「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 次へ＞- After variably displaying special symbols, the notification system lights the infrared LED 69a at the lighting pattern corresponding to the numerical value of the random number r2 and previously notifies the formation of "winning of the probability variation" or "regular win" using the infrared rays (S140 and S150).
そして、特別図柄を変動表示させたのち、乱数ｒ２の数値に対応する点灯パターンにて赤外線ＬＥＤ６９ａを点灯させ、「確変当たり」もしくは「通常当たり」の発生を赤外線を用いて事前に報知する（Ｓ１４０及びＳ１５０）。 - 特許庁 - To provide a processing method for a plastic material, which enables the faithful formation of a fine pattern with a high aspect ratio and which can make the thickness of a molded article extremely uniform, the molded article formed by the processing method, and processing equipment.
微細でハイアスペクト比のパターンを忠実に形成することができ、さらに成形品の厚みを極めて均一にすることが可能なプラスチック材料の加工方法及びその加工方法により形成された成形品並びに加工装置を提供すること。 - 特許庁 - The display panel manufacturing device comprises a stage supporting a substrate and having a hole, one or more ink jet heads having a nozzle for injecting solution for pattern formation to the substrate, and one or more cameras positioned below the stage so as to monitor the nozzle through the hole.
本発明は、基板を支え、ホールを有するステージと、基板にパターン形成用溶液を噴射するノズルを有する一つ以上のインクジェットヘッドと、ステージの下に位置し、ホールを通じてノズルをモニタリングするための一つ以上のカメラを含んでいることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which avoids the occurrence of residues and scumming in development even in a high colorant concentration, excels in adhesion to a substrate even under low exposure energy, can form pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern profile, and so excels in latitude in developing time, etc., as to obtain a desirable pattern line width.
高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - The recording device includes a beam deflection section for relatively moving an irradiation position of the exposure beam with respect to a substrate; a substrate velocity adjustment section for adjusting a moving velocity of the substrate according to roughness and fineness of the latent pattern; and a deflection control section for controlling to change a deflection velocity of the exposure beam during formation of the latent pattern according to the moving velocity of the substrate.
基板に対して相対的に露光ビームの照射位置を移動させて潜像パターンの記録を行なうビーム偏向部と、潜像パターンの疎密に応じて基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、潜像パターンの形成時における露光ビームの偏向速度を基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有する。 - 特許庁 - To provide a lamp with double filament type in which, by suppressing that light emitted from a low beam filament for passing is reflected by inner lead wires supporting a high beam filament for driving, occurrence of irregular reflection light which does not contribute to formation of low beam light distribution pattern and gives an adverse effect is prevented, and thereby, an optimal light distribution pattern can be formed.
ダブルフィラメントタイプの電球において、すれ違いビーム用フィラメントから放出された光が走行ビーム用フィラメントを支持する内部リード線で反射されるのを抑制することによって、すれ違い用配光パターンの形成に寄与せず、且つ有害な影響を与える乱反射光の発生を防止し、よって最適な配光パターンの形成が可能となるようにすること。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size.
露光後の加熱処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The evaluation method of the resist composition, which is used in the resist pattern forming method including a process of immersion exposure, includes forming of a resist film, selectively exposing, performing a treatment in which the resist film is brought into contact with a immersion solvent used in the process of immersion exposure, baking after exposure (PEB), developing, and evaluating the obtained resist pattern formation performance.
浸漬露光する工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物の評価方法であって、 レジスト膜を形成し、選択的露光し、前記レジスト膜に前記浸漬露光する工程に用いる浸漬溶媒を接触させる処理を行い、露光後加熱（ＰＥＢ）し、現像し、得られたレジストパターン形成性能を評価することを特徴とするレジスト組成物の評価方法。 - 特許庁 - A vehicular headlamp device includes: a lamp unit forming a light distribution pattern Hi for a high beam that includes an upper area above the cut-off line of a light distribution pattern Lo for a low beam and is divided into a plurality of individual patterns Hia-Hie; and a control unit controlling the formation of each of the individual patterns Hia-Hie according to the presence of the forward vehicle 400.
車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンＬｏのカットオフラインから上方の領域を含むとともに複数の個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅに分割されたハイビーム用配光パターンＨｉを形成可能な灯具ユニットと、前方車両４００の存在に応じて各個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅの形成を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁 - This image forming device having a plurality of recording heads discharging liquid droplets includes: a formation part making each of the plurality of recording heads form an image pattern; a sensing part sensing the density of each image pattern; and a correction part correcting the density of the liquid droplets discharged from the plurality of the recording heads based on the sensed density of the image patterns.
