「Pattern Accuracy」を含む例文一覧(1788)
＜前へ 1 2 .... 24 25 26 27 28 29 30 31 32 .... 35 36 次へ＞- To provide a code error rate measurement apparatus and a code error rate measurement method for automatically setting a clock phase and a data threshold voltage to a center of an opening of an eye pattern at high speed with high accuracy.
クロック位相とデータ閾値電圧を高速かつ高精度でアイパターンの開口部中心に自動設定できる符号誤り率測定装置および符号誤り率測定方法を提供すること。 - 特許庁 - The solution is algebraically calculated on the basis of the geometric relation by simultaneously setting up the algebraic conditions in each the solution pattern, and accuracy of the calculated solution is geometrically checked (S7-S9).
そして、当該解パターン毎の代数的制約条件を連立させることにより、幾何的な関係に基づいて、代数的に解を算出し、算出した解の精度を、幾何的にチェックする(S7-S9)。 - 特許庁 - A tensile stress due to the mask part 11 is offset by the tension of the tension member 14, rigidity of the whole mask is strengthened and, therefore, the deterioration in the pattern accuracy due to warping of the mask part 11 can be prevented.
マスク部１１による引張応力がテンション部材１４の張力によって相殺され、マスク全体の剛性が強化されるため、マスク部１１の反りによるパターン精度の劣化を防ぐことができる。 - 特許庁 - To provide an alignment device for exposure equipment which hardly causes a change in a relative position of pattern between the alignment mark of a substrate and the alignment mark of a mask even if the optical axis deviation of an optical path occurs and has high alignment accuracy.
光路の光軸ずれが生じても、基板のアライメントマークとマスクのアライメントマークとのパターン相対位置の変化が生じにくく、アライメント精度が高い露光装置のアライメント装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an electric connection unit and an electric connection box capable of improving the degree of cabling of a circuit pattern, the positional accuracy of terminals to be disposed, and the workability of connector mounting.
本発明は、回路パターンの配索自由度の向上、整列される端子の位置精度の向上及びコネクタ装着の作業性の向上を図る電気接続ユニット及び電気接続箱を提供する。 - 特許庁 - To provide a strain measuring device and a strain measuring method capable of improving the measuring accuracy and reducing an information processing amount while taking account of deformation of a prescribed feature pattern.
本発明は、所定の特徴パターンの変形を考慮しつつ測定精度の向上と情報処理量の低減とを図ることができるひずみ測定装置およびひずみ測定方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron beam lithographic equipment to be used when manufacturing a master disk of an information recording medium such as an optical disk by which a desired pattern can be lithographed with high accuracy on the master disk.
光ディスク等の情報記録媒体の原盤を作製する場合に使用される電子ビーム描画装置に関し、原盤に所望のパターンを高精度で描画することができるようにする。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus which forms an image without degrading accuracy in registration correction even when a pattern and a flaw on a transfer belt are overlapped each other, and to provide its control method.
転写ベルト上の傷とパターンとが重なった場合であっても、レジストレーション補正の精度を低下させることなく画像形成を行う画像形成装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a digital modulation signal generating apparatus capable of highly and stably maintaining the compensation accuracy of an offset error and a quadrature error and updating a compensation parameter when baseband signals with an optional pattern are output.
オフセット誤差および直交誤差の補償精度を高く且つ安定に維持でき、任意のパターンのベースバンド信号を出力している際に補償用のパラメータを更新することができるようにする。 - 特許庁 - To provide an electrode for electrochemical machining capable of exactly and easily forming a predetermined machining pattern and stably maintaining the machining of high accuracy for a long period of time; and a manufacturing method therefor.
所定の加工パターンを正確にかつ容易に形成することができ、高精度の加工を長期にわたって安定して維持することのできる電解加工用電極とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electromagnetic shield film which has a fine metal mesh pattern of high dimensional accuracy and is superior in electromagnetic wave shieldability and light permeability, and to provide a method for manufacturing the electromagnetic shield film inexpensively.
