「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 35 36 次へ＞- ACCURACY MEASURING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY APPARATUS
精度測定パターン、表示パネルの製造方法および表示装置の製造方法 - 特許庁 - To reduce dimensions with a lower amount of operation without decreasing the accuracy of pattern recognition.
パターン認識の精度を下げずに、より少ない演算量で次元削減を行う。 - 特許庁 - To set a casting time in a lost foam pattern casting method exactly and with high accuracy.
消失模型鋳造法での鋳込み時間を正確、かつ高精度に設定する。 - 特許庁 - To improve positioning accuracy of an exposure pattern by controlling an exposure position in an analog manner.
露光位置をアナログ的に制御して露光パターンの位置決め精度を向上する。 - 特許庁 - To improve a charged particle beam projection exposure in pattern transfer accuracy.
パターン転写精度を向上できる荷電粒子線投影露光方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent decrease in printing accuracy of a pattern even when the temperature of a mask changes.
マスクの温度が変化しても、パターンの焼き付け精度が低下するのを防止する。 - 特許庁 - To provide a charged particle exposure apparatus capable of obtaining desired pattern sizing accuracy.
所望のパターン寸法精度を得られる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method and a device for high-speed and high-accuracy pattern inspection.
高速かつ高精度のパターン検査方法およびパターン検査装置を提供する。 - 特許庁 - The pattern is formed nearly in a rectangular form to reduce recording loses, and thus transfer accuracy is heightened.
矩形状に近く描画して記録損失を低減し、転写精度を高める。 - 特許庁 - To provide a reticle and its manufacturing method which are capable of forming a pattern of high accuracy.
高精度のパターンを形成し得るレチクル及びレチクル製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing photomask blanks providing a favorable mask pattern accuracy and pattern transfer accuracy by having a favorable flatness in patterning a light-shielding film.
遮光膜のパターニング時に良好な平坦度を有することで、良好なマスクパターン精度及びパターン転写精度が得られるフォトマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a partial plating method with high pattern accuracy and simple processes.
簡易な工程でパターン精度の高い部分メッキを施す方法を提供すること。 - 特許庁 - To improve the accuracy of a drawing position in the circumferential direction of each pattern when a fine pattern formed by alternately disposing a groove pattern and a servo pattern in the circumferential direction is drawn by electron beam scanning.
周方向にグルーブパターンとサーボパターンが交互に配置されてなる微細パターンを電子ビーム走査により描画する際の、各パターンの周方向描画位置の精度を向上させる。 - 特許庁 - To accurately measure position accuracy of an optional part where high position accuracy is requested in a device pattern of a reticule.
レチクルのデバイスパターンにおいて高い位置精度が要求された任意の部分の位置精度を正確に測定できるようにする。 - 特許庁 - To develop a resist film on a substrate with high accuracy and to improve dimensional accuracy of a resist pattern formed in the resist film.
基板上のレジスト膜を高精度で現像し、当該レジスト膜に形成されるレジストパターンの寸法精度を向上させる。 - 特許庁 - To improve the accuracy by reducing deterioration in the accuracy due to mechanical dimensional errors or irregularity of optical pattern of an optical disk.
機械的な寸法誤差や光学ディスクの光学パターンの不規則性による精度低下を低減し、精度向上を実現する。 - 特許庁 - To improve a positioning accuracy by suppressing a vibration in a projection optical system and to contribute to the improvement in a pattern projecting accuracy.
投影光学系に発生する振動を抑制して位置決め精度の向上、およびパターン投影精度の向上に寄与する。 - 特許庁 - To provide a multilayer substrate, as well as its manufacturing method, that can be made thin, excellent in mass-production, has a pattern accuracy, a lamination accuracy, and an insulating layer thickness accuracy, and is highly reliable.
薄型化が可能で、量産性に優れ、パターン精度、積層精度および絶縁層の厚さ精度が高く、信頼性の高い多層基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce the calculation time for proximity correction and to improve pattern accuracy.
近接効果補正のための計算時間の短縮及びパターン精度の向上をはかる。 - 特許庁 - To provide an optical unit capable of improving forming accuracy of a light distribution pattern.
配光パターンの形成精度の向上を図ることができる光学ユニットを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a stencil mask with high pattern accuracy and yield.
パターン精度ならびに歩留まりの高いステンシルマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pattern wiring board or a device board of high quality and high accuracy.
高品質でかつ高精度なパターン配線基板あるいはデバイス基板を提供可能とする。 - 特許庁 - To obtain a position of a measurement border line of a circuit pattern of a semiconductor device with high accuracy.
半導体デバイスの回路パターンの測長輪郭線の位置を高精度に求める。 - 特許庁 - To maintain the accuracy of fixed pattern noise (FPN) correction processing even when high-luminance light is made incident.
