「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 35 36 次へ＞- To provide a ceramic paste suitable for forming a thin ceramic green layer with a high pattern accuracy.
極めて薄いセラミックグリーン層を高いパターン精度をもって形成するのに適したセラミックペーストを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a fine pattern of a semiconductor integrated circuit device with productivity and high accuracy.
半導体集積回路装置の微細なパターンを生産性よく、高精度に形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure method with superior pattern accuracy for proper uniform removal of a resist film, and for improving the throughput.
パターン精度、レジスト膜除去の均一性に優れ、スループットを向上させることの出来る露光方法の提供。 - 特許庁 - To improve transfer accuracy of a mask pattern onto a substrate, irrespective of the position of an exposure object region on the substrate.
露光対象領域の基板上の位置に拘わらず、マスクパターンの基板への転写精度を向上させる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a mold for imprinting, having a high-accuracy fine pattern formed by using a mask blank.
マスクブランクを用いて高精度の微細パターンが形成されたインプリント用モールドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a printing blanket stabilized in ink transfer and capable of improving pattern formation accuracy.
インキの転移が安定しており、パターン形成精度の向上を図ることができる印刷用ブランケットを提供する。 - 特許庁 - To provide a metal plating method and an equipment which are superior in plating-position accuracy in a consecutive pattern-plating process on metal strip.
金属条の連続部分メッキにおいて、メッキ位置精度に優れたメッキ方法及ぶ装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide an image processing apparatus capable of detecting a prescribed pattern embedded with inhibit information or the like with high accuracy.
禁止情報などが埋め込まれた所定のパターンを精度良く検出できる画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a duplicating stamper with a high degree of accuracy of transfer of a fine pattern, and its manufacturing method.
微細パターン転写の精度が良い複製スタンパおよびその製造方法を提供することを可能にする。 - 特許庁 - To provide a verification method for shortening a TAT (Turn Around Time) with high accuracy for a mask pattern after an OPC (Optical Proximity Correction).
ＯＰＣ後のマスクパターンに対する、高精度で短ＴＡＴ化が可能な検証方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image processing apparatus capable of preventing the decline in the detection accuracy of a specified pattern, and to provide an image processing program.
特定パターンの検出精度低下を防止できる画像処理装置、及び画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁 - To provide a proximity effect correction method which is capable of realizing a pattern of high dimensional accuracy.
高いパターン寸法精度を達成することができる近接効果補正方法等を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a multilayer electronic component which is capable of improving the dimensional accuracy of an electrode pattern.
電極パターンの寸法精度を向上させることが可能な積層電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method capable of patterning a thin film with high accuracy by a simple method at a low cost.
簡易で低コストな手法により薄膜を高精度にパターニングできるパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of inspecting a reticle, etc., which prevents the deterioration of pattern transfer accuracy due to the distortion of the reticle.
レチクルの歪みによるパターン転写精度の低下を防ぐことができるレチクル検査方法等を提供する。 - 特許庁 - Microfabrication is achieved by the technology of forming a circuit pattern on the tape, and recognition accuracy is improved by a transparent tape.
テープへの回路パターン形成技術の応用による微細化と透明テープによる認識精度の向上。 - 特許庁 - The pattern image area and the character / line drawing area can be subjected to separate processing with high accuracy by using the separation mask.
該分離マスクを用いることで、絵柄画像領域と文字・線画領域との高精度の分離処理が行える。 - 特許庁 - To provide a phase shift mask for improving the accuracy of a fine structure in a semiconductor device having a concentric pattern.
同心形状を有する半導体装置の微細構造の精度を高める位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern correction method for a semiconductor manufacturing mask, capable of obtaining the satisfactory correction accuracy.
十分な補正精度を得ることができる半導体製造用マスクのパターン補正方法を提供すること。 - 特許庁 - To enable correctly grasping measurement accuracy and linearity of a jitter measurement device for a pattern dependent jitter.
パターン依存性ジッタに対するジッタ測定器の測定精度や直線性等を正しく把握できるようにする。 - 特許庁 - To enhance an accuracy when ultraviolet beams are used as illuminating beams and a surface of a resist pattern is optically inspected.
紫外光を照明光としてレジストパターンの表面を光学的に検査する際の精度を向上させる。 - 特許庁 - To perform pattern recognition at high speed with high accuracy on the basis of a plurality of color signals outputted from an imaging element.
撮像素子から出力される複数の色信号に基づいて高速かつ高精度でパターン認識を行う。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a multilayer substrate, capable of improving accuracy of machining a pattern formed using droplets.
