「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 35 36 次へ＞- To provide a mask pattern correction method capable of performing a mask pattern correction with flare taken into consideration, at high speed and at high accuracy.
フレアを考慮したマスクパターン補正を高速かつ高精度に行うことができるマスクパターン補正方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a mask blank which can form a minute mold pattern with high pattern accuracy in manufacturing an imprint mold.
インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができるマスクブランクを提供する。 - 特許庁 - To provide a mask blank in which a fine pattern can be formed with high pattern accuracy in manufacturing an exposure mask or the like.
露光用マスク等の製造において、微細パターンを高いパターン精度で形成することができるマスクブランクを提供する。 - 特許庁 - To efficiently form a desired drawing pattern while realizing a pattern with high accuracy without decreasing the throughput.
スループットを下げることなく高解像度のパターン形成を実現しながら、任意の描画パターンを効率よく基板へ形成する。 - 特許庁 - To provide a so improved resist pattern forming method as to enhance the dimensional accuracy of a resist pattern.
レジストパターンの寸法精度を上げるように改良された、レジストパターンの形成方法を提供することを主要な目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for dividing a pattern, by which a dense pattern is formed on a substrate with high accuracy.
密集パターンを精度よく基板上に形成することが可能となるパターン分割方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a pattern collating device with which the accuracy of correlation is not almost lowered even when a pattern is varied.
パターンに変動が加わっている場合でも、相関の精度がほとんど低下することがないパターン照合装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a fine pattern with high accuracy and high alignment accuracy in a fewer number of processes.
本発明は、工程数が少なく、高精度かつ高アライメント精度で微細パターンを形成できる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To easily rapidly inspect a mask with accuracy beyond necessary accuracy even when a pattern to be formed on a substrate is made fine.
基板に形成すべきパターンが微細化しても容易且つ迅速に必要となる精度以上の精度でマスクを検査できるようにする。 - 特許庁 - To provide a photomask capable of producing a high quality display device without depending upon the positioning accuracy and the dimensional accuracy of a mask pattern.
マスクパターンの位置精度および寸法精度に依存せず、高品位な表示装置を製造することができるフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - To improve solvent resistance and water resistance by maintaining a high accuracy pattern in a high accuracy of a printing screen using an emulsion material.
乳材を用いた印刷用スクリーン版において高精度であって、高精度パターンを維持し、耐溶剤性、耐水性を向上させる。 - 特許庁 - To provide a liquid drop delivery apparatus for enhancing accuracy of drop-deposition from nozzles and thereby capable of forming a membrane pattern of high accuracy, and a membrane pattern formation method using this.
各ノズルからの着弾精度を上げ、これによって高精度の膜パターンを形成できるようにした液滴吐出装置と、これを用いた膜パターン形成方法とを提供する。 - 特許庁 - By cleaning the belt 13 before the pattern formation, the pattern detection accuracy is secured, and accuracy is also improved to secure the quality of a formed image.
パターンの形成の前にベルト１３の清掃を合わせて行うことにより、パターン検出の精度を確保でき、ひいては補正の精度を高めて形成される画像の品質を確保することができる。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of preventing reduction in dimensional accuracy and positional accuracy of a pattern finally formed on a semiconductor substrate; and a photomask formed by the method.
最終的に半導体基板上に形成されるパターンの寸法精度と位置精度を悪化させることのないパターン形成方法及び該方法により形成されるフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - A high accuracy pattern measurement that suppresses the influence of pattern edge roughness can be performed by providing a method of performing a pattern measurement by calculating the angle from an auxiliary point sequence indicating the orbit of the pattern.
パターンの軌道を示す補助点列から前記角度を算出し、パターン計測を行なう手法を提供することにより、パターンエッジのラフネスの影響を抑制した高精度パターン計測を可能とする。 - 特許庁 - To prevent a pattern-forming accuracy at each pattern junction from degrading, caused by alignment difference between exposure light and an exposure electronic beam, without making a exposure light pattern or an exposure electron beam pattern to be thick.
