「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 .... 23 24 25 26 27 28 29 30 31 .... 35 36 次へ＞- To provide an optical waveguide structure equipped with an optical waveguide having wide degree of freedom of design of pattern configuration and capable of forming a core part (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method.
パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁 - To realize etching characteristics with high accuracy by suppressing the etching amount of a resist by reducing the quantity of oxygen emitted from an etching chamber member into plasma, and making a pattern sidewall protective film thin.
エッチングチャンバ構成部材からプラズマ中に放出される酸素の量を低減してレジストのエッチング量を抑え、パターン側壁保護膜の薄膜化を図り、より高精度なエッチング性能を実現する。 - 特許庁 - The correcting device performs OPC of matching finished dimension by simulation within a movable range of a correcting object edge in which the process margin is secured and predicts a finished layout pattern at high speed and with high accuracy.
この補正装置は、プロセスマージンを確保できる補正対象エッジの移動可能範囲内で、シミュレーションにより仕上がり寸法合わせのＯＰＣを行い、仕上がりレイアウトパターンを高速、高精度で予測する。 - 特許庁 - To provide an optical disk cartridge which does not require processing accuracy of a diffraction grating when a pattern such as characters, figures or the like is to be displayed by diffracted light by a diffraction grating formed in the shell of an optical disk.
光ディスクのシェルに形成された回折格子による回折光によって文字、図形等のパターンを表示する際に、回折格子の加工精度を必要としない光ディスクカートリッジを提供する。 - 特許庁 - By aligning an extending direction of a stripe pattern on the mask M to the direction where the viewing angle α of the incident light is large, illuminance can be increased while keeping preferable exposure accuracy.
マスクＭのストライプパターンの伸びる方向と、入射する光の視角αが大きい方向とを一致させることにより、良好な露光精度を維持した状態で、照度を大きくすることができる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing display device and a manufacturing device therefor by which a display device having high pattern accuracy all over the display region can be efficiently manufactured in a process with a short lead time.
ディスプレイ領域の全域にわたってパターン精度が高いディスプレイ装置を、リードタイムの短いプロセスで効率よく製造するディスプレイ装置の製造方法とその製造装置を提供すること。 - 特許庁 - To solve the problem, wherein worsening of the measurement accuracy of a speckle pattern of the surface of a body to be detected which should originally be observed occurs, caused by a mixing of lights reflected by the back surface of the body to be detected as noise.
本来観測すべき被検出体表面のスペックルパターンに対して、被検出体背面にて反射した光がノイズとして混入することに起因し、測定精度の悪化が生じる。 - 特許庁 - To provide an optical waveguide structure with an optical waveguide in which the freedom of designing a pattern form is large and a core part (optical path) having a high dimensional accuracy is formed by a simple method.
パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁 - To improve a drawing accuracy of a paste pattern by eliminating the positioning deviation of each nozzle even when the positioning deviation of the discharge ports of a plurality of nozzles occurs with the exchange and the attachment and detachment of the nozzles.
複数のノズルの吐出口の位置がそれらのノズルの交換、着脱に伴い位置ずれを生じても、各ノズルのこの位置ずれを解消し、ペーストパターンの描画精度を向上すること。 - 特許庁 - To provide a position detecting apparatus and its method having high accuracy by compensating for a pattern position detected from information of dislocation caused by an aberration in an optical system or an error in manufacturing.
光学系の収差、製造誤差等に起因する位置ずれ情報に基づいて検出されたパターン位置を補正し、高精度にパターン位置を検出できる装置及び方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a pattern forming body with which coating liquid for forming a functional element can be applied with accuracy even in case the nozzle discharge method is used.
本発明は、ノズル吐出法を用いた場合でも、精度良く機能性素子形成用塗工液を塗布することが可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - To provide a compound substrate which is affixed with a piezoelectric substrate and a support substrate to each other via an organic adhesive layer, and a formation method which allows the formation of a desired metal pattern with high accuracy by using lift-off processing.
圧電基板と支持基板とを有機接着層を介して貼り合わせた複合基板と、リフトオフ加工を用いて精度よく所望の金属パターンを形成できるようにする形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a transfer sheet in which a pattern caused by transfer can be formed with satisfactory shape accuracy without a layer including a photocatalyst being left on a device substrate side, and to provide a method of manufacturing the transfer sheet.
