「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 23 24 25 26 27 28 29 30 31 .... 57 58 次へ＞- A pattern inspection apparatus includes irradiation means, illumination means, detection means, image formation means, and image processing means.
実施の形態のパターン検査装置は、照射手段と照明手段と検出手段と結像手段と画像処理手段とを含む。 - 特許庁 - Since formation of the thin film and patterning are conducted simultaneously using the ink jet device, the conductive film pattern can be formed easily and inexpensively.
インクジェット装置を用いて薄膜形成とパターンニングを同時に行うため、簡単かつ安価に導電膜パターンを形成できる。 - 特許庁 - To provide a formation method of self-aligned double pattern capable of improving a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) procedure and a subsystem.
本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)手順及びサブシステムを用いた基板処理方法の改善を目的とする。 - 特許庁 - BASE PATTERN FORMATION MATERIAL FOR ABSORBING ELECTRODE/WIRING MATERIAL, ELECTRODE/WIRING FORMING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF IMAGE FORMING APPARATUS
電極・配線材料吸収用下地パターン形成材料、電極・配線形成方法および画像形成装置の製造方法 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of performing suitable image formation processing in accordance with a plotting direction of a bar code pattern.
バーコードパターンの描画方向に応じて適切な画像形成処理を行うことのできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - The phase shifter allows pattern formation of almost vertical shape with no taper.
本製造方法により製造された位相シフタは、テーパを有さない略垂直形状のパターン形成を実現させることが出来る。 - 特許庁 - The electronic device is formed, for example, by laminating an epitaxial semiconductor layer on the improved crystal, performing pattern formation and metallization.
改良結晶上に、例えばエピタキシャル半導体層の設層、パターン形成及び金属化を行い電子装置を形成する。 - 特許庁 - After the pattern formation is completed, on the surface of the material, an electrode is formed generally by electroless metal plating.
パターン形成が完了した後、この材料の表面には一般に、無電解金属めっきによって電極が形成される。 - 特許庁 - In a rib formation device of this rib pattern formation system, a plurality of first linear ribs 81 are formed on a substrate 9 by moving a plurality of discharge openings discharging a paste-like rib formation material having a light curing property along the substrate 9.
リブパターン形成システムのリブ形成装置では、光硬化性を有するペースト状のリブ形成材料を吐出する複数の吐出口を基板９に沿って移動することにより基板９上に複数の第１線状リブ８１が形成される。 - 特許庁 - An LED head is previously arranged in a position deviated from a focusing position and every time the head is moved successively at every prescribed amount in the focusing direction, the formation of two kinds of test pattern images comprised of a first pattern 30 and a second pattern 31 is performed.
ＬＥＤヘッドを合焦位置から外れた位置に配置しておき、合焦方向に所定量ずつ順次移動させる毎に、第１パターン３０及び第２パターン３１から成る二種類のテストパターン画像の形成を行う。 - 特許庁 - To provide a thermoplastic resin composition for flow pattern formation, to which a flow pattern forming resin is added which has sufficient strength and has a high flow pattern developing effect in spite of a small addition amount.
本発明の目的は、十分な強度を有し、かつ、少ない添加量で流動模様発現効果が大きい流動模様形成樹脂が添加された流動模様形成用熱可塑性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁 - Moreover, the inkjet printer 1 has a controller 4 which controls the belt conveying device 20 so that the test pattern and a reading surface 41 of the image sensor 40 may be opposed to each other after the test pattern is formed to the test pattern formation region.
さらに、インクジェットプリンタ１は、テストパターン形成領域にテストパターンが形成された後に、テストパターンと画像センサ４０の読取面４１とが対向するように、ベルト搬送装置２０を制御する制御装置４を有している。 - 特許庁 - The pattern forming device calculates drawing data based on the measurement data (measurement data of the elongation and contraction of the base material length, the measurement data of the position of the previous process pattern) and performs the formation of the fresh pattern based on the drawing data (step 905).
パターン形成装置は、測定データ（基材長の伸縮の測定データ、前工程パターンの位置の測定データ）に基づいて描画データを算出し、当該描画データに基づいて新たなパターンの形成を行う（ステップ９０５）。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect of improving the circularity of a pattern and allowing formation of a pattern with a good focus latitude, and to provide a pattern forming method using the composition.
