「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 .... 19 20 21 22 23 24 25 26 27 .... 35 36 次へ＞- To provide a duplicate plate which permits the execution of high-accuracy duplication with a resin plate used for duplication of a rugged pattern, is provided with high printing resistance, and has a good adhesion property to a substrate, a method for manufacturing the same for manufacturing the duplicate plate and a method for duplicating the rugged pattern.
凹凸パターンの複製に用いられる樹脂版において、高精度複製が可能であり高耐刷性を備え、基材との密着性が良好な複製版、上記複製版の製造方法、および凹凸パターンの複製方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a verification apparatus for the accuracy of proximity effect correction, the apparatus which can easily decide whether a circuit pattern on a wafer exposed, by using a photomask manufactured by a circuit pattern subjected to proximity effect correction exhibits a prescribed effect.
近接効果補正を行なった回路パターンによって製造されるフォトマスクを用いて露光させたウェハ上の回路パターンが、所定の効果を発揮するか否かを簡便に判定することができる、近接効果補正精度検証装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a circuit-pattern forming method and a circuit board obtained by this method whereby the forming of a circuit pattern on a wiring board can be performed at a high speed, a high accuracy, and a low cost when manufacturing IC chips and miscellaneous printed boards.
ＩＣチップや各種プリント基板を製造するにあたり、配線板上への回路パターンの形成を、高速、高精度で、かつ、低コストで行うことができる回路パターンの形成方法およびこれにより得られる回路基板を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for manufacturing a phase shifting mask in which dislocation of a resist pattern due to the waveguide effect of a Levenson phase shifting mask is suppressed and high alignment accuracy can be attained and to provide a method therefor and a pattern forming method.
レベンソン位相シフトマスクの導波路効果に起因するレジストパターンの位置ずれの発生を抑制し、高度の位置合わせ精度を達成することが可能な位相シフトマスクの作製装置及び作製方法並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a photosensitive transfer film for a plasma display panel capable of forming a pattern through at least transfer, exposure, development and baking steps, capable of easily forming a pattern having high dimensional accuracy and excellent in adhesion to a substrate.
少なくとも転写、露光、現像、焼成の各工程を経て、パターンを形成することができ、簡便に寸法精度の高いパターンを形成することができ、基板への密着性に優れたプラズマディスプレイパネル用感光性転写フィルムを提供すること。 - 特許庁 - Thus, a perpendicular magnetic recording head is provided, which is capable of suppressing the occurrence of fringing on a recording pattern, forming the main magnetic pole layer with high pattern accuracy, and properly guiding a recording magnetic field to the tip of the main magnetic pole layer.
これにより記録パターンにフリンジングが発生するのを抑制でき、さらに主磁極層をパターン精度良く形成でき、また前記主磁極層の先端に適切に記録磁界を導くことが可能な垂直磁気記録ヘッドを提供できる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a pattern particularly having a small critical dimension with high accuracy, since roughness on edges of a photoresist or enlargement of a resist aperture during etching results in unevenness of a pattern in a method for manufacturing a photomask using a hard mask.
ハードマスクを使用するフォトマスクの製作方法において、フォトレジストの縁の荒さやエッチング中のレジスト開口の拡大が、パターンの不均一性をもたらすため、特に臨界寸歩の小さいパターンを高精度に製造する製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a device for correcting a defect of a reticle pattern and a correction method by which correction accuracy of a defective pattern of a reticle is improved, the efficiency is improved to reduce a correction time, and productivity is increased as well as the cost can be reduced.
レチクルの欠陥パターンの修正精度を向上し、効率を向上させて修正時間の短縮を図り、生産性を向上させるとともにコスト低減を図れるレチクルパターンの欠陥修正装置および修正方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a screen printing plate which reduces a blur defect or a thin-spot defect in an edge portion of a printed pattern and forms the printed pattern having a high dimensional accuracy and little nonuniformity in the area, and a manufacturing method of an electronic component.
印刷パターンのエッジ部分におけるにじみ不良やかすれ不良の発生を抑制し、寸法精度が高く面積ばらつきの少ない印刷パターンを形成することができるスクリーン印刷版及び電子部品の製造方法を得る。 - 特許庁 - The pattern-forming material delivered from the delivery part 42 is made a semi-cured state by the curing part 43, and then, a part of the top face and the side faces are shaped to form a partitioning pattern with a high accuracy in shape of the top face and the side faces.