光露光パターンや電子線露光パターンを太らせることなく、光露光と電子線露光の合わせずれに起因する各々のパターンの接続部分でのパターン形成精度劣化を防止する。 - 特許庁 - To provide a method for collating palmar patterns, enabling specifying a person having a left palmar pattern with a high accuracy, even when if the left palmar pattern extends over a full palm pattern and a side palm pattern.
遺留掌紋が全掌掌紋と側掌掌紋に跨る場合であっても、高い精度で遺留掌紋を有する者を特定することを可能とする掌紋照合方法を提供する。 - 特許庁 - In addition, a counter example detecting part 104 for detecting a pattern other than a face pattern is provided before or after this series of identification to improve accuracy by detecting a pattern other than a face pattern.
さらに、この一連の識別の前または後ろには、顔以外のパターンを検出する反例検出部１０４が設けられ、顔以外のパターンを検出することで、精度の向上を図っている。 - 特許庁 - Consequently, the vehicular headlight can improve the light-distribution accuracy of the low beam light-distribution pattern and the high beam light-distribution pattern (the light-distribution pattern for daytime running light).
この結果、この発明は、ロービーム用配光パターンおよびハイビーム用配光パターン（デイタイムランニングライト用配光パターン）の配光精度を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method and a pattern forming device, capable of forming a pattern on a substrate at a target position with accuracy, while heating the substrate.
基板を加熱しながら基板上に形成されるパターンを目的の位置に精度良く形成することが可能となるパターン形成方法及パターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing process of a letterpress for printing which can print a highly minute pattern capable of preventing the decrease of a dimensional accuracy and the decrease of the pattern accuracy and the reproducibility of fine lines when the high accuracy pattern printing is conducted by a letterpress printing process, and to provide a minutely printed manufacturing article.
凸版印刷法により高精細なパターンの印刷を行う際、樹脂を基板としているため寸法精度の低下、細線のパターン精度と再現性の低下を防ぐことができる高精細パターンが可能な印刷用凸版の製造方法及び精密印刷製造物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for the formation of a pattern onto a panel substrate, where a process is simple and a fine pattern is formed with satisfactory accuracy.
工程が簡単で、しかも微細パターン形成の精度も良い、パネル基材へのパターン形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern-forming apparatus and a method for manufacturing a pattern, capable of writing patterns at a lower cost, at higher speed, and with high degree of accuracy.
低廉で且つ高速、高精度のパターン描画をすることができるパターン形成装置及びパターン製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To achieve high-accuracy pattern formation by preliminarily measuring warpage of a substrate and forming a pattern complying with the amount of warpage in the process of manufacturing a photomask.
フォトマスクの製造で、基板のそり事前に測定し、そり量に応じたパターンを作成し、高精度なパターン作成を実現する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device improved in a dimensional accuracy of a gate pattern by using a dummy gate pattern, and speeding up circuit operation.
ダミーゲートパターンを用いてゲートパターンの寸法精度の向上を図り、かつ回路動作の高速化が可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a fine pattern that has an excellent pattern accuracy, and also has an excellent adhesion property with respect to a substrate and an excellent mold releasing property.
パターン精度に優れ、かつ、基板密着性とモールド離型性に優れた微細パターンを製造できる方法を提供する。 - 特許庁 - To improve positioning accuracy of a pattern in the circumferential direction in an electron beam lithography method to conduct pattern drawing by irradiation of an electron beam.
電子ビームを照射してパターン描画を行う電子ビーム描画方法において、パターンの円周方向配置精度を向上させる。 - 特許庁 - To improve superposition accuracy of an exposure pattern on a functional pattern on an exposure object and to reduce exposure process time.
被露光体上の機能パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上すると共に露光処理の時間を短縮する。 - 特許庁 - To predict the traveling pattern of a vehicle that considers the acceleration on a route to a destination for getting a traveling pattern with proper accuracy.
精度の良い走行負荷パターンを得るため、目的地までの経路における加速を考慮した自動車の走行パターンを予測する。 - 特許庁 - To improve the positional accuracy of a plotting beam obtained when a pattern is plotted without the consideration of the deterioration of the alignment pattern of a final product.
最終製品のアライメントパターンの劣化を考慮することなく、パターンを描画する際の描画ビームの位置精度を向上させる。 - 特許庁 - To provide an exposure method in which the pattern of a mask is formed with high accuracy so as to be overlapped with a pattern image which is already formed on a substrate.