パターンの真円性改善に効果が有り、フォーカス余裕度が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method excellent in both of line width uniformity of a pattern and developing time-dependency of sensitivity, a chemically amplified resist composition and a resist film, for negative pattern formation with a developer containing an organic solvent.
有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、パターンの線幅均一性及び感度の現像時間依存性のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁 - To provide a hand roller which can easily form a joint pattern to a coating formed on a substrate and can reduce waste produced by the formation of the joint pattern, and to provide a method of forming the joint pattern using the same.
基材上に形成された塗膜に対して目地模様を容易に形成することができ、かつ目地模様の形成によって生ずる廃棄物を低減できるハンドローラおよびそれを用いた目地模様の形成方法を目的とする。 - 特許庁 - A pattern formation method of an embodiment comprises a step of forming a first pattern on a substrate and a step of enhancing liquid repellency with respect to an inverted resin material by irradiating an upper part of the first pattern with ultraviolet light.
本実施形態によれば、パターン形成方法は、基板上に第１パターンを形成する工程と、前記第１パターンの上部に紫外線を照射し、反転樹脂材料に対する撥液性を高める工程と、を備える。 - 特許庁 - In this tandem-type image forming apparatus, the image forming condition is decided on the basis of each result of detecting the density pattern of respective reference patterns of pattern blocks PB1 and PB2, obtained by repeating the pattern block formation twice on a transfer transport belt 60.
転写搬送ベルト６０上にパターンブロックを２回繰り返して形成して得たパターンブロックＰＢ１、ＰＢ２における各基準パターン像の濃度パターンを検知した結果に基づいて、作像条件を決定させるようにした。 - 特許庁 - To provide a method of forming a functional film pattern permitting formation of a good functional film pattern by utilizing input electromagnetic energy efficiently and intended to allow miniaturization of the installation of a needed light source and electronic equipment having a functional film pattern formed by the method.
電磁波の投入エネルギーを効率良く利用して、良質の機能性膜パターンを形成することができ、必要な光源の設備の小型化を図った機能性膜パターン成膜方法および電子機器を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for thick film resist film formation capable of forming a thick film resist pattern with good profile, a thick film resist laminate and a resist pattern forming method.
形状の良好な厚膜のレジストパターンを形成できる厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A first well 210 is formed in the first element forming region 12 using a first mask pattern, and a second well 410 is formed in the second element formation region 13 using a second mask pattern.
第１マスクパターンを用いて第１素子形成領域１２に第１ウェル２１０を形成し、第２マスクパターンを用いて第２素子形成領域１３に第２ウェル４１０を形成する。 - 特許庁 - A recording pattern with size of a resolution limit or below can be reproduced with signal intensity equal to that of a recording pattern whose size is equal to and more than the resolution limit through the formation of the ring shaped specific region.
このリング状の特異領域によって解像限界以下の大きさの記録パターンをそれ以上の大きさの記録パターンと同等の信号強度で再生することが可能となる。 - 特許庁 - To avoid unintentional formation of an electrically conductive path via a PAD and a dummy pattern caused by the provision of the dummy pattern such as dummy wiring and/or a dummy activated region, etc.
ダミー配線やダミーの活性化領域等のダミーパターンを設けたことにより、ＰＡＤとこのダミーパターンとを介して意図しない導電経路が形成されることを回避する。 - 特許庁 - Regarding the resin pattern formation method of this invention, when a mold 10 is pressed against a base plate 20, a spacer part 14 higher than a projecting pattern 12 is abutted against the base plate 20.
本発明に係る樹脂パターン形成方法によれば、モールド１０が基板２０に押し付けられた際、凸パターン１２よりも高さの高いスペーサ部１４が基板２０に当接する。 - 特許庁 - This photosensitive adhesive composition can form a pattern by development and the storage modulus at 100°C after pattern formation is 10 MPa or lower.