吐出部４２から吐出されたパターン形成材料は、硬化部４３により半硬化状態とされた後に凹部により上面および側面の一部が整形され、上面および側面形状の精度の高い隔壁パターンが形成される。 - 特許庁 - To detect a position of an alignment mark on a mask and a position of an alignment mark in a base pattern of a substrate with high accuracy by acquiring sharp images of the alignment mark on the mask and of the alignment mark in the base pattern of the substrate and carrying out an image recognition process.
マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。 - 特許庁 - To allow a disconnection/short circuiting of an adjacent pattern from first formed circuit board to be verified, without depending a verifying accuracy on the probing position to a pattern end point and without collecting non- defective product data to be previous decision reference.
パターン端点に対するプロービング位置によって検査精度が左右されることがなく、また、予め判定基準となる良品データを収集することなく、作成された回路基板の１枚目から隣接パターンの断線・短絡検査を可能とする。 - 特許庁 - To provide a bipedal robot consisting of a simultaneous designing of the motion pattern and the mechanical designing to serve for shortening of the designing time and enhancement of the design accuracy and equipped with a neural network for producing the motion pattern of three-dimensional components for performing the bipedal walk.
設計時間の短縮と設計精度の向上に役立つ運動パターンと機構設計とが同時に設計され、二足歩行をするための立体部品の運動パターンを生成するためにニューラルネットワークを備えた、二足歩行ロボットを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming pattern using a chemically amplified resist by which formation of a surface insoluble layer is prevented without reducing thickness of a resist layer and the profile and dimensional accuracy of the resist pattern can be improved.
化学増幅型レジストを用いたパターン形成方法において、レジスト層を膜減りさせずに表面難溶化層の形成を防止し、レジストパターン形状及び寸法精度を向上させることのできるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a means of forming a fine pattern with high accuracy while suppressing generation of an electric field without degrading the resolution of a resist on forming a pattern by irradiating a substrate having discontinuous electric conductivity with a charged particle beam.
電気的導通が不連続な被加工基板に対し、荷電粒子線を照射してパターン形成を行う場合、電界の発生を抑止しつつ、かつ、レジストの解像性を損なうことなく、微細なパターンを精度よく形成する手段を提供する。 - 特許庁 - To overcome the problem that detecting accuracy as a whole is deteriorated by being affected by the worse detecting accuracy on the staining of a sensor and the staining of ground because of merely using the mean value of output from two sensors as the result of the detection of a test pattern for controlling density in the conventional density control.
従来の濃度制御においては単に２つのセンサ出力の平均値を濃度制御用のテストパターンの検知結果としていたため、センサ汚れ、下地汚れの悪い方の検知精度に引きずられ、全体の検知精度が悪化してしまう。 - 特許庁 - To decrease or eliminate striae in a glass substrate for a mask blank or adverse influences by reflection on the back surface, to measure a roughness pattern of the objective surface of a glass substrate with high accuracy, and to control flatness with extremely high accuracy based on the measurement result to achieve high flatness.
マスクブランクス用ガラス基板の脈理や裏面の反射による悪影響を低減又は除去して、ガラス基板の被測定面の凹凸形状を精度よく測定し、この測定結果にもとづいて、極めて高精度に平坦度を制御し、高平坦度を実現する。 - 特許庁 - To provide a mask image forming a high-density, fine circuit pattern and conducting a more accurate etching so as to be able to allow a connecting terminal location accuracy as much as possible.
本発明は、高密度高精細な回路パターンを形成し、接続端子の位置精度をできるかぎり許容できるように、より正確なエッチングを行えるマスク画像の提供を目的とする。 - 特許庁 - To provide a method to decide an efficient repetitive pattern for improving measurement accuracy, in a combination with an actual printer that executes calibration or profile preparation and a measurement machine.
キャリブレーションまたはプロファイル作成を実施する実際のプリンタと測定機の組合せにおいて、測定精度を向上するための効率の良い繰返しパターン決定の方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an inspection method for an electro-optical device which enhances inspection accuracy in its inspection, even when an inspection object region having a repetitive pattern is detected with high magnification.
電気光学装置の検査において繰り返しパターンを有する検査対象領域が高倍率で検出される場合でも検査精度を上げることのできる検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a transfer apparatus which can improve transfer efficiency and, at the same time, can realize high-accuracy pattern formation and can suppress the thermal deformation of a transferred product.
転写能率を向上することができるとともにパターンの形成を精度よく行うことができ、製品の熱による変形を抑制することができる転写装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a package for photoelectric elements for forming a wiring pattern with high dimension accuracy, low dust generation properties, and low costs when mounting a photoelectric element such as a photosensor, and to provide the manufacturing method of the package.
