「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58- To provide a method of manufacturing a superjunction semiconductor by using a multistage epitaxial system, in which a silicon epitaxial growth rate after alignment marker formation is not made slower than that of a typical condition, deterioration of pattern form accuracy of the alignment marker is prevented, and auto doping from a low resistance arsenic-doped silicon substrate used to lower an on resistance of a superjunction semiconductor is prevented.
アライメントマーカーの形成後に行うシリコンエピタキシャルの成長速度を、通常の条件より遅くすることなく、アライメントマーカーのパターン形状精度の低下を防ぎ、超接合半導体装置を低オン抵抗にするために用いられる低抵抗砒素ドープシリコン基板からのオートドーピングを防止する多段エピタキシャル方式による超接合半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The pattern formation method comprises the steps of: forming a resist film on a semiconductor substrate; forming the antistatic film on the resist film; exposing an electron beam to the resist film; peeling the antistatic film by using peeling liquid with a temperature of 30°C or more and 35°C or less; and performing a development to the resist film to form predetermined patterns.
パターン形成方法が、レジスト膜を半導体基板上に形成する工程、前記レジスト膜上に帯電防止膜を形成する工程、前記レジスト膜に対して電子線を露光する工程、温度３０℃以上３５℃以下の剥離液を用いて前記帯電防止膜を剥離する工程、および前記レジスト膜に対して現像を行い所定のパターンを形成する工程とを含む。 - 特許庁 - Under the set conditions of irregular illumination, a pattern is transferred via a projection optical system PL onto a substrate W where a resist film, an antireflection film or the like are formed with the formation conditions set with reflectivity on the substrate for slant incident light incident onto the substrate W from a direction inclined from the optical axis AX of the projection optical system PL taken into consideration.
そして、この設定された変形照明条件の下で、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対して傾斜した方向から基板Ｗ上に入射する斜入射光に対するその基板上での反射率を考慮して形成条件が設定されたレジスト膜、反射防止膜などが形成された基板Ｗ上に、投影光学系ＰＬを介してパターンが転写される。 - 特許庁 - When an average printing ratio of toner images is a stipulated value or below, in non-image-formation, the developing roller and the screws as well as the photoreceptor drum are driven, the developing device is replenished with the nonmagnetic toner as refreshing toner, and an electrostatic latent image region of a stipulated pattern is formed on the photoreceptor drum and developed by the developing device to form a toner region.
トナー像の平均印字率が規定値以下であると、非画像形成の際感光体ドラムを駆動するとともに現像ローラ及びスクリュー体を駆動して現像装置に非磁性トナーをリフレッシュトナーとして補給した後、感光体ドラムに予め規定されたパターンの静電潜像領域を形成して現像装置によって静電潜像領域を現像してトナー領域とする。 - 特許庁 - This ink composition used in the method for producing a color filter by forming a color pattern on a transparent substrate plate by the inkjet method is characterized by using the ink composition for the color filter, containing a coloring pigment, a thermosetting resin, a solvent and a silicone-based surfactant for the formation of the colored ink layer of the color filter.
透明基板上にインクジェット方式にて色パターンを形成するカラーフィルタの製造方法において用いられるインキ組成物であって、着色顔料、熱硬化性樹脂、溶剤、およびシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用インキ組成物をカラーフィルタの着色インク層形成に使用することで課題を解決することができる。 - 特許庁 - The photosensitive coating liquid for transparent conductive film formation with indium acetylacetone and an organic tin compound dissolved in a solvent, and then with photosensitive resin with a pyrolytic property and combustibility and a diluted liquid added, is coated on a substrate, dried, exposed, and developed to form fine patterns, which are baked at a temperature of 400°C or more to form a transparent conductive pattern film.
アセチルアセトンインジウムと有機錫化合物を溶剤に溶解させた後、熱分解性又は燃焼性を有する感光性樹脂と希釈液を加えた透明導電膜形成用感光性塗布液を用い、この塗布液を基材上に塗布、乾燥し、露光、現像を行って微細なパターンを形成し、４００℃以上の温度で焼成して透明導電パターン膜を形成する。 - 特許庁 - The color filter is characterized by comprising coloring pixels 14 disposed on a transparent substrate 10 and patterned with a plurality of colors and having a dot pattern with a number of parts where no coloring part constituting the coloring pixel exist (transparent non-coloring parts 16) formed inside at least a certain segment in the pixel in the layer thickness direction or in the layer formation direction of the coloring pixel.
