚れ、皺等の影響なく精度よく検出する情報パターン検出装置を提供する。 - 特許庁 - To form, with satisfactory dimensional accuracy, a pattern of a thin layer resist crossing diffusion steps or etched pattern steps on a substrate.
基体上の拡散段差やエッチングされたパターン段差を横断する薄層レジストのパターンを寸法精度良く形成する。 - 特許庁 - To provide a method of testing a pattern which can improve simulation accuracy of a layout pattern for an actual product.
実製品に対するレイアウトパターンのシミュレーション精度を向上させることができるパターン検証方法を提供する。 - 特許庁 - To form a camouflage pattern on a background pattern without sacrificing the detection accuracy of a specified code or the image quality of a latent image.
所定コードの検出精度及び潜像の画質を低下させることなく、背景パターンにカモフラージュパターンを形成する。 - 特許庁 - METHOD OF MEASURING PATTERN ALIGNMENT ACCURACY, METHOD OF FORMING PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE
パターンの位置合わせ精度計測方法、パターン形成方法、半導体装置の製造方法並びに電気光学装置 - 特許庁 - To provide a pattern forming device forming a pattern of a high accuracy in a top face and side face shapes on a substrate.
基板上に上面および側面形状の精度の高いパターンを形成するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - To prevent variation in exposure accuracy of a pattern by suppressing temperature changes of a mask.
マスクの温度変化を抑制して、パターンの焼き付け精度のばらつきを防止する。 - 特許庁 - To provide a stencil mask excellent in dimensional accuracy of an opening pattern and capable of transcribing a pattern with high dimensional accuracy; and a production method of the stencil mask.
開口パターンの寸法精度に優れており、精度良くパターンを転写することが出来るステンシルマスクおよびステンシルマスク製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a large mask of high masking accuracy without any thermal deformation of a pattern aperture.
パターン開口の熱変形がなく、マスク精度の高い大型マスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a personal identification device improving the accuracy of personal identification by increasing the reading accuracy of a fingerprint pattern and a vein pattern.
本発明は、指紋パターンと静脈パターンの読み取り精度を高めて、個人識別の精度を向上することが可能な個人識別装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To improve retrieval accuracy in using a split query to perform pattern retrieval.
分割クエリーを使用してパターン検索を行う際の検索精度を向上させる。 - 特許庁 - To improve detection accuracy in a position of a recognition mark having a minute pattern shape.
微細なパターン状を有する認識マークの位置の検出精度を向上する。 - 特許庁
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