「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 次へ＞- To solve the problem that Lov dimensions in a TFT cannot be formed with excellent controllability since a resist pattern sidewall tapering angle occurs from a desired tapering angle, in a photolithography process utilizing diazo naphto quinone(DNQ)-novolac resin-based positive resist in the gate electrode formation process of a GOLD structure TFT.
ＧＯＬＤ構造ＴＦＴのゲート電極形成工程のジアゾナフトキノン（ＤＮＱ）−ノボラック樹脂系ポジレジストを利用するフォトリソグラフィ工程に於いて、レジストパターン側壁テーパー角が所望のテーパー角より起っている為、当該ＴＦＴのＬｏｖ寸法を制御性良く形成できない問題があり、この問題を解決することを課題とする。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for foam shaping capable of obtaining a half stereoscopic image simply and accurately reproducing a rugged shape of a stereoscopic material to be copied and attaching a color, a design and a pattern to a half stereoscopic image in association with formation of the image.
複写対象となる立体物の凹凸形状を簡単に、かつ正確に再現した