液滴を吐出する複数の記録ヘッドを有する画像形成装置において、前記複数の記録ヘッドそれぞれに画像パターンを形成させる形成部と、前記それぞれの画像パターンの濃度を検知する検知部と、前記検知された画像パターンの濃度に基づいて、前記複数の記録ヘッドが吐出する液滴の濃度を補正する補正部と、を有する画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a polymer compound which can constitute a photoresist composition having an excellent resolution, forming a fine pattern with a good rectangularity, obtaining favorable resist characteristics even when acid strength of an acid generated from an acid generator is weak, and having favorable sensitivity, the photoresist composition using the polymer compound and a resist pattern formation method using the photoresist composition.
優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the semiconductor device wherein an outside connection terminal 50 electrically connecting the electrode 12 of a semiconductor element through a wiring pattern 52 to the electrode formation face of the semiconductor element is formed, the outside connection terminal 50 is formed of a wire consisting of an electrically conductive material, and the bonding part side of the wire is provided to be buried in a metal layer forming the wiring pattern 52.
半導体素子の電極形成面に、配線パターン５２を介して半導体素子の電極１２と電気的に接続する外部接続端子５０が形成された半導体装置において、前記外部接続端子５０が、導電材からなるワイヤにより形成され、該ワイヤのボンディング部側が前記配線パターン５０を形成する金属層に埋没して設けられていることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a resin for upper layer film forming compositions contained in an upper layer film forming composition which hardly causes intermixing with a photoresist film, can maintain a stable coat less liable to dissolve in an immersion liquid such as water, effectively suppresses occurrence of watermark defects and pattern defects, and allows formation of a high-resolution resist pattern while showing a high receding contact angle.
フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜形成組成物に含有される上層膜形成組成物用樹脂。 - 特許庁 - In such a state that the scanning length due to the laser beam of the other semiconductor laser corresponding to the correction condition while changing the correction condition, a pattern image for confirmation is outputted and a correction condition used at the time of usual formation of image can be selected and set from the correction conditions corresponding to the respective outputted confirming pattern images.
また、補正条件を変えながらその補正条件に応じて他の半導体レーザのレーザ光による走査長が補正された状態で、確認用パターン画像を出力し、出力された各確認用パターン画像にそれぞれ対応する補正条件の中から、通常の画像形成時に使用される補正条件を選択して設定することが可能である。 - 特許庁 - In formation of the metal projection, as for a pattern of a resist 71, the pattern is formed by removing a resist in a resist removal domain 72 including nine quadrangular pyramid tips, and a polyimide film is formed after removing the resist, to thereby obtain the contact terminal wherein the tip part in one terminal is divided into nine, and a part of the contact terminal is constituted of polyimide.
この金属製突起の形成において、レジスト７１のパターンは、９つの四角錐先端を含むレジスト除去領域７２のレジストを除去することによりパターンを形成し、レジストを除去した後にポリイミド膜を形成することにより、１つの端子中に先端部が９つに分かれ、かつ接触端子の一部がポリイミドで構成される接触端子を得る。 - 特許庁 - As a master information carrier 3 on which a shape pattern corresponding to the digital information signal to be magnetically transferred and recorded to a magnetic recording medium 9, a master information carrier 3 is used which has a plurality of ferromagnetic thin-film pattern formation areas 2, etc., corresponding to information signals of the same specification arranged on the surface of the same nonmagnetic base 1.
磁気記録媒体９に対して磁気転写記録すべきディジタル情報信号に対応する形状パターンが強磁性薄膜をもって形成されているマスター情報担体３について、同一の非磁性基体１の表面に同一仕様の情報信号対応の強磁性薄膜パターン形成領域２‥が複数個配置されているマスター情報担体３を用いる。 - 特許庁 - To provide a resist material that has good barrier performance to water, enables to keep a resist composition from eluting to water, has a high receding contact angle to water, is useful for an immersion lithography due to excellent process applicability without requiring a protective film, and enables to form a fine pattern precisely, as well as to provide a pattern formation method using the material.