微細で寸法精度の高い金属メッシュパターンを有し、電磁波シールド性および光透過性に優れた電磁波シールドフィルムおよび該電磁波シールドフィルムを安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image processor capable of accurately obtaining a featured value of a target to be measured even when an area to be measured is not completely detected in a state that the accuracy of pattern matching is rough.
パターンマッチングの精度がラフな状態で完全に測定対象領域を検出していなくとも、精度良く測定対象の特徴量を得ることができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - To reduce downtime for an apparatus due to processing control for an image formation using a test pattern; and to obtain a stable image quality while employing an intermediate transfer method with high image superposing accuracy.
画像重ね精度が高い中間転写方式を採用しながら、テストパターンを用いた画像形成のためのプロセス制御による装置のダウンタイムを低減し、かつ安定した画像品質を得る。 - 特許庁 - Since the tone of the film 22 generates contrast with the tone of the photosensitive film 23, the mask pattern 23A can be inspected with high accuracy by using an automatic appearance inspection device by optical cognition method.
また、皮膜２２が感光膜２３の色調とコントラストが得られる色調であるため、光学認識方式の自動外観装置を用いてマスクパターン２３Ａの検査を高精度に行うことが可能となる。 - 特許庁 - To provide a mask, a method of preparing the mask and a method of manufacturing a semiconductor device, capable of reducing the variation of a finish wiring dimension depending on a mask pattern by interposing a dummy pattern for equalizing a resist exposure surface area per area of one chip and improving the accuracy of the finish wiring dimension among semiconductor devices having different pattern coverages and cell occupancies.
マスクパターンに依存した仕上がり配線寸法のバラツキを、１チップ面積当りのレジスト露出表面積が等しくなるようなダミーパターンを介在させることにより低減して、異なるパターン被覆率やセル占有率を有する半導体装置間の仕上がり配線寸法の精度の向上が図れるマスク、マスクの作成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a composition for an antireflection coating which prevents lowering of the dimensional accuracy of a pattern caused by interference of multiply reflected light in a photoresist film and enables formation of a resist pattern free of deterioration in the pattern shape such as T-top or round top shape adverse to an etching process caused chiefly by intermixing of a chemically amplified resist and an antireflection film.
フォトレジスト膜内における多重反射光の干渉によりもたらされるパターン寸法精度の低下を防止し、且つ化学増幅型レジストと反射防止膜とのインターミキシングなどにより引き起こされる、エッチング工程に不都合なＴ−トップ、ラウンドトップなどのパターン形状の劣化を起こさないレジストパターンを形成することのできる反射防止コーティング用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a technique capable of improving the dimensional accuracy of a transfer pattern in a lithography technique in which EUV light is used and the EUV light is incident obliquely on a mask having the pattern formed and an image of the EUV light reflected from the mask is formed on a semiconductor substrate (resist film) so as to transfer the pattern formed on the mask onto the semiconductor substrate.
ＥＵＶ光を使用し、かつ、パターンを形成したマスクに斜め方向からＥＵＶ光を入射した後、マスクから反射したＥＵＶ光を半導体基板（レジスト膜）上に結像させることにより、マスク上に形成されたパターンを半導体基板（レジスト膜）に転写するリソグラフィ技術において、転写パターンの寸法精度を向上することができる技術を提供する。 - 特許庁 - Thus, the dimensional accuracy and the positional accuracy at the conveying time, mounting time and bonding time are improved while the layer 2 is formed thinly, and an electric part can be surely mounted in a high density wiring in which a pitch of inner leads 9 in the pattern 7 becomes 60μm or less with the reduction of the weight and the thickness.
これによって、絶縁層２を薄く形成できながら、搬送時、実装時およびボンディング時の寸法精度や位置精度を向上させ、軽量化、薄型化を図りつつ、導体パターン７における各インナリード９のピッチが６０μｍ以下となる高密度配線において、確実に電子部品を実装することができる。 - 特許庁 - In this way, the heat collection amount performance value PQ in the past can be used for predicting weather, so that weather prediction accuracy can be improved by using both of the atmospheric pressure detection value and the heat collection amount performance value PQ in the past even when an atmospheric pressure transition pattern does not meet a few patterns having high weather prediction accuracy.