透明基板１０上に設けられた複数色パターン化されている着色画素１４中の一画素内の少なくとも一部の領域内に、着色画素の層厚み方向又は層形成面方向に着色画素を構成する着色部が存在しない部分（透明無着色部１６）を多数有する網点状パターンが形成されていることを特徴とするカラーフィルター。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which causes neither reduction of film retention nor chipping or undercut of a pattern even under low exposure energy, yields pixels and a black matrix excellent in solvent resistance and adhesion to a substrate, and has excellent storage stability as a liquid composition even if a pigment is contained in high concentration.
低露光量でも、残膜率が低下したり、パターンの欠けやアンダーカットを生じることがなく、しかも耐溶剤性、基板との密着性等にも優れた画素およびブラックマトリックスを与え、また顔料を高濃度に含有する条件下でも、液状組成物としての保存安定性に優れる新規な着色層形成用感放射線性組成物等を提供すること。 - 特許庁 - In the detector for detecting the movement of gas which is generated in between a comparison chamber with infrared light passing through a sample incident thereon, and a reference chamber with infrared light which is not absorbed by the sample by a flow sensor, the comparison chamber, the reference chamber, and the flow sensor are formed three-dimensionally through etching and pattern formation.
試料を透過した赤外光が入射される比較室と、前記試料の吸収を受けない赤外光が入射される基準室との間に生じるガスの移動をフローセンサで検出する検出器において、エッチングおよびパターン成形により、前記比較室と前記基準室と前記フローセンサが基板中に立体形成されたことを特徴とする検出器。 - 特許庁 - To provide a high resolution resist material containing acid generation agent of polymer type which is highly sensitive and high resolution to high energy rays particularly to ArF excimer laser, F_2 excimer laser, EUV, X-rays and EB etc., small in line edge roughness and not water soluble, and stable to heat and preservation; and to provide a pattern formation method using the resist material.
レジスト材料であって、高エネルギー線、特にはＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2エキシマレーザー、ＥＵＶ、Ｘ線、ＥＢ等に対して高感度、高解像でラインエッジラフネスが小さく水への溶解がなく、十分な熱安定性、保存安定性を有するポリマー型の酸発生剤を含有する高解像性レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The composition for cured film pattern formation comprises a combination of an alkali development type photocurable-heat curable composition containing no heat curing catalyst, preferably a photocurable-heat curable composition containing an epoxy resin as a heat curable component and an oxetane compound with a developer comprising an aqueous solution of a basic curing catalyst comprising a quaternary ammonium compound which generates a hydroxy anion.
硬化皮膜パターン形成用組成物は、熱硬化触媒を含有しないアルカリ現像型の光硬化性・熱硬化性組成物、好ましくは熱硬化性成分としてエポキシ樹脂とオキセタン化合物を含有する光硬化性・熱硬化性組成物と、ヒドロキシアニオンを生成する第４級アンモニウム化合物からなる塩基性硬化触媒の水溶液からなる現像液との組合せからなる。 - 特許庁 - To provide an inorganic powder-containing resin composition which achieves high solvent resistance of a pattern after development and can form a black matrix suitable for batch formation of a plurality of members; a transfer film having an inorganic powder-containing resin layer comprising the inorganic powder-containing resin composition; and a method for manufacturing a flat panel display in which a plurality of members including a black matrix are batch-formed.
本発明は、現像後のパターンの耐溶剤性が高く、複数部材の一括形成に適したブラックマトリクスを好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物、当該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、ブラックマトリクスを含む複数部材を一括形成するフラットパネルディスプレイの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a source of light with 157 nm is used, having a wide defocus latitude, less liable to cause line edge roughness, free of concern for negative formation because a resist film is substantially thoroughly dissolved when developed with a developer and ensuring slight trailing of a line-and-space pattern.
１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、デフォーカスラチチュードが広く、ラインエッジラフネスが発生し難く、現像液で現像した際にレジスト膜が実質的に完全に溶解してネガ化の懸念がなく、ラインアンドスペースパターンの裾引きが小さいポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive conductive paste composition that can form a circuit pattern achieving high-definition patterning, having stable adhesiveness to a substrate or a lower layer in each process of drying, exposure, development and baking, having excellent baking property, excelling in adhesiveness to the substrate and adhesiveness between layers after baking, suppressing the formation of edge curls and showing a low sheet resistance value.