光センサ等の光電素子を搭載する際、高い寸法精度、低発塵性、低コストで配線パターンを形成できる光電素子用パッケージおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an inorganic particle-containing photosensitive composition capable of forming a high-accuracy pattern, excellent in thermal decomposability of organic components, and less liable to shrink after baking.
精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ない無機粒子含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for positioning multiwire wiring board, in which wires being laid on the surface and rear of a substrate can be aligned with high accuracy, even if the inner layer pattern is deviated on the surface and rear.
内層パターンに表裏ずれが発生しても高精度に基板表裏の布線ワイヤ位置合わせすることが可能なマルチワイヤ配線板の位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a heat treatment method wherein a substrate with a resist film formed thereon is so heat-treated as to realize a circuit pattern excellent in geometric accuracy, and to provide a heat treatment apparatus.
形状精度に優れた回路パターンが得られるようにレジスト塗布膜が形成された基板を熱的に処理する熱的処理方法および熱的処理装置を提供する。 - 特許庁 - The face identifying part 102 utilizes a partial space stretched in a space defined by nonlinear transformation with efficient learning to identify a face pattern with high accuracy.
この顔識別部１０２においては、非線形変換で定義される空間内に効率良い学習により張られた部分空間を利用して、顔パターンの識別を高精度に行う。 - 特許庁 - To provide an exposure apparatus which can transfer a pattern with a proper accuracy by suppressing environmental changes even if a liquid outflows to the outside of a substrate when exposure processing is performed using a liquid immersion method.
液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。 - 特許庁 - To prevent a lowering in the accuracy of pattern observation or inspection on the basis of information signals from a target via the irradiation of each charged particle beam, and an electron beam property measurement or the like.
各荷電粒子ビーム照射によるターゲットからの情報信号に基づくパターン観察やパターン検査、あるいは電子ビーム性状測定などの精度が低下を防止する。 - 特許庁 - To obtain an electronic image pickup unit that automatically adjusts a focus at high speed with high accuracy by detecting a focus error corresponding to a plurality of lens positions from an image signal of one pattern.
１画面の画像信号から複数のレンズ位置に対応した焦点誤差を検出することで高速かつ高精度の自動焦点調節を行う電子的撮像装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for correcting optical proximity effect and an apparatus therefor for carrying out optical proximity effect correction in a layout design pattern having a minute level difference without degrading the accuracy.
微小段差を有するレイアウト設計パターンについて精度を劣化させることなく光近接効果補正を行える光近接効果補正方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - Further, no suction hole or the like is required in the exposure conveying board 13 and the accuracy of the exposure pattern can be improved regardless to the process state of the insulating plate 12 with a resist.
さらには、露光用搬送板１３に吸気孔等を設ける必要もなく、レジスト付絶縁板１２の加工状態によらずに露光パターンの精度向上を実現できる。 - 特許庁 - To provide a method for stably forming a resin film having a constant thickness upon forming a resin film, and to provide a method for forming a pattern with high accuracy by using the resin film.
樹脂膜を形成する際、一定の厚さの樹脂膜が安定的に形成される方法、さらに、この樹脂膜を用いて精度の高いパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide the structure of an optical waveguide substrate having cores in a fine pattern which hardly cause decrease in transfer accuracy during forming the cores due to thermal expansion and a method of manufacturing the optical waveguide substrate.
コア成形時に熱膨張に起因する転写精度の低下を生じることのない、微細パターンのコアを有する光導波路基板の構成及び製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a slitter having a mechanism capable of controlling a lateral position at the downstream, of a slit part with high accuracy, for properly adjusting the relative positions of printed pattern and an edge.
スリット部の下流において左右方向の位置を高精度に制御することができ、印刷絵柄とエッジとの相対的位置を適正とする機構を有するスリッターを提供する。 - 特許庁 - To provide a wiring board which enables an optical reader to recognize the position of a conductor pattern representing the reference position of its board body with higher accuracy and to provide its manufacturing method.
基板本体の基準位置を表す導体パターンに対する光学読取装置での位置認識精度を高めることが可能な配線基板および、その製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a grayscale mask or the like for forming an optical element having a three-dimensional fine structure such as a microlens, in particular, an optical element having a pattern of a high aspect ratio with high accuracy.
マイクロレンズ等の三次元微細構造を有する光学素子、特に、高いアスペクト比の形状を備える光学素子を高い精度で形成するためのグレイスケールマスク等を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in contrast, capable of forming a fine resist pattern with a high degree of accuracy and excellent also in transparency to a radiation, sensitivity and resolution.
特に、コントラストが優れ、微細なレジストパターンを高精度に形成でき、しかも放射線に対する透明性、感度、解像度等にも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a circuit board, capable of forming a pattern formed on a substrate at a target position with accuracy while heating the substrate, and to provide the circuit board.