これにより、天候の予測に過去の集熱量の実績値ＰＱを利用できるため、大気圧の推移パターンが、天候の予測精度が高いごく少数のパターンに当てはまらない場合でも、大気圧の検出値と過去の集熱量の実績値ＰＱとを併用して天候の予測精度を高めることができる。 - 特許庁 - To provide an exposure device capable of performing high accuracy exposure while preventing variance in the distance from a substrate end face to a pattern by directly measuring the position of the end face of a substrate mounted on a substrate stage with a laser length measuring device so as to determine a relative position of the substrate with respect to the mask with high accuracy.
基板ステージに搭載される基板の端面の位置をレーザー測長器で直接計測することにより、マスクに対する基板の相対位置を高精度で位置決めできるようにして、基板端面からパターンまでの距離のバラつきを防止して高精度の露光を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a high-reliability thermosensitive flow rate detection element having high detection accuracy and its manufacturing method by specifying the position of an edge part of a diaphragm part by a dummy pattern for inspecting geometry of the diaphragm.
この発明は、ダイヤフラム部の形状寸法検査用のダミーパターンによりダイヤフラム部の縁部の位置を規定し、高検出精度、高信頼性の感熱式流量検出素子およびその製造方法を得る。 - 特許庁 - To provide the magnetic transfer method of a perpendicular magnetic recording medium, by which transfer recording to a medium of high coercive force can be performed with signal writing accuracy equal to that of a transfer pattern carried by a master carrier.
マスター担体が担持する転写パターンと同等の信号書き込み精度で高保磁力媒体への転写記録を可能とする垂直磁気記録媒体の磁気転写方法及びこれを用いた製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an eaves type Levenson phase shift mask for transferring a fine pattern in which fragments of eaves are restored with high accuracy, and to provide a mask defect modifying method for restoring broken parts of the eaves of the eaves type phase shift mask.
ひさし折れが修復された、微細パターンを高精度に転写できるひさし型レベンソン位相シフトマスクと、ひさし型位相シフトマスクのひさし折れ部分を修復できるマスク欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an offset printing apparatus capable of realizing uniform pattern printing on a work with high accuracy by preventing longitudinal distortion of a pressure roller and preventing non-uniformity of printing pressure in the width direction of a blanket, especially, in the effective printing region thereof.
押圧ローラの長手方向の撓みを防止し、ブランケット幅、特に、有効印刷領域での印圧の不均一を防ぎ、均一なパターン印刷をワーク上に高精度に実現できるオフセット印刷装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a simple and easy method for forming solder bumps on an electrode which can readily respond to a demand for a pattern of high accuracy with an electrode pitch of 200μm or less, and to provide means for feeding solder balls for it.
電極ピッチ 200μｍ以下という高精細パターンに容易に対応でき、操作が簡便かつ容易である電極上にはんだバンプを形成する方法とそのためのはんだボールの供給手段を提供する。 - 特許庁 - In the present invention, strong adsorption on the interface between the stamp and the substrate is reduced by injecting the vapor of small molecule material, so that the accuracy of pattern transfer is increased, the operations are simplified, and the cost is reduced.
本発明は、小分子物質の蒸気を注入することによって、圧模と基体との界面の強い吸着力を減らすようにして、パターン転写の高精度化、操作の簡単化、低コスト化が実現できる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device and a method for manufacturing the device in which a wiring pattern including fine line patterns in a line-and-space form and pad patterns is formed at a low cost with high accuracy, and to provide a photomask used for the manufacture.
微細なラインアンドスペース状の線パターンと、パッドパターンとを有する配線パターンが低コストで精度良く形成された半導体装置およびその製造方法、ならびにその製造に用いるフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure apparatus in which exposure of a mask pattern can be fast performed with high accuracy while preventing misalignment of exposure caused by expansion/contraction of an object substrate to be exposed or of a mask on exposing the object substrate.