高精細パターン化が可能であり、乾燥、露光、現像、焼成の各工程において基板もしくは下層に対して安定した密着性を有すると共に、優れた焼成性を有し、焼成後の基板への密着性、層間の密着性に優れ、エッジカールの発生を抑制でき、かつ低いシート抵抗値を示すような、回路パターンを形成することができる、感光性導電性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁 - The chemical application section 102 is provided with a chemical application means that applies chemical only to the rear surface of the substrate while the substrate is floated and rotated, and the heating treatment section 104 is provided with a heat treatment means that heat treats the substrate to form a stress application film having the internal stress, thus performing consistently the formation of both the stress application film on the rear surface and the specified pattern on the front surface.
薬液塗布部１０２は、基板を浮遊した状態で、基板を回転させながら基板の裏面にのみ薬液を塗布する薬液塗布手段を有し、加熱処理部１０４は、基板に熱処理を行うことにより、内部応力を有する応力印加膜を成膜する熱処理手段を有し、裏面に応力印加膜の成膜を行うことと、表面に所定のパターンを形成する処理とを一貫して行う。 - 特許庁 - This invention relates to an optical modulation element 3 including a light intensity modulation structure SP which forms a light intensity distribution for crystallization by modulating light, and a mark formation structure MK which is provided integrally with or independently of the light intensity modulation structure, and forms a light intensity distribution including a pattern in a prescribed shape by modulating light and also indicates a predetermined position of a crystallization region.
この発明は、光を変調して結晶化のための光強度分布を形成する光強度変調構造ＳＰと、光強度変調構造と一体にまたは独立に設けられ、光を変調して所定形状のパターンを含む光強度分布を形成するとともに結晶化領域の予め定められた位置を示すマーク形成構造ＭＫと、を有することを特徴とする光変調素子３に関する。 - 特許庁 - To provide an electrostatic latent image developing toner which can output a good gold color in the image formation of an electrophotographic system and can faithfully reproduce intricate electric circuits with high resolution of wiring circuits without the occurrence of an electric conduction defect when used for wiring pattern generation by the electrophotographic system, and to provide a liquid developer containing the toner and an image forming method using the developer.
電子写真方式の画像形成において、良好な金色を出力することができ、また電子写真方式による配線パターン作成に用いた場合、導通不良を起こさず配線回路の解像度が高く複雑な電気回路を忠実に再現することができる静電潜像現像用トナー、該トナーを含有する液体現像剤、及び該現像剤を用いる画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The optical modulation element 3 has a light intensity modulation structure SP forming a light intensity distribution for crystallization by modulating light, and a mark formation structure MK provided integrally with or independently from the light intensity modulation structure in order to form a light intensity distribution including a predetermined pattern by modulating light and to indicate a predetermined position of a crystallization region.
この発明は、光を変調して結晶化のための光強度分布を形成する光強度変調構造ＳＰと、光強度変調構造と一体にまたは独立に設けられ、光を変調して所定形状のパターンを含む光強度分布を形成するとともに結晶化領域の予め定められた位置を示すマーク形成構造ＭＫと、を有することを特徴とする光変調素子３に関する。 - 特許庁 - To provide a tape carrier for a semiconductor device that has small variation in cumulative pitch of external connection terminals resulting from heating during semiconductor element mounting, can be improved in connectivity with external equipment, can suppress formation of conductive foreign matters, and can suppress unstable behavior of a wiring pattern handling electric signals to the signals not to cause that, and to provide a semiconductor device using the same.
半導体素子搭載時の加熱による外部接続端子の累積ピッチの変化が小さく、外部機器との接続性を向上させることができると共に、導電性異物の発生を抑制することができ、また、電気信号を取り扱う配線パターンにおいてその信号に対して不適切な挙動が起きないようにこれを抑制することができる、半導体装置用テープキャリア及びそれを用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁 - The method for manufacturing platens for linear motors includes the steps of: forming platen dots arranged in a matrix pattern on a plate-like magnetic material by screen printing using magnetic ink; after the platen dot formation step, filling lattice-shaped grooves between platen dots with nonmagnetic resin material; and, after the resin material filling step, flattening the surface of the work piece with a surface grinding machine.
板状の磁性体に磁性材インクを用いたスクリーン印刷によりマトリックス状に配列形成したプラテンドットを形成するプラテンドットの形成工程と、このプラテンドットの形成工程後にプラテンドット間の格子状溝に非磁性材製の樹脂材を埋め込む樹脂材の埋め込み工程と、この樹脂材の埋め込み工程後に表面を平面研削盤で表面を平坦に加工する表面平坦加工工程とでリニアモータ用プラテンの製造方法を構成している。 - 特許庁
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