光触媒を含む層を装置基板側に残さずに形状精度良好に転写によるパターンを形成することが可能な転写シート、および転写シートの作製方法を提供する。 - 特許庁 - To attain high-accuracy individual authentication by using an unclear and misaligned finger vein pattern image in an individual authentication in a non-contact manner.
本発明の目的は、非接触性の求められる環境下での個人認証に関し、不鮮明で位置ずれのある指静脈パターン画像を利用しながらも、高精度な個人認証を実現することである。 - 特許庁 - To control an exposing head through adjustment to draw a pattern with higher accuracy on a recording surface in scanning and exposing with a multi-beam emitted from a means for selectively turning ON/OFF a plurality of pixels.
複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から出射されたマルチビームで走査露光する際に、記録面上に高精度で描画をするように露光ヘッドを調整して制御可能とする。 - 特許庁 - To draw a long element corresponding to two-bit signal length of a microscopic pattern formed on a magnetic disk medium without making a gap in the central part with high accuracy and at high speed.
磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの２ビット信号長に対応する長エレメントを中央に隙間が生じることなく所定の描画長に、高精度かつ高速に描画可能とする。 - 特許庁 - Accordingly, the positional accuracy of the circuit element can be improved, by checking the allocating position using the recognition pattern different from that used for arrangement and then feeding back such positional information.
従って、配置に使用する認識パターンとは異なる認識パターン用いて配置位置を確認し、その位置情報をフィードバックすることにより、回路素子の位置精度を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide an automatic mask loading device prior to thin film pattern deposition in which a mask is surely taken out sheet by sheet from a mask pallet to perform mask alignment with high accuracy.
薄膜のパターン成膜に先立って、マスクを基板に自動装着する装置において、マスク収納パレットより１枚ずつ確実にマスクを取り出し、高精度に位置合わせして基板に装着する。 - 特許庁 - Possibility of causing even a small error in the dimension of the gate electrode due to an effect of double exposure an thereby be prevented and high accuracy can be sustained in the mask pattern with regard to the gate electrode.
２重露光の影響を受けてゲート電極の寸法に僅かであっても誤差を生ずる虞を未然に防止することができ、ゲート電極に関するマスクパターンには高精度を維持させることができる。 - 特許庁 - Since the detection area on the substrate 11 is enlarged, dependence of a pattern and dispersion of etching rate on in-plane irregularities of film quality and film thickness can be averaged, and final point detection accuracy can be improved.
基板11上での検出面積を拡大したので、パターンの依存性や、膜質や膜厚の面内不均一によるエッチングレートのばらつきを平均化でき、終点検出精度を向上できる。 - 特許庁 - To provide a laser marking method for textured yarn capable of definitely and continuously forming a fine marking pattern in a microregion of the textured yarn following easily positioning it in high accuracy, and to provide an apparatus for the method.
被加工糸を高精度で容易に位置決めして、微小領域に微細なマーキングパターンを明確にかつ連続して形成することができる被加工糸のレーザマーキング方法および装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an overlay mark for overlay inspection having a pattern capable of performing defect inspection with favorable accuracy not obtained in a prior art in a defect inspection apparatus in a manufacturing process of a semiconductor device.
半導体デバイスの製造過程の欠陥検査装置において従来にはない精度の良い欠陥検査を実現することできるパターンを有するオーバーレイ検査用のオーバーレイマークを提供する。 - 特許庁 - To provide a photoelectric conversion device capable of detecting, even a subject having a minute pattern and has high accuracy for focus detection and has responsiveness and improved low luminance-limiting performance.
微細なパターンを有する被写体も検出可能であると共に、焦点検出精度が高くかつ応答性、低輝度限界性能も向上させた光電変換装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an alkali-developable photosensitive resin composition having heat resistance and exhibiting good pattern forming accuracy by a photographic process when a resin layer is formed, and also to provide a solder resist using the same.
樹脂層を形成した際に、耐熱性を有し、写真法によりパターン形成精度が良好で、しかも、アルカリによる現像が可能な感光性樹脂組成物およびそれを用いたソルダーレジストを提供する。 - 特許庁 - Thus, the sewing can be performed by mixing the automatic switching mode and the manual switching mode with respect to one sewing pattern, and the sewing operations can be efficiently performed with accuracy.