被露光基板に露光を行う際、被露光基板またはマスクの伸縮に起因する露光のズレの発生を防止してマスクパターンの露光を迅速に且つ高精度に行うことができる露光装置を提供すること。 - 特許庁 - The method extracts edges of the dots and counts the dots unidirectionally to detect positions of deformed dots located at borders of patterns with different gradation values in the output resolution level thereby particularizing the position of pattern pixels with high accuracy.
網点のエッジを抽出し、一方向にカウントすることにより、階調値の異なる絵柄の境界に位置する変形した網点の位置を出力解像度レベルで検出し、絵柄画素の位置を高精度に特定する。 - 特許庁 - To provide a microcontact printing stamp having sufficient strength as a microcontact printing stamp, and capable of suppressing swelling due to a solvent used in an ink material and pattern transfer having high dimension accuracy.
マイクロコンタクトプリント用版材としての十分な強度を有しつつ、かつ、インク材に使用される溶剤による膨潤が抑制でき、寸法精度の良いパターン転写が可能なマイクロコンタクトプリント用版材を提供する。 - 特許庁 - To provide a charged particle applied technique using an electrostatic chuck device which is capable of restraining an eddy current flowing through its chuck electrode from affecting an electron beam so as to improve a pattern in positional accuracy.
静電吸着装置の吸着用電極に流れる渦電流が電子ビームに与える影響を低減し、パターン位置精度を向上させ得る静電吸着装置を用いた荷電粒子応用技術を提供する。 - 特許庁 - To obtain an injection molded form usable as an optical material with high heat resistance and high moist heat resistance by transferring in high accuracy a fine pattern carved on the inner surface of a mold cavity on a molded form by injection molding.
金型キャビティー内に刻まれた微細なパターンを射出成形により高転写させることにより、耐熱性、耐湿熱性に優れた光学材料として使用可能な射出成形体を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device and semiconductor manufacturing apparatus, where more high-accuracy pattern formation is enabled by improving uniformity in the intra-plane temperature of a large-diameter semiconductor wafer in lithographic processes.
リソグラフィ工程における大口径半導体ウエハの面内温度均一性を向上させ、より高精度なパターン形成が可能な半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a conductive film pattern having a fine form, excellent in adhesiveness to a base material, form accuracy and reliability, and formed requiring no complicated and costly equipment and steps and a method of forming the same.
微細な形状を有し、基材との密着性や形状精度、信頼性に優れ、複雑、高価な設備、工程を必要とせずに形成する導電膜パターン及びその導電膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an optical waveguide structure including an optical waveguide having a wide flexibility in pattern shape design, which can form a core part (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and superior in durability.
パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁 - To provide an optical waveguide structure including a durable optical waveguide, which has a great design flexibility of a pattern shape in an optical circuit and with which an optical path with high dimension accuracy can be formed with simple ways.
光回路のパターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高い光路を簡単な方法で形成することができ、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁 - The kind of the floor surface is discriminated by a body control part based on the integral value of electric waveform output from a vibration detecting means according to the vibration pattern, so that the accuracy in discriminating the floor surface can be improved.
本体制御部が、この振動パターンに対応して振動検出手段から出力した電気的な波形の積分値に基づいて床面の種類を判別することで、床面の判別精度を向上できる。 - 特許庁 - To provide an aligner and a control method of the same capable of improving a throughput without deteriorating the positioning accuracy at the time of positioning of an original pattern with respect to each of a plurality of shot areas on a substrate.
露光装置及びその制御方法において、基板上の複数のショット領域のそれぞれに対して、原版のパターンを位置合わせする際の位置合わせ精度を落とすことなく、スループットを向上させる。 - 特許庁 - To provide a method for positioning edge of a pattern element on a substrate, capable of very accurately, speedily, and reproducibly measuring the edge position in edges constituted, as desired, at the lower level of accuracy of pixels.
任意に構成されているエッジにて、極めて精密で迅速で再現可能であるエッジポジションの測定を画素の下位の精度で可能とする、基板上のパターン要素のエッジをポジション決定するための方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a measuring method for relative speed in the transverse direction, in which the relative speed in the transverse direction of a vehicle which precedes its own vehicle is measured with high accuracy on the basis of the reflection intensity pattern of a laser radar.