液滴を用いて形成したパターンの加工精度を向上させた多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radar system capable of checking antenna beam pattern and pointing accuracy without hindering regular operation.
通常の運用を妨げることなくアンテナビームパターンや指向精度を確認できるレーダー装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pseudo-blazed diffraction element having a grating pattern with fine grating pitches with high accuracy.
格子ピッチが高精度で微細化された格子パターンを有する擬似ブレーズ化回折素子を提供することである。 - 特許庁 - To provide a technology for improving the accuracy of the extraction of a dot pattern embedded in a character image.
文字画像に埋め込まれたドットパターンの抽出の正確性を向上させるための技術を提供すること。 - 特許庁 - To prevent a defective injection of impurity due to deterioration in the accuracy of the form of a resist pattern by a trailing phenomenon.
すそ引き現象によるレジストパターンの形状精度劣化による不純物注入不良を防止する。 - 特許庁 - The adjusting step is provided so as to compensate an effect to a pattern overlay accuracy of a distortion of a patterning device.
調整するステップは、パターニングデバイスの歪みのパターンオーバーレイ精度への影響を補償するよう設定される。 - 特許庁 - To provide a method for fabricating EUVL mask 50, which fabricates a pattern of an absorbing layer 56 with high accuracy.
吸収層５６のパターンを精度よく加工することが可能な、ＥＵＶＬマスク５０の加工方法を提供する。 - 特許庁 - To manufacture in a high accuracy a structure in which a conductive member with a fine pattern is arranged in a high density.
微細パターンを有する導電性部材が高密度に配置されてなる構成を高精度に製造する。 - 特許庁 - To provide a technique by which the pattern of an antenna for an inlet for an electronic tag is formed with good accuracy and at a low cost.
電子タグ用インレットのアンテナのパターンを精度よく、かつ安価に形成できる技術を提供する。 - 特許庁 - To enable a highly accurate measurement of overlap accuracy by preventing asymmetry from occurring in the shape of a resist pattern constituting an overlap accuracy measuring mark for a highly accurate sensing of the position of the overlap accuracy measuring mark.
重ね合わせ精度測マークを構成するレジストパターン形状の非対称性を防止し、重ね合わせ精度測定マーク位置を精度よく検出することで、高精度な重ね合わせ精度の測定を可能にする。 - 特許庁 - To provide the optimal calibration method and an accuracy control method for warning a calibration interval based on an accuracy control screen and a fluctuation pattern of calibration results.
精度管理画面およびキャリブレーション結果の変動パターンに基づき、最適なキャリブレーション方法とキャリブレーションインターバルを警告する精度管理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device manufacturing method capable of improving the dimensional accuracy of a fine semiconductor device circuit pattern without being affected by the deterioration of junction accuracy for plotting.
主偏向と副偏向により半導体装置の回路パターンを分割して荷電ビームで描画する際の繋ぎ精度の悪化の影響が無い描画パターンデータを提供できる。 - 特許庁 - To improve imprinting accuracy, and to improve a yield, by automatically determining transfer accuracy in a transfer process, by measuring pattern strain in imprinting when press-fitting a mold.
インプリント時のパターン歪みをモールド圧着時に測定し、転写精度を転写工程中に自動判定することによりインプリント精度の向上、収率の向上を図る。 - 特許庁 - To provide a method of adjusting focal point, by which the focal point of a beam including a beam having an arbitrary shape can be adjusted with high accuracy, and to provide an electron beam lithography system which can write a pattern with high accuracy.
任意形状ビームを含む高精度なビーム焦点調整方法や、高精度なパターン描画を可能とした電子線描画装置を提供すること。 - 特許庁 - To realize an error distribution pattern freely and with high accuracy, an error amount with high accuracy and a very highly stable error without being affected by a reading device.
誤りの分布パターンを自由かつ高精度に実現でき、誤り量を高精度に実現でき、読取装置による影響を受けず極めて安定性の高い誤りを実現する。 - 特許庁 - By such configuration, the basic graphics are extracted with high accuracy and recognition accuracy of the object by pattern matching using the basic graphics including the quasi-circular arcs is raised.
このような構成では、基本図形が高精度で抽出でき、擬似円弧を含む基本図形を用いたパターンマッチングによる物体の認識精度を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide an aligner and an adjusting method therefor wherein lens distortion accuracy, pattern matching accuracy, and the like are enhanced, by making optimal adjustment using linear programming.