基板を加熱しながら基板上に形成されるパターンを目的の位置に精度良く形成することが可能となる回路基板形成方法及び回路基板を提供する。 - 特許庁 - After finishing exposure, displacement between the mark M_ijk and the detection pattern m_ijk (ΔX_ijk, ΔY_ijk) is detected, and calibration information to correct stage driving accuracy is prepared by the detected result.
露光終了後、マーク検出系を用いて、マークＭ_ijkと検出パターンｍ_ijkの位置ずれ（ΔＸ_ijk，ΔＹ_ijk）を検出し、その検出結果より、ステージ駆動精度を補正する較正情報を作成する。 - 特許庁 - To provide a calibration plate that easily enhances a contrast of light and darkness of a picked-up pattern image and achieves high-accuracy calibration in positional dimension measurement in an image processing.
撮像したパターン画像の明暗のコントラストを簡易に高め、画像処理における位置寸法測定で高精度な較正を図ることを可能とするキャリブレーションプレートを提供する。 - 特許庁 - Consequently, regarding the partial region, the overlap accuracy of the pattern of the mask can be enhanced easily as compared with a case in which the distribution of the image is adjusted regarding the effective exposure field as a whole.
従って、その一部の領域部分については、有効露光フィールドの全体について像歪みを調整する場合に比べて、重ね合せ精度を容易に向上させることができる。 - 特許庁 - To provide the same plane right-angle bending waveguide which is disposed intersecting a core pattern and whose groove to compose a light reflecting surface has high dimensional accuracy, and the manufacturing method thereof.
コアパターンと交差して設けられ、かつ、光反射面を構成する溝の、寸法精度が良好な同一面直角曲げ導波路及びその製造方法を提供するものである。 - 特許庁 - To quickly change the width of a spray pattern and the thickness of a coating material without bringing about complexity of a system and the like, thereby suppressing the generation of defects in coating and improving accuracy in coating and the like.
装置の複雑化等を招くことなく、スプレーパターンの幅や塗料の厚さを素早く変更することができ、ひいては塗装不良の発生抑制や塗装精度の向上等を図る。 - 特許庁 - To provide an image information detecting apparatus that is insensitive to accuracy in detecting position of a pattern for arrangement error of a component or arrangement error of the image information detecting apparatus itself.
構成素子の配置誤差や画像情報検出装置自体の配置誤差に対して、パターンの検出位置精度が鈍感となる画像情報検出装置を提供すること。 - 特許庁 - The electron gun, when used for a multi-column electron beam exposure device, actualizes lower energy and higher vacuum, resulting in a smaller-size and lower-power high voltage power supply circuit and a higher-accuracy exposure pattern.
本電子銃をマルチコラム電子ビーム露光装置に用いると、低エネルギー化と高真空度化、高圧電源回路の小型化・低電力化ができ、露光パターンの高精度化ができる。 - 特許庁 - To provide a photomask manufacturing method and a charged particle beam lithography system, which suppress a reduction in pattern dimensional accuracy by absorption of an amine compound of a resist film in blanks.
ブランクスにおけるレジスト膜のアミン性化合物の吸着によるパターン寸法精度の低下を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a photoelectric composite substrate capable of constituting an optical waveguide by forming a core layer on a wiring substrate equipped with a connection pad with sufficient pattern accuracy.
接続パッドを備えた配線基板の上にコア層を十分なパターン精度で形成して光導波路を構成できる光電気複合基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask pattern forming method capable of increasing symmetry of the shape of a sidewall and improving processing accuracy when etching a target etching film, in SWP.
ＳＷＰにおいて、側壁部の形状の対称性を高め、被エッチング膜をエッチングするときの加工精度を向上させることができるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - A signal having a change equal to or more than a fixed level in a waveform is extracted by carrying out the simulation of low accuracy while using a test pattern prepared in accordance with a function being a simulation object.
シミュレーション対象とする機能に応じて作成したテストパターンを用いて低精度のシミュレーションを実行し、波形に一定以上の変化がある信号を抽出する。 - 特許庁 - After an epitaxial growth process is carried out, line widths Dx and Dy become nearly equal to each other or approximate Dx=Dy, and the sensitivity difference becomes small when the pattern is detected, so that alignment operation can be improved in alignment accuracy.
エピタキシャル成長後の線幅は、（ｂ）に示すように、ＤＸ＝ＤＹに近くなり、パターン検出の際の感度の違いが小さくなり、位置合せの精度を向上させることができる。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