レーザレーダの反射強度パターンに基づいて自車両に先行する車両の横方向相対速度を高精度に計測するようにした先行車両の横方向相対速度計測方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive paste composition which has excellent photocurability and excellent resolution and can be processed into patterns having high aspect ratios and high accuracy, and to provide a flat panel display having a desired cured pattern formed from the photosensitive paste composition.
光硬化性や解像度に優れ、高アスペクト比かつ高精度のパターン加工を可能にする感光性ペースト組成物及びそれを用いて所望の焼成物パターンを形成したフラットパネルディスプレイを提供する。 - 特許庁 - To provide a calibration board excelling in planarity and pattern accuracy, and a calibration apparatus facilitated in picture acquisition for calibrating optical equipment and enabled to accomplish highly accurate calibration by being equipped with this calibration board.
平面度が高く高精度なパターンを有する校正用ボードと、この校正用ボードを備えることにより、光学機器を校正するための画像取得が容易で、高精度な校正が可能な校正用装置を提供する。 - 特許庁 - A user is identified using not only iris unique to each person and a blink pattern that can be known by himself/herself, so that high authentication accuracy can be obtained even when the image quality of eye circumferential image is low.
各人にユニークな虹彩だけでなく，本人だけが知り得るまばたきパターンを用いて利用者を識別するため，たとえ眼周辺画像の画質が低い場合であっても，高い認証精度を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a process for manufacturing an article having a fine structure which has a complicated fine structure pattern and also has high surface smoothness and high shape accuracy.
微細構造を有する物品を製造するためのプロセスに関し、複雑な微細構造パターンを有し、かつ、高い表面平滑度と高い形状精度とを有する微細構造を備えた物品を製造することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a deposited mask that allows high-accuracy patterning, and has a thin precise pattern mask, and its manufacturing method, and to provide organic electroluminescent equipment with a high numerical aperture by using the deposited mask.
高精度のパターニングが可能な、薄い精密パターンマスクを有する蒸着マスクとその製造方法を提供すること、その蒸着マスクを使用することで開口率の高い有機電界発光装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a vehicle driving support apparatus which detects a remote obstacle with high accuracy from a vehicle which detects the obstacle using a pattern matching process.
この発明は、パターンマッチング処理を利用して障害物を検出するものにおいて、車両から遠く離れた障害物を精度良く検出することができる車両用運転支援装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive conductor paste which has high adhesive strength to a base substance such as a ceramic substrate, inhibits the gelation of the itself and a coating film and forms a fine thick film conductor pattern with high accuracy.
セラミック基板等の下地基体との密着力が高く、それ自身および塗膜のゲル化を抑制して、微細かつ厚膜の導体パターンを高精度に形成し得る感光性導体ペーストを提供すること。 - 特許庁 - The pattern transfer via the projection optical system with its imaging properties adjusted in consideration of the optimum environmental correction coefficients can correct the transfer errors, caused by an environmental variation with a high degree of accuracy.
ここでは、最適な環境補正係数を考慮して結像特性が調整された投影光学系を介してパターンの転写が行なわれるために、環境変化に起因する転写誤差を精度良く補正することができる。 - 特許庁 - To provide an image processor for improving the success rate and accuracy of pattern matching of two images without lowering the efficiency of the inspection work of length measurement or the like, an image processing method and a scanning electron microscope.
２つの画像のパターンマッチングの成功率および精度を向上させ、しかも、測長などの検査作業の効率を低下させない画像処理装置、画像処理方法および走査型電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁 - To provide a modulation scheme for an interferometr fiber optic gyroscope (IFOG) having a high accuracy which maintains the advantage of dual lamp modulation, at the same time, producing a proper quality front end glitch pattern, like square-wave modulation.
方形波変調のような良性のフロントエンドグリッチパターンを作り出すと同時に、デュアルランプ変調の利益を保持する高い正確度の干渉型光ファイバジャイロスコープ（ＩＦＯＧ）のための変調方式を提供する。 - 特許庁
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