To optimize the amount of movement of a pattern edge position with high accuracy in a short time by performing fewer numbers of calculation times. パターンエッジ位置の移動量を、少ない計算回数で短時間に、高精度に最適化する。 - 特許庁
To correct an edge with high accuracy in a short time upon correcting a pattern by simulation. シミュレーションによりパターン補正を行う場合、短時間で高精度にエッジの補正を行うこと。 - 特許庁
Thus, the pattern rotation angle at the edge part of a scan area 7 is made small, and the positional accuracy improves. これによって、スキャンエリア7端部でのパターン回転角が小さくなり、位置精度が向上する。 - 特許庁
To draw a fine pattern over a wide drawing range at a high speed with high accuracy. 広い描画範囲にわたって精細なパターンを精度よく高速に描画することを可能とする。 - 特許庁
To provide a technique capable of controlling a drawing position of a pattern in relation to an object with high accuracy. 対象物に対するパターンの描画位置を高い精度でコントロールできる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a uniform print film thickness or a printing pattern at high accuracy in screen printing. スクリーン印刷において、より均一な印刷膜厚またはより高精度の印刷パターンを得る。 - 特許庁
Consequently, the linear sensor 406 can read out the pattern of a linear scale 404 with high accuracy. これにより、リニアセンサ406は、リニアスケール404のパターンを精度良く読み取ることができる。 - 特許庁
Thus, defects of the pattern can be detected with accuracy in accordance with the type of printing. こうすれば印刷の種類に合わせた精度でパターンの欠陥を検出することができる。 - 特許庁
To provide a mask pattern correction method with high dimensional accuracy using a scanning probe microscope. 走査型プローブ顕微鏡を用いた、寸法精度の高いマスクパターン修正方法を提供すること。 - 特許庁
To improve overlapping accuracy of exposure patterns to a reference pattern formed in an object to be exposed. 被露光体に形成された基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上する。 - 特許庁
To freely layout a pattern required for assuring and managing the accuracy of a photomask. フォトマスクの精度保証や管理を行なう上で必要なパターンを自由にレイアウトできるようにする。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus capable of enhancing the toner pattern reading accuracy of a sensor. センサによるトナーパターンの読取り精度を上げることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a technology for appropriately verifying the accuracy of a simulation model of a semiconductor layout pattern. 半導体のレイアウトパターンのシミュレーションモデルの精度を適切に検証する技術を提供する。 - 特許庁
To provide a proximity effect correcting method or the like capable of achieving high pattern dimension accuracy. 高いパターン寸法精度を達成することができる近接効果補正方法等を提供する。 - 特許庁
To perform adjustment with high accuracy by forming a pattern in a region where undulation of a recording medium is small. 被記録媒体の波打ちが小さい領域にパターンを形成して、精度の高い調整をする。 - 特許庁
To prevent the accuracy of detection of a pattern for an inspection from being decreased, for example, due to an error of mounting of a sensor. センサの取付誤差等の影響により、検査用パターンの検出精度が低下する。 - 特許庁
To select a translation pattern faithful to an original text to enable high-accuracy translation. 原文により忠実な翻訳パターンを選択し精度の高い翻訳を実現することにある。 - 特許庁
Within a scribe line 13, a dummy pattern 14 is formed in the vicinity of an overlap accuracy measuring mark comprising a first layer pattern 11 formed on a semiconductor substrate and a second layer pattern 12 as a resist pattern and, as the result, the resist pattern 10 in the vicinity of the overlap accuracy measuring mark is arranged to be symmetrical to the overlap accuracy measuring mark. スクライブライン13内において、半導体基板上に形成された第1層のパターン11とレジストパターンで形成される第2層のパターン12とからなる重ね合わせ精度測定マークの周辺にダミーパターン14を形成することにより、重ね合わせ精度測定マークの周辺のレジストパターン10を重ね合わせ精度測定マークに対して対称に配置する。 - 特許庁
Since patternaccuracy of an anisotropic etching mask improves, accuracy of micromirror formation also improves, thus enabling formation of a micromirror of higher flatness. 異方性エッチングマスクのパターン精度が向上するため、マイクロミラー形成の精度も向上し、より平坦性の高いマイクロミラーが形成可能となる。 - 特許庁
The number N of times by which the operations are repeated is determined based on a position alignment accuracy (accuracy of superposition) of patterns or a time taken for pattern transfer. 繰り返しの回数Nは、パターンの位置合わせ精度(重ね合わせ精度)又はパターンの転写に要する時間に基づいて定められる。 - 特許庁