水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト組成物の水への溶出を抑制でき、水に対して高い後退接触角を有し、保護膜を必要とせずに優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効で、微細なパターンを高精度で形成することができるレジスト材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a conductive glass substrate obtained by forming a conductive film having excellent adhesion to a glass substrate and having optional conductivity, a method of forming the same and a method of forming a conductive pattern which is suitable for making out a material necessary for the formation of highly conductive and optional pattern formed using the conductive glass substrate or using a method same as that for the conductive glass substrate.
ガラス基板との密着性に優れ、任意の導電性を有する導電膜を形成してなる導電性ガラス基板、その形成方法、及び、該導電性ガラス基板を用いて、或いは、導電性ガラス基板と同様の方法にて形成された高い導電性と任意のパターン形成を必要とする材料の作製に好適な導電性パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - An insulation resist membrane is formed on the substrate, the surface ionized array pattern is formed on the resist membrane by irradiating the resist membrane with an electron beam, the dipolar ionic liposome is coupled to the surface ionized array pattern by an electrostatic interaction, and the fellow individual liposomes are kept under an isolated condition by electrostatic repulsion to prevent membrane fusion, breakage and aggregate formation.
基板上に絶縁性レジスト膜を形成し、このレジスト膜に電子ビーム照射により表面イオン化した配列パターンを形成し、この表面イオン化した配列パターンに両性イオン性リポソームを静電相互作用により結合させ、かつ、個々のリポソーム同士は静電反発により、孤立状態に保たれ、膜融合、破壊、凝集体形成が防止されている。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which reduces generation of development defects and scum and can form a pattern excellent in followability to immersion liquid during liquid immersion exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film formed from the composition, and a pattern formation method using the composition.
現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - In the antenna for reader, 15 with an antenna pattern 23 formed on the antenna forming object member 5, such as the shelf board of the bookstand, or the like, a conductive and porous sheet-like member 51 is provided on the antenna formation object member 5, and the outer periphery of the porous sheet-like member 51 extends substantially along the outer periphery of the antenna pattern 23 in planar view.
書架などの棚板などのアンテナ形成対象部材５に形成されているアンテナパターン２３を有するリーダ用アンテナ１５において、導電性で多孔性のシート状部材５１が、上記アンテナ形成対象部材５に設けられ、上記多孔性シート状部材５１の外周囲が、平面的に見て、上記アンテナパターン２３の外周囲にほぼ沿って延在している。 - 特許庁 - To provide a diffraction structure formation body with a patterned metal reflecting layer formed by processing a metal reflecting layer in a fine pattern shape at a high speed and its manufacturing method, diffraction structure transfer foil using the diffraction structure formation body having the patterned metal reflecting layer, a diffraction structure sticker, diffraction structure transfer foil, and an information recording medium with the diffraction structure using the diffraction structure sticker.
細かいパターン状の金属反射層を高速で加工したパターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体を用いた回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体転写箔、回折構造体ステッカーを用いた回折構造体付き情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁 - To enable to reduce a stress effect undergoing from an element isolation film by an element formation region by a dummy pattern provided to flatten the front surface of a substrate in which the element isolation film is formed, and to enable to improve the operating characteristic of the element by controlling positively the stress effect.
素子分離膜が形成された基板表面の平坦化を図るために設けるダミーパターンによって、素子形成領域が素子分離膜から受ける応力効果を低減できるようにし、また、応力効果を積極的に制御して素子の動作特性を向上できるようにする。 - 特許庁 - To provide a surface treating method of a substrate having irregularities on the surface (e.g. a semiconductor substrate having protruding insulating parts and recessed electrode parts formed on the surface being used in the formation of a metal film pattern) in which only the protrusions can be reformed selectively in the fabrication of a semiconductor device.
半導体デバイス製造において、表面に凹凸形状を有する基板（たとえば、金属膜パターンの形成に用いられる、凸部絶縁部と凹部電極部が表面に形成された半導体基板等）の、凸部のみを選択的に改質しうる基板の表面処理方法を提供すること。 - 特許庁 - An illumination optical system 20A of this pattern inspection device guides incoherent light emitted from an emission face F of an optical fiber array 21 toward a long and narrow illumination region R formed on the surface of a printed circuit board 7 by using nonaxisymmetric image formation elements such as a cylindrical lens 22 or the like.