現像によるパターン形成が可能な感光性接着剤組成物であって、パターン形成後の１００℃における貯蔵弾性率が１０ＭＰａ以下である感光性接着剤組成物。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition excellent in storage stability and capable of forming a high-definition baked product pattern without deteriorating developability even in the formation of a fine pattern.
保存安定性に優れると共に、微細パターンの形成に際しても現像性を低下させることなく、高精細な焼成物パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - A recording film outside a pattern in a servo area is eliminated by etching, irregularity caused by etching inside and outside the pattern is made flat by using non-magnetic film formation and CMP chemical polishing.
サーボ領域におけるパターン外の記録膜をエッチングで除去し、エッチングで生じたパターン内外の凹凸は、非磁性膜成膜とＣＭＰ化学研磨を用いて平坦にする。 - 特許庁 - Thereafter, a resist pattern is formed at a required position, and a titanium nitride film 4 and the platinum film 5 to serve as a lower electrode are patterned by dry etching, using the resist pattern as a mask for the formation of an lower electrode.
その後所望の位置にレジストパターンを形成し、レジストパターンをマスクとしてドライエッチングにより窒化チタン膜４と下部電極となる白金膜５をパターニングし、下部電極を形成する。 - 特許庁 - To provide a substrate for pattern formation on which an ink-repellent coating part can be easily formed using an ink jet method and a substrate formed with a pattern, and an organic EL element using the same.
基板上に、インクジェット法を用いて簡便に撥インク性の被覆部を形成可能なパターン形成用基板、パターンが形成された基板及びそれを用いた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a simple formation method of barrier ribs of a plasma display panel capable of directly peeling off resin patterns after a barrier rib material is filled between the resin pattern and the resin pattern.
樹脂パターンと樹脂パターンの間に障壁材料を充填後、樹脂パターンを直接剥離することが可能な簡便なプラズマディスプレイパネルの障壁の作成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid drop delivery apparatus for enhancing accuracy of drop-deposition from nozzles and thereby capable of forming a membrane pattern of high accuracy, and a membrane pattern formation method using this.
各ノズルからの着弾精度を上げ、これによって高精度の膜パターンを形成できるようにした液滴吐出装置と、これを用いた膜パターン形成方法とを提供する。 - 特許庁 - To improve pattern transferring precision using a stepper by performing plotting added with the position deviation of a pattern formation face when the back face of a substrate is adhered to a predetermined standard face.
基板の裏面が所定の基準面に密着されたときのパターン形成面の位置ずれを加味した描画を行うことができ、ステッパ等を用いたパターン転写精度の向上に寄与する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation process, a liquid droplet discharge apparatus and a circuit module by which drying efficiency of a liquid droplet is improved and thermal damage of a substrate and a pattern is alleviated.
液滴の乾燥効率を向上させるとともに、基板やパターンの熱的損傷を軽減させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び回路モジュールを提供する。 - 特許庁 - Then when respective plates in a lot are exposed in a step 220, the formation state of the pattern is corrected using a suitable offset to form the pattern on the plates.
そして、ロット内のプレートのそれぞれに対して、ステップ２２０で露光を行う際に、適切なオフセットを用いてパターンの形成状態を補正して、そのパターンをプレート上に形成する。 - 特許庁 - To provide a vehicle headlamp system capable of suppressing formation of a dark part in the light distribution pattern even in the case one light distribution pattern is formed by aligning a plurality of irradiation regions.
照射領域を複数並べて一つの配光パターンを形成する場合でも配光パターン上の暗部の形成を抑制できるような車両用前照灯システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a multilayer circuit board in which heat resistance is not deteriorated, and deformation and position shifting of a conductor pattern and formation of a gap at a periphery of the conductor pattern are unlikely to occur.
耐熱性を劣化させることなく、導体パターンの変形や位置ズレおよび導体パターンの周りでの空隙発生が起き難い多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method enhancing a shape control property of a pattern comprising a liquid drop by avoiding flight deflection of the liquid drop and clogging of a delivery port, and a liquid drop delivery apparatus.
液滴の飛行曲がりや吐出口の目詰まりを回避して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern in which good soldering and gold plating can be carried out after resist pattern formation using a conventional solder resist composition, especially a solder resist dry film.