The mask patterns meeting circuit design and eventually the resist patterns are obtained with good accuracy without appearance of the degradation in the accuracy of the patternaccuracy in the etching by a difference in the aperture ratios occurring in a so called loading effect at the chip pattern. これらのこと等により、いわゆる局所的なローディング効果を原因とした開口率の違いによるエッチング時のパターン精度低下がチップパターンに現れることなく、回路設計に応じたマスクパターンひいてはレジストパターンが精度良く得られる。 - 特許庁
To enable suppression of lowering of dimensional accuracy for a pattern required of a high dimensional accuracy on a wafer caused due to variations in shots, to thereby improve the dimensional accuracy when the pattern is transferred to the wafer. 高い寸法精度が要求されるパターンに関して、ショット毎のばらつきによるウェハ上での寸法精度の低下を抑制することができ、描画時間の増大を招くことなく、ウェハ上に転写した際の寸法精度の向上に寄与し得る。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus in which a pattern detection means is less likely to be soiled by paper powder or the like, the pattern detection means accurately reads a basic pattern formed and fixed on recording paper, and the pattern detection means maintains high reading accuracy, without lowering productivity, even at high-speed printing. パターン検知手段が紙粉等で汚染され難く、パターン検知手段により記録紙に形成され定着された基本パターンを精度良く読み取り可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern position detector and a pattern position detecting method for rapidly detecting the position of a predetermined pattern included in a two-dimensional code or the like while improving accuracy in detecting the pattern position. 2次元コードなどに含まれる所定パターンの位置の検出精度を向上させつつ、高速に当該位置を検出することができるパターン位置検出装置及びパターン位置検出方法を提供する。 - 特許庁
The accuracy defect of the drawing is prevented from affecting the stitching of the pattern transfer by surely avoiding the coincidence of the places where the accuracy of the mask drawing is poor with the places of the stitching of the pattern transfer. マスク描画の精度の悪い場所とパターン転写のつなぎの場所を確実に一致させないようにして、描画の精度不良がパターン転写のつなぎに影響を与えないようにする。 - 特許庁
To produce a decorative sheet by forming a pattern to the rear surface of a transparent base sheet having an embossed pattern formed on the surface thereof with good dimensional accuracy. 透明で表側に凹凸模様が賦形された基材シートの裏側に、寸法精度良く絵柄模様を形成して化粧シートとする。 - 特許庁
To provide a mask for charged particle exposure in which inner stress generating in a mask pattern formation region can be decreased and a mask pattern can be formed with high accuracy. マスクパターン形成領域に生じる内部応力を減少させ、マスクパターンを高精度にできる荷電粒子露光用マスクを提供する。 - 特許庁
To provide a pattern recognition device not causing deterioration of accuracy of pattern recognition with a small similarity calculation amount. 本発明は、少ない類似度演算量でパターン認識の精度を悪化させることのないパターン認識装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a supercritical development method capable of controlling the size of a pattern with high accuracy without causing a fall of the pattern in the development using a supercritical fluid. 超臨界流体を用いた現像において、パターンの倒れなどが発生することなく、かつ、精度良く寸法を制御できるようにする。 - 特許庁
To correct a mask pattern with high accuracy with respect to an etching proximity effect so that a wiring pattern having a desired dimensions is formed on a substrate. 所望の寸法を持つ配線パターンが基板上に形成されるように、エッチング近接効果に対して精度良くマスクパターンの補正を行う。 - 特許庁
To improve the accuracy of servo pattern signal writing at an STW (Servo Track Writer), and to write a servo pattern without increasing the STW time. STWでのサーボパターン信号の書き込み精度を向上させ、且つSTW時間の増加を与えないサーボパターンを書き込むこと。 - 特許庁
To correct only fixed pattern noise with high accuracy without deteriorating the original signal characteristics of an image sensor, to an image signal having fixed pattern noise. 固定パタンノイズを有する画像信号に対し、イメージセンサの本来の信号特性は損なわずに固定パタンノイズのみを高精度に補正すること。 - 特許庁
To draw a fine pattern such a hard disk pattern on an entire substrate surface with high accuracy in a short time by simple control. ハードディスクパターン等の微細パターンの描画が、簡易な制御により基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に描画可能とする。 - 特許庁
To provide a failure pattern estimation method capable of estimating a failure pattern that is likely to occur in a vehicle, with high accuracy. 車両に発生している可能性の高い故障パターンを、高い精度で推定することができる故障パターン推定方法を提供する。 - 特許庁