パターン検査装置の照明光学系２０Ａは、オプティカルファイバーアレイ２１の出射面Ｆから出射されるインコヒーレント光を、シリンドリカルレンズ２２などの非軸対象結像要素を用いて、プリント基板７の表面に形成される細長形状の照明領域Ｒに対して導く。 - 特許庁 - Output image data wherein formation of pixels is suppressed in the vicinity of a center of a dot matrix is obtained by this suppression pattern, and an exposure part irradiates the photoreceptor drum by an exposure determined on the basis of the image data and an exposure energy profile, to form an electrostatic latent image.
この抑制パターンにより、網点内の中央部近傍に画素の形成が抑制された出力画像データが得られることになり、露光部では、この画像データに基づき決定された露光量で且つ、露光エネルギープロファイルにより、感光ドラム上を照射して静電潜像を形成する。 - 特許庁 - To provide a low dielectric constant resin composition excellent in pattern precision and adhesion to a substrate, developable with water or a dilute alkali solution and suitable for use in the formation of a soldering resist, an interlayer dielectric or the like for a printed wiring board and an IC package and to provide a sensitive film using the resin composition.
パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁 - On the surfaces of a mother ceramic substrate 10, break grooves 11 are formed in a grid pattern by a laser scribing method, and the mother substrate is primarily divided along the break grooves which extend in one direction, then dross which is produced in the break groove formation process is removed by barrel polishing or the like.
セラミック製マザー基板１０の表面にレーザスクライビング法によってブレーク溝１１を格子状に形成し、該マザー基板を一方向に延在するブレーク溝に沿って１次分割し、ブレーク溝形成時に発生した溶融再凝固物（ドロス）をバレル研磨等で除去する。 - 特許庁 - To solve problems due to a difference in reflectance during formation of a nanohole pattern and problems due to a decrease in wiring reliability resulting from etching at the same time, while eliminating an increase in effective dielectric constant between wiring lines in the same wiring layer and an increase in variation in wiring width.
同一配線層の配線間における実効誘電率の増大及び配線幅のばらつきの増加を解消しつつ、ナノホールパターンの形成時における反射率差に起因する課題と、エッチングによる配線信頼性低下の課題とを同時に解決できるようにする。 - 特許庁 - To provide a method for forming a barrier rib for a flat display, wherein the light exposure margin where problems such as meandering and/or peeling, pattern thickening and/or residual film formation do not occur can be enlarged when forming the barrier rib for the flat display with high definition and high aspect ratio, and wherein the increase of a required light exposure is small.
高精細かつ高アスペクト比の平面ディスプレイ用隔壁を形成する際に、蛇行や剥がれ、パターン太りや残膜形成といった問題が発生しない露光量マージンを拡大でき、かつ必要露光量の増大が少ない平面ディスプレイ用隔壁の形成方法を提供する。 - 特許庁 - This can arrange the pair of pads 12a, 12b nearer to the end side of the board where the width of the solder resist is not sufficiently formed because pattern formation and the solder resist 11 are forbidden between the end of the board end side of the pair of pads 12a, 12b and the end 10e of the board.
これにより一対のパッド１２ａ，１２ｂの板端側端部から板端１０ｅまでの間は、パターン形成およびソルダーレジスト１１が禁止されることから、一対のパッド１２ａ，１２ｂを板端側に十分なソルダーレジストの幅を形成できない板端側まで近付けて配置することができる。 - 特許庁 - To provide a formation method of a circuit material which is excellent in workability and enables a bus bar to be readily and surely stuck to a portion of a copper foil pattern of a printed substrate, requiring increase of an allowable current amount and furthermore does not require special resist treatment for the bus bar.
プリント基板の銅箔パターンのうち許容電流量を増加する必要がある部分に、バスバーを容易にかつ確実に貼り付けることができ、さらに、前記バスバーに別途レジスト処理を施す必要もない作業性に優れた回路材の形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition using pure water as a developing solution, ensuring a low baking temperature after the formation of a fluorescent membrane and capable of easily regulating the line width and sharpness of a fluorescent membrane pattern and to provide a method for forming a fluorescent membrane using the composition.
純水を現像液として使用し、蛍光膜の形成後、焼成温度が低く、且つ蛍光膜パターンの線幅及びシャープネスを容易に調節することのできる光重合型の感光性蛍光体ペースト組成物及びこれを用いた蛍光膜の形成方法を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the insulated gate-type semiconductor device has steps of: forming a gate insulating film on a semiconductor substrate; carrying out the film formation of the tantalum carbide film on the gate insulating film; and performing hydrogen plasma treatment after forming a mask pattern having an aperture for exposing a part of the tantalum carbide film.