高輝度光が入射した場合であっても、ＦＰＮ補正処理の精度を維持する。 - 特許庁 - To align a photomask with high accuracy, even to a pattern of a complicated figure.
複雑な図形のパターンに対してもフォトマスクの高精度な位置合わせを可能とする。 - 特許庁 - This realizes a high-accuracy separation of character/line image regions from pattern image regions.
これにより、文字・線画領域と絵柄画像領域との高精度の分離も実現される。 - 特許庁 - Thereby, connection of the wiring pattern is performed efficiently without reducing accuracy.
そのため、配線パターンの接続を効率的に、かつ精度を低下させずに行うことができる。 - 特許庁 - To provide a method for forming a photoresist pattern excellent in dimensional accuracy and productivity.
寸法精度及び生産性に優れるフォトレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The phase error of this pattern can be determined to high accuracy by aerial image measurements.
このパターンの位相誤差は、空中像測定によって高精度に決定することができる。 - 特許庁 - To provide an information processing technology capable of high-speed and high-accuracy pattern recognition.
高速、かつ、高精度のパターン認識が可能な情報処理技術を提供すること。 - 特許庁 - To provide a mask pattern generating method for removing a hot spot with high accuracy in a short time.
ホットスポットを精度良く短時間で除去するマスクパターン生成方法を提供すること。 - 特許庁 - A cooling plate is pressed against the card base after the antenna pattern is fixed, and dimensional accuracy is secured.
アンテナパターンの固定後は、冷却板をカード基材に押し当て、寸法精度を確保する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a photomask by which pattern transfer size accuracy is improved.
パターン転写寸法精度の向上が図られたフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for producing an imprint template having a high-accuracy fine pattern.
高精度の微細パターンを有するインプリント用テンプレートの製造方法を提供する。 - 特許庁 - That is, the position accuracy measurement patterns 16 are formed in a part of the light-shielding pattern 15.
つまり、位置精度測定用パターン１６が遮光パターン１５の一部に形成されている。 - 特許庁 - As a result, a pattern figure with high accuracy as shown in the figure can be obtained on the substrate.
その結果、図に示すような精度の良いパターン形状が基板上に得られる。 - 特許庁 - To reduce the calculation time required for optical proximity effect correction and to improve pattern accuracy.
近接効果補正のための計算時間の短縮及びパターン精度の向上をはかる。 - 特許庁 - To draw a paste pattern different in width or height of a coating paste with high accuracy.
塗布ペーストの幅や高さの異なるペーストパターンを高精度に描画できるようにする。 - 特許庁 - Thus, a second resist pattern with small variations in dimensions and a high accuracy is formed.
これにより、寸法ばらつきが小さく、精度の高い第２のレジストパターンを形成できる。 - 特許庁 - To detect a predetermined object or a predetermined pattern from an image with high accuracy.
画像から所定の物体または図柄を高い精度で検出できるようにすること。 - 特許庁 - To control a dimension of a transferred pattern with higher accuracy transferred by using a phase shift mask.
位相シフトマスクを用いて転写する転写パターンの寸法をより高精度に制御する。 - 特許庁 - To increase manufacturability by removing constraints on designing of a coil pattern and to improve accuracy of a magnetic field.
コイルパターン設計の制限を無くし、製作性がよく、また磁場の精度を改善する。 - 特許庁 - To easily manufacture a wiring pattern of each layer of a multilayer circuit board with sufficient positional accuracy.
多層回路基板の各層の配線パターンを位置精度よく容易に製造すること。 - 特許庁 - PHOTOMASK, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR EXPOSING SEMICONDUCTOR CHIP PATTERN AND CHIP ALIGNMENT ACCURACY INSPECTING DEVICE
フォトマスク、半導体装置、半導体チップパターンの露光方法、チップアライメント精度検査装置 - 特許庁 - To allow a synchronizing pattern included in a data stream to be detected with higher accuracy.
データストリームに含まれる同期パターンをより高い確度で検出することを可能にする。 - 特許庁 - To provide a plated substrate for forming a fine pattern with excellent accuracy, and its manufacturing method.
微細パターンを精度良く形成するめっき基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a pattern providing a high pattern accuracy of an outer layer and a good yield, using a very thin copper foil.
極薄銅箔を用いることにより，外層のパターン精度がよく，歩留まりもよいパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method using a thermal flow process to improve the size accuracy in a resist pattern forming process.
サーマルフロープロセスを用いたレジストパターン形成工程における寸法精度を向上させるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing apparatus and a method therefor which can draw a line pattern with high position accuracy in a short time.
高い位置精度の線パターンを短時間に描画することのできるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁 - MEASURING METHOD OF ALIGNING ACCURACY OF PATTERN, FORMING METHOD OF PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
パターンの位置合わせ精度測定方法、パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、半導体装置の製造方法 - 特許庁
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