基板上に既に形成されたパターン像にマスクのパターンを高精度に重ね合せて形成する露光方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method with which a pattern of a large area can be formed with high dimensional accuracy by using photocurable resin.
光硬化性樹脂を用いて、大面積のパターンを高い寸法精度で形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a template which can increase the location accuracy of a pattern transcribed to a nanoimprint material layer, and a pattern forming method.
ナノインプリント材料層に転写されたパターンの位置精度を高めることが可能なテンプレート及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Accordingly there is no fear of increase of accumulated error of dimensional accuracy of the pattern area 3a, dimensional accuracy of the base plate and accuracy of cutting position with a cutter, and then the lamination position can be exactly maintained.
したがってパターン領域３ａの寸法精度、基板の寸法精度およびカッタによる切断位置の精度の累積誤差が増大するおそれはなく、ラミネート位置が正確に保たれる。 - 特許庁 - To accurately detect a focal position by a simple configuration and to form a pattern of high accuracy.
簡易な構成によって正確に焦点位置を検出し、高精度のパターンを形成する。 - 特許庁 - To reduce a load for judging a striped pattern image such as a fingerprint and so on and improve accuracy in the judgement.
指紋等の縞模様画像の鑑定時の負担を軽減し、また、鑑定精度を向上させる。 - 特許庁 - To easily form a micro metallic pattern at a low cost and in high accuracy while reducing an excessive material.
材料の無駄を少なくし、微細な金属パターンを精度良く、安価で簡単に形成する。 - 特許庁 - To improve printing accuracy by suppressing the positional errors in pattern transfer caused by deformation of the body.
ボディの変形に起因するパターンの転写位置誤差を抑制して焼き付け精度を向上する。 - 特許庁 - To form a fine pattern with a high dimensional accuracy by a thick film required to be formed at high temperature.
高温での成膜が必要な厚い膜で、寸法精度良く微細なパターンを形成する。 - 特許庁 - To enhance the accuracy of inspection by detecting a contact state between each probe and each wiring pattern.
プローブと配線パターンとの間の接触状態を検出して検査精度を向上させる。 - 特許庁 - To maintain a desired transfer pattern formation accuracy, having almost no adverse effect on throughput.
スループットにほとんど影響を及ぼすことなく、所期の転写パターン形成精度を維持すること。 - 特許庁 - To detect the contour of a predetermined object or pattern from an image with high accuracy.
画像から所定の物体または図柄の輪郭を高い精度で検出できるようにすること。 - 特許庁 - To provide an electron beam lithographic system, capable of preventing decrease in dimensional accuracy, in pattern drawing.
パターン描画における寸法精度の低下を防止できる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁 - To enhance the transfer accuracy of a pattern in the vicinity of a holding region in proximity exposure.
近接露光を行う際に、保持領域の近傍におけるパターンの転写精度を向上させる。 - 特許庁 - To provide a curable composition for nanoimprint excellent in pattern accuracy and also high in the elasticity recovery ratio.
パターン精度に優れ、かつ、弾性回復率が高いナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - To enable a silk printing pattern which is printed on a board and be inspected with high accuracy.
基板に印刷されたシルク印刷パターンを高い精度で検査することができるようにする。 - 特許庁 - Also, the bright pattern light is obtained by using a light pipe, thus enabling the high-accuracy three-dimensional measurement.
また、ライトパイプを用いる事により明るいパターン光を得、高精度な３次元計測を行う。 - 特許庁 - Overlay is measured with high precision and accuracy by utilizing pattern symmetry (712).
オーバレイはパターン対称性を利用して高い精度および正確さで測定することができる（７１２）。 - 特許庁 - Furthermore, since the number of stacking (pressing) is reduced, adjusting accuracy is improved on each pattern.
また、積層（プレス）の回数が低減されるため、それぞれのパターンの合わせ精度が向上する。 - 特許庁 - To provide a drawing method and a drawing device with improved drawing accuracy on an edge part of a pattern.
パターンの縁部の描画精度が向上された描画方法および描画装置を提供する。 - 特許庁
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