従来のソルダーレジスト組成物、特にソルダーレジストドライフィルムを用いてレジストパターン形成後、続いて良好な半田付け、金めっきを行なうことができるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide mask blanks, and the like, for preventing a skirt shape protrusion from being generated at a pattern bottom after resist pattern formation in the mask blanks to which chemically-amplified resist is applied.
化学増幅型レジストを塗布したマスクブランクスにおいて、レジストパターン形成後パターン底部に発生する裾引き状突起部の発生を抑えることのできるマスクブランクス等を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition for suppressing formation of a T-shaped top in a pattern after developed, and suppressing wrinkles or generating flows induced in a pattern, after post-baking.
現像後のパターンがＴ−Ｔｏｐ形状となることを抑制し、かつ、ポストベーク後のパターンにシワを生じたり、フローを生じたりすることを抑制できる感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide an adjusting method for an exposure device, a pattern forming method, and an exposure device capable of reducing the difference in optical proximity effect between exposure devices, and carrying out stable pattern formation.
露光装置間の光近接効果の差異を低減し、安定したパターン形成を行うことができる、露光装置の調整方法、パターン形成方法、および露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which allows pattern formation without developing process, is improved with respect to the problem due to rubbing process and the like, and is most suitable for a liquid crystal alignment film or the like.
現像処理を行うことなくパターン形成ができ、また、ラビング処理等による問題も改善され、液晶配向膜等に最適なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - BASE GENERATOR, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION MATERIAL COMPRISING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ARTICLE USING THE COMPOSITION
塩基発生剤、感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物からなるパターン形成用材料、当該感光性樹脂組成物を用いたレリーフパターンの製造方法並びに物品 - 特許庁 - To provide a positive resist composition excellent in sensitivity, resolution, and moreover, a pattern profile and line edge roughness relating to pattern formation by irradiation of X-rays, electron beams or ion beams.
Ｘ線、電子線又はイオンビームの照射によるパターン形成に関して、感度、解像力に優れ、更にはパターン形状、ラインエッジラフネスにも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide mask blanks capable of suppressing the generation of a skirt shape projection portion generated at a pattern bottom after resist pattern formation in mask blanks to which chemistry amplification type resist is applied.
化学増幅型レジストを塗布したマスクブランクスにおいて、レジストパターン形成後パターン底部に発生する裾引き状突起部の発生を抑えることのできるマスクブランクス等を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of improving a filling characteristic of a filling material to a template pattern in an imprint lithography method for use to manufacture a semiconductor device etc.
半導体装置等の製造に用いられるインプリントリソグラフィ方法において、テンプレートパターンへの充填材料の充填特性を向上することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - By cleaning the belt 13 before the pattern formation, the pattern detection accuracy is secured, and accuracy is also improved to secure the quality of a formed image.
パターンの形成の前にベルト１３の清掃を合わせて行うことにより、パターン検出の精度を確保でき、ひいては補正の精度を高めて形成される画像の品質を確保することができる。 - 特許庁 - To provide a synthetic resin molded form which can be carved to allow the emergence of a colored pattern as specified on the surface or formation of a colored pattern as specified, even in case that a carving depth is excessive to some extent.
多少深く削り過ぎても、表面に所定の色付き模様を現出させたり所望の色付き模様を形成できる彫刻可能な合成樹脂成形体を提供する。 - 特許庁 - To provide a dual layer pattern coating forming method which enables easy formation of a pattern coating with a three-dimensional feeling and a luxury feeling, and with different colors and/or material feelings.
立体感及び高級感を有する、異なる色及び／又は質感が混在する模様塗膜を、簡便に形成できる複層模様塗膜形成方法を提供すること。 - 特許庁 - Consequently, it is made possible to attain the reduction in resin pattern destruction or defects, as well as improvement of the mold for long life so that both of good transfer pattern formation in the imprinting method and substantial cost reduction may be expectable.
これにより、樹脂パターン破壊や欠陥の低減、モールドの長寿命化が可能となり、インプリント法における良好な転写パターン形成と大幅なコストダウンが期待できる。 - 特許庁
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