従って、一つの縫製パターンに対して自動切替えモードと手動切替えモードを混在させて縫製を行なうことが可能となり、縫製作業を正確かつ効率的に行なうことが可能となる。 - 特許庁 - To provide a pattern forming device for display panel in which manufacturing process is simplified and utilization efficiency of the material can be improved while raising the manufacturing accuracy, and a manufacturing method of the display panel.
工程を単純化するとともに、加工精度を高めつつ材料の利用効率を向上することのできるディスプレイパネル用パターン形成装置およびディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a conductive fine pattern of superior electrical conductivity at a low cost with high accuracy, without using an electroless plating process.
優れた導電性を備えた微細なパターンを高い精度でもって、しかも無電解めっきの工程を経ることなく、低コストで形成することのできる導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an alkali-developable resin composition giving an alkali-developable photosensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, transparency, an adhesion property, alkali resistance and so on, and which forms a fine pattern with excellent accuracy.
感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を与えるアルカリ現像性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a curable composition for nanoimprint, which has efficient curability and excellent stability in storage with a lapse of time, especially excellent stability in storage with a lapse of time in a viewpoint of suppressing reduction in pattern accuracy after curing.
硬化性が良好であり、経時保存安定性に優れ、特に硬化後のパターン精度低下抑制の観点で経時保存安定性に優れたナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - To generate a pattern capable of narrowing down the scope of influence with high accuracy by considering the contents of the original change, because changes of the same kind often have different change parameters.
変更種別は同一であっても変更パラメータが異なることが多々あるため、元の変更内容を考慮することによって影響範囲を精度良く絞り込むことができるパターンを生成することにある。 - 特許庁 - To provide a resist composition which can prevent production of a defect in a substrate even when the resist film is made thinner in forming a fine pattern of a semiconductor substrate or the like and by which high accuracy processing of a substrate is performed.
半導体基板等の微細パタン形成において、レジスト膜の薄膜化を一層進めても、基板の欠陥形成を防止でき、高精度に基板加工できるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a character recognition pattern dictionary preparing device of which the accuracy of recognition will not be lowered, even when a feature vector to be used for selecting a feature amount is not suitable for character recognition.
特徴量選択を行なう際に用いられる特徴ベクトルが文字認識に適切でない場合であっても認識精度が低下しないような文字認識パターン辞書作成装置を提供する。 - 特許庁 - To realize high-accuracy personal identification under environment requiring a non-contact property, even though using an unclear finger vein pattern image with positional shift.
本発明の目的は、非接触性の求められる環境下での個人認証に関し、不鮮明で位置ずれのある指静脈パターン画像を利用しながらも、高精度な個人認証を実現することである。 - 特許庁 - Thereby, even when the distance A of the intermittent shift of the irradiation region group is slightly misaligned, the gap between stripes 71, 72 is properly irradiated with light and the pattern with high accuracy can be drawn at high speed.
これにより、光照射領域群の間欠移動距離Ａが微少にずれた場合であっても、ストライプ７１，７２間に光が適切に照射され、高精度なパターンを高速に描画することができる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive film for forming circuits, which is reduced in its manufacturing cost and is improved in its resolution and pattern accuracy and the yield of printed-wiring boards and a method for manufacturing printed- wiring boards.
製造コストを抑えると共に、解像度、パターン精度及びプリント配線板の製造歩留まりを向上させた回路形成用感光性フィルム及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus, a color shift correction method and a program that maintain color shift correction accuracy to execute a color shift correction, even when an entire pattern length region cannot be secured on an image carrier due to the existence of a noise source on the image carrier.
像担持体上にノイズ源が存在することにより像担持体上にパターン全長の領域が確保できない場合でも色ずれ補正の精度を維持して色ずれ補正を実行すること。 - 特許庁 - To improve performance such as an exposure accuracy, throughput, etc. by correcting a deviation of at least one of the position and the shape of a mirror in an aligner for transferring a pattern to a substrate by a mirror optical system.
ミラー光学系により基板にパターンを転写する露光装置において、ミラーの位置及び形状の少なくとも一方のずれを補正し、これにより露光精度及びスループット等の性能を改善する。 - 特許庁 - To provide a film deposition apparatus and a film deposition method which, when a substrate is pressed to a mask, cause little positional deviation between the substrate and the mask in a direction of planes thereof, then, form an image pattern of satisfactory dimensional accuracy.