To provide a low-cost manufacturing method of a magnetic recording medium having high throughput in fine pattern formation and free from deterioration of pattern size accuracy. 微細パタン形成におけるスループットが高く、製造コストが安価で、パタンサイズ精度劣化がない磁気記録媒体の作成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern matching method and device for fast performing pattern matching processing with high accuracy and to provide a recording medium on which a program is recorded. 高速かつ高精度にパターンマッチング処理を行うパターンマッチング方法およびその装置、並びにプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁
To perform efficient positioning while preventing reduction in accuracy when adjusting the position of a pattern, which is caused by blur and position variation of pattern images. パターン画像のぼやけや位置ばらつきを原因とするパターンの位置調整の精度低下を防止しつつ効率な位置決めを可能とする。 - 特許庁
To form a pattern to be measured with only one exposure and to make good accuracy measurement, even if the fully occupying area of the pattern for measurement is reduced. 1度の露光で被測定用パターンを形成し、且つ測定用パターンの占有面積を小さくしても精度良い測定を行い得る。 - 特許庁
To provide a method for forming a pattern which is capable of forming an objective pattern with good shape accuracy only by the adaption of a coating/printing method. 塗布印刷法の適応のみによって形状精度良好に目的パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a method for projecting a charged-particle beam for exposure, which can expose only an arbitrary pattern region to improve the throughput and pattern transfer accuracy. 任意のパターン領域のみを露光でき、スループットやパターン転写精度を向上できる荷電粒子線投影露光方法を提供する。 - 特許庁
To pattern a shape at a good accuracy for processing when a micro hole pattern like a contact hole in a semiconductor integrated circuit is formed. 半導体集積回路におけるコンタクトホールのような微細穴パターンを形成する場合に、形状を精度良くパターニングし且つ加工すること。 - 特許庁
To form a high-accuracy pattern so that a residual film of a photosensitive material may not be generated on a joint of the pattern on a boundary line of a scanning band. 走査バンドの境界線上におけるパターンのつなぎ目に感光材料の残膜が生じないように、高精度のパターンを形成する。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus capable of transferring an image of a pattern laid on a mask onto a photosensitive substrate with high accuracy over the entire area of the pattern. マスクに設けられたパターンの像をパターン全域にわたって高精度に感光基板に転写することができる露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a color pattern which can reduce the exposure time, which is easy with excellent productivity, and which gives excellent patternaccuracy. 露光時間を短縮することができて簡便で生産性に優れ、しかもパターン精度に優れた着色パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an exposure mask by which a mask pattern with high dimensional accuracy can be formed without depending on the layout of the design pattern. 設計パターンのレイアウトによらずに寸法精度の良好なマスクパターンを形成することが可能な露光マスクの作製方法を提供する。 - 特許庁
To improve a device in reliability by holding a pattern high in accuracy by not performing complementary division of a device pattern that requires high accuracy, and to enable a complementary divided pattern to be introduced into a complementary division inhibiting region if necessary. 高い精度が要求されるデバイスパターンの相補分割を行わないことにより、パターンを高精度に保持してデバイスの信頼性を向上させると共に、必要とあれば相補分割禁止領域にも相補分割パターンの導入を可能にすること。 - 特許庁
To provide a patterning method capable of accurately forming a drawing pattern with a desired shape, especially a thick-film and fine-line pattern, while reducing a tact time (the number of processes) and not requiring a pattern forming device with high drawing accuracy. タクトタイム(工程数)を低減し、かつ描画精度が高いパターン形成装置を必要とせずに、所望する形状の描画パターン、特に厚膜細線パターンが精度よく形成する。 - 特許庁
To provide a method for drawing a pattern by which repeated patterns can be drawn without causing pattern abnormality, and also to provide a method for manufacturing a photomask and a photomask, wherein high accuracy of pattern drawing is attained. パターン異常を生じさせずに繰り返しパターンが描画できるパターン描画方法及びフォトマスク製造方法、並びにフォトマスクを得、パターン描画の精度向上を図る。 - 特許庁
To provide a rotary creel of a partial warper for pattern warps, enhanced in measurement accuracy, to provide a pattern warper for pattern warps, and to provide a method for measuring bobbin diameters. 測定精度を高めた柄経糸用部分整経機の回転式クリール、柄経糸用部分整経機、およびボビン直径を測定するための方法を提供することを目的とする。 - 特許庁