線形計画法で最適調整を行い、レンズディストーション精度や配列のマッチング精度等を向上させる露光装置およびその調整方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern recognizer and pattern recognition program capable of preventing lowering of pattern recognition accuracy even if smear occurs in an obtained image when recognizing a pattern on a mobile object moving within the visual field of a photographic device.
撮影装置の視野内を移動する移動体上のパターンを認識する場合において、得られる画像の中にスミアが発生しても、パターン認識の正確性が下がらないようにできるパターン認識装置及びパターン認識プログラムを、提供する。 - 特許庁 - To provide an ink composite for forming a pattern capable of improving the uniformity of a coating film, the accuracy of the pattern and the configuration of the pattern which become a problem in a printing method, a forming method of the pattern, a manufacturing method of an electronic component and the electronic component.
印刷法で課題となる塗膜の均一性、パタ−ン精度及び形状を向上させることができるパターン形成用インキ組成物、パターン形成方法、電子部品の製造法及び電子部品を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method, capable of making a pattern groove which is provided to a resin film by irradiating the film with a laser beam stable in depth and high in accuracy, stabilizing the characteristics of a pattern which is formed on a board through printing by the use of the resin film as an intaglio, easily forming a pattern groove of high accuracy, and improving an electronic part in productivity.
樹脂フィルムにレーザー光線によって形成するパターン溝の深さが安定し、精度の高いパターン溝ができ形成、この樹脂フィルムを凹版として印刷により基板に形成するパターンの特性値が安定し、精度が高いパターン溝が容易に形成でき、生産性が高まる。 - 特許庁 - To provide a resist composition which suppresses occurrence of shape anomaly and can form a fine and high-definition resist pattern with good dimensional accuracy, and to provide a resist pattern forming method by which a fine and high-definition resist pattern can be efficiently formed with good dimensional accuracy, and a method for manufacturing a semiconductor device.
形状異常の発生を抑制し微細かつ高精細なレジストパターンを寸法精度よく形成可能なレジスト組成物、微細かつ高精細なレジストパターンを効率的かつ寸法精度よく形成可能なレジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a method of forming an electrode pattern by which the electrode pattern can be formed on a base in high positional accuracy while its area and shape is being stabilized, and to provide an electrode which is formed on the base in high positional accuracy while its area and shape are stable.
電極パターンを、その面積、形状を安定させつつベース上に位置精度良く形成可能な電極パターン形成方法及び面積、形状が安定しベース上に位置精度良く形成された電極を提供する。 - 特許庁 - To provide a processing method of a prism pattern having a high accuracy groove shape which method includes restraining the falling of the shape accuracy of a groove processed part due to tool wearing in the cutting processing of a roll mold for film transferring and molding having the prism pattern.
プリズムパターンを有するフィルム転写成形用のロール金型の切削加工において、工具摩耗による溝加工部の形状精度低下を抑止し、高精度な溝形状を有するプリズムパターンの加工方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of correcting a dot pattern causing neither a collapse of a white cell due to printing thickness of a dot pattern of a black cell nor a decrease of a reading accuracy of a reader due to a white clearance by a correction.
黒セルのドットパターンの印刷太りで白セルが潰れたり、補正による白い隙間によりリーダの読取精度が低下しないドットパターン補正方法の提供。 - 特許庁 - To provide a conductive pattern with high accuracy, a forming method thereof, an electronic element with the conductive pattern, an electronic element array, and a display element.
本発明は、精度の高い導電パターン及びその形成方法並びに該導電パターンを有する電子素子、電子素子アレイ及び表示素子を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To form a dense hole pattern having a hole pitch of not more than a resolution limit and an isolated hole pattern while preventing the lowering of throughput and the deterioration of dimensional accuracy.
スループットの低下や寸法精度の劣化を防止しつつ、解像限界以下のホールピッチを有する密集ホールパターンを孤立ホールパターンと共に形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide a high-speed patterning method using electron beam lithography that reduces time for forming a total pattern including a ultra-fine circuit pattern with a high dimensional accuracy.
高寸法精度で超微細な回路パターンを含んだトータルパターンの形成時間を短縮させる電子線描画を利用したパターンの高速加工方法を提供する。 - 特許庁 - As a result, the dry pattern PD formed on a green sheet 23 can be prevented from collapsing or deforming at the vacuum packaging step, and a pattern can be formed with high accuracy.
その結果、減圧包装工程において、グリーンシート２３に形成された乾燥パターンＰＤの潰れや変形は防止でき、精度の高いパターンを形成することができる。 - 特許庁
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