基板をマスクに押圧する際、基板とマスクの面方向の位置ずれが少なく、寸法精度の良好な画像パターンを形成することのできる成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a plotting method of plotting a fine pattern with high accuracy in a resist layer, a method of manufacturing a master using the plotting method, a method of manufacturing a stamper, and a method of manufacturing an information recording disk.
微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming an electrode pattern capable of flattening the surface of a laminated electronic part and capable of forming a conductor layer with an excellent accuracy, a manufacturing method for the laminated electronic part and the laminated electronic part.
積層電子部品の表面を平坦にでき、かつ、導体層を精度良く形成できる電極パターンの形成方法、積層電子部品の製造方法及び積層電子部品を提供する。 - 特許庁 - To provide a structure of a two-layer resist for obtaining a half exposure pattern with high sensitivity and high accuracy, and to provide a manufacturing method of a display apparatus provided with thin film transistors formed by using the two-layer resist.
高感度、高精度のハーフ露光パターンを得るための二層レジストの構造と、この二層レジストを用いて形成した薄膜トランジスタを具備した表示装置の製造方法を実現する。 - 特許庁 - To perform correlation operation, even when the minimum line width of an ABS pattern is not an integral multiple of an array interval of an ABS light-receiving element array, and enables measurement of moving distance, with high accuracy.
ＡＢＳパターンの最小線幅がＡＢＳ受光素子アレイのアレイ間隔の整数倍となっていない場合でも、相関演算を行うことができ、高精度に移動距離を計測可能とする。 - 特許庁 - To obtain a method of bonding electronic components and a substrate, using a conductive adhesive whereby even in a fine pattern severe in accuracy requirements the electric insulation can be easily and reliably maintained.
精度要求の厳しい微細なパターンでも容易かつ確実に電極間の電気絶縁性を保つことができる、導電性接着剤を用いた電子部品と基板との接合方法を提供する。 - 特許庁 - To form a pattern having a high line width accuracy by promoting chemical amplification of a resist at the time of heat-treating a substrate which is applied with the chemically-amplified resist and is exposed.
化学増幅型のレジストが塗布され露光された基板を加熱処理するにあたり、レジストの化学増幅反応を促進させて線幅精度の高いパターンを形成できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a stencil mask and a mask blank therefor by which the stencil mask with appropriate pattern position accuracy can be obtained without curving or peeling of a thin film, and to provide a method for manufacturing them.
反りや薄膜の剥離が生ずることがなく、良好なパターン位置精度を有するステンシルマスクを得ることの可能なステンシルマスク用マスクブランク、ステンシルマスク、及びそれらの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a mask for organic electroluminescence having an opening of a stripe pattern, in which mask strength is improved and a pitch accuracy after mask expansion can be made to be highly accurate.
ストライプパターンの開孔部を有するマスクにおいて、マスク強度の向上を図り、かつ、マスク伸張後のピッチ精度を高精度化することが可能な有機エレクトロルミネッセンス用マスクを提供すること。 - 特許庁 - To deregulate selection of a pattern while a high accuracy is assured as a decorative plate with sufficient visibility and to simultaneously easily manufacture the small quantity and multiple types of printing bases at a low cost.
充分な視覚性を有し化粧板としての高い精度を確保しつつ、模様の選択の自由化を図ることができると同時に、低コストで少量多種類の印刷基材を簡易に製造する。 - 特許庁 - To provide a light irradiation device which gradually can change scanning pattern of a laser beam, while compensating error in accuracy of position detecting element to enable correct position control of an actuator.
レーザビームのスキャンパターンを徐々に変更することができ、且つ位置検出素子の精度誤差を補正して正確なアクチュエータの位置制御を行うことができる光照射装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a barrier rib and lower panel for a plasma display panel capable of forming a barrier rib pattern of a desired shape with high accuracy, and easily determining a thickness of a dielectric layer.
所望の形状の隔壁パターンを高精密度で形成し、誘電体層の厚さを容易に決定することが可能なプラズマディスプレイパネル用隔壁及び下部パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition having such resist characteristics that a line-and-space (1:1) with a pattern process accuracy of ≤90 nm can be achieved with a satisfactory shape in the lithographic process for a semiconductor integrated circuit.
半導体集積回路のリソグラフィーによるパターン加工精度として９０ｎｍ以下のライン・アンド・スペース（１：１）を良好な形状で達成可能なレジスト特性を有するホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
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