半導体基板上にゲート絶縁膜を形成する工程と、前記ゲート絶縁膜上に炭化タンタル膜を成膜する工程と、前記炭化タンタル膜の一部を露出する開口を有するマスクパターンを形成したのち、水素プラズマ処理を行う工程とを設ける。 - 特許庁 - To solve a problem that the color blur can not be calculated correctly because of the influence of the remarkable image formation unevenness due to the reference color derivation when a registration pattern is read for measurement of the color deviation in an image forming device which is used as an output device of computer, etc.
コンピュータ等の出力機器として使用される画像形成装置において、色ずれ量を検出するためのレジストレーションパターンを読み取る際に、基準色の画像形成むらが大きい場合、その影響によって正しく色ずれ量を換算できず色ずれ量演算が正確に行えない。 - 特許庁 - To provide a composite resin molded product, which is suitable for obtaining a multilayer circuit board allowing formation of a high-density wiring pattern and excellent laser processed shapes, excellent in low linear expansion, flame retardancy, and surface smoothness of an insulating layer, and scarcely produces toxic substances in incineration, for an electrical insulating layer.
高密度の配線パターンの形成が可能でレーザ加工形状が良好な多層配線板を得るのに好適で、低線膨張、難燃性及び絶縁層の平坦性に優れ、かつ、焼却時に有害物質をほとんど発生しない電気絶縁層用の複合樹脂成形体を提供する。 - 特許庁 - An image processing section 40 of the image forming apparatus selects and reads outs any one among the threshold tables stored in the memory unit 20 according to the stored density pattern information and the screen processing is performed by using the read out threshold table, thereby correcting the density of the image formation.
画像形成装置の画像処理部４０は、記憶された濃度パターン情報に応じて記憶部２０に記憶された閾値テーブルのうちいずれか一つを選択して読出し、読み出した閾値テーブルを用いてスクリーン処理を行うことによって画像形成の濃度を補正する。 - 特許庁 - In the apparatus, the most appropriate concentration control can always be carried out by setting the value of transfer bias applied when transferring a test pattern formed on the photoreceptor drum 4 to transfer material P by a transfer charging blade 8 to be a higher value than when transferring in a normal image formation.
感光ドラム４上に形成されたテストパターンを転写帯電ブレード８によって転写材Ｐ上に転写する際に印加する転写バイアスの値を、通常の画像形成時における転写時よりも高い値とすることにより、常に最適な濃度制御を行うことができる。 - 特許庁 - A coating material is applied to an object X to be decorated by a coating head 24 and laser beam L1 is radiated from the opposite side through the object X to be decorated to make formation of a decoration pattern possible without being influenced by the color and the thickness of the coating material.
装飾対象物Ｘに対して、塗布ヘッド２４から塗料を塗布するとともに、反対側から装飾対象物Ｘを透過させてレーザ光Ｌ１を照射することにより、塗料の色や厚さの影響を受けずに装飾体パターンを形成することが可能となる。 - 特許庁 - The display pattern of the figures c being displayed as first and third figures 19 and 21 changes to that combining the design information z2 with identifying information y2('2') from that of the design information z2(the design of 'child of water') (Fig. 6(a)) almost simultaneously with the formation of a ready-for-winning state.
リーチ状態が形成されると略同時に、第１，第３図柄１９，２１として表示されている図柄ｃの表示形態は、意匠情報ｚ２（「水の子」の意匠）のみの表示形態から、識別情報ｙ２（「２」）と意匠情報ｚ２が組み合わされた表示形態に変化する（図６（ａ））。 - 特許庁 - When installing the dielectric body and barrier ribs on the glass board 12, the material of dielectric body is placed on the top layer of the electrode, and thereon the material for the barrier ribs is placed, and after formation of the barrier rib pattern, the material of dielectric body and the patterned material of the barrier ribs are subjected to a baking process simultaneously.
他方の基板ガラス１２に、誘電体と隔壁と設けるに際し、電極の上層に誘電体材料を配置し、更に誘電体材料の上層に隔壁材料を配置し、隔壁パターン形成後、それら誘電体材料とパターン化した隔壁材料とを同時に焼成する。 - 特許庁 - To overcome the problem of a prior art such that the reaction product of the atom of a metal film and the gas of dry etching is generated for preventing the patterning of the insulating film in a termination process when the insulating film on the metal film is subjected to dry etching by a mask made of a photosensitive resin that is subjected to pattern formation.
金属膜上の絶縁膜を、パターン形成された感光性樹脂のマスクでのドライエッチングを行うと、終端工程で、上記金属膜の原子と上記ドライエッチングのガスとの反応生成物が生成され、上記絶縁膜のパターン化の支障になる。 - 特許庁 - A substrate of this invention is a substrate for thin film pattern formation in which banks are provided on its substrate and liquid thin film material is filled between the banks by the ink jet method or the like, and the bank is a one on which ruggedness processing is applied to at least a part of the surface of a side wall face or the like.
基板上にバンクが設けられ、バンク間にインクジェット法等により液状の薄膜材料が充填される薄膜パターン形成用基板であって、上記バンクは、側壁面等の表面の少なくとも一部に凹凸加工が施されたものである薄膜パターン形成用基板である。 - 特許庁 - The MOSFET is a non-punch-through type element, and the p-type body layer 3 has, at an end (channel formation region 3b or terminal region 5), a part having a longer trailing pattern of an p-type impurity concentration profile along the depth of the n-type drift layer 2 than a center part (body region 3a).
当該ＭＯＳＦＥＴはノンノンパンチスルー型の素子であり、ｐ型ボディ層３は、端部（チャネル形成領域３ｂまたは終端領域５）に中央部（ボディ領域３ａ）よりもｐ型不純物濃度プロファイルのｎ型ドリフト層２の深さ方向への裾引きが長い部分を有する。 - 特許庁 - To provide a variable rigidity type dynamic vibration absorbing device, capable of solving the problem of a pattern formation phenomenon if any generated due to vibration of a contact roll system, for example, to which there is no fundamental measure of prevention at site, giving fatal damage to the product, or causing a situation of setting an upper limit of line speed.
例えば、接触ロール系の振動により発生するパターン形成現象に対する現場の根本的な対策方法はなく、このパターン形成現象が発生した場合、製品に致命的なダメージを与たり、ライン速度の上限を設定せざるを得ない状況に陥る。 - 特許庁 - To provide a composition for the formation of an inorganic antireflection film with which an antireflection film having a high antireflection effect even in a rather thin film and having excellent adhesion property and sticking property with a resist film can be formed and a resist pattern having excellent resolution and accuracy can be formed.
簡便な方法により、比較的薄膜でも反射防止効果が高く、かつレジスト膜との接着性、密着性に優れる反射防止膜を形成でき、しかも解像度、精度に優れるレジストパタ—ンを形成できる無機系反射防止膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁 - To extend the possibility of local formation or modification of a pattern of specific magnetization direction in a planar magnetic surface or in a magnetic film and to obtain an improved magnetic storage and recording device having one or more surfaces in which such patterns are formed.
プレーナ磁気面または磁気膜内において、局所的に特定の磁化方向のパターンを生成または変異する可能性を拡張すること、及びこうしたパターンを設けられる１つ以上の表面を有する、改善された磁気記憶及び記録装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a polyimide precursor( polyamic acid ) to be used for producing a specific polyimide, high in convenience and enabling finer and more accurate pattern formation, to provide a composition containing the precursor, and to provide a method for producing a product intermediate using the precursor or the composition.
特定のポリイミドを製造するために用いられるものであって、利便性が高く、より微細で正確なパターン形成が可能となり得るポリイミド前駆体（ポリアミック酸）および当該前駆体を含む組成物、並びにこれらを利用する製品中間体製造方法を提供する。 - 特許庁 - Electrode paste, whose binder is a resin with a thermosetting temperature lower than a thermosetting temperature of binder resin of the resistor layer 21 and a glass transition temperature, is subjected to pattern formation in the surface of the resistor layer 21 and the resin is thermally set, thus forming an electrode layer 22.
次に前記抵抗体層２１のバインダー樹脂の熱硬化温度およびガラス転移温度よりも低い熱硬化温度を有する樹脂をバインダーとした電極ペーストを、前記抵抗体層２１の表面にパターン形成し、前記樹脂を熱硬化させて電極層２２を形成する。 - 特許庁 - The ceramic molding is formed by imparting an ink for formation of a conductor pattern containing metal particles and then sintering and used in manufacture of wiring boards.
本発明のセラミックス成形体は、金属粒子を含む導体パターン形成用インクが付与された後に焼結され、配線基板の製造に用いられるものであって、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に多価アルコールを含むことを特徴とする。 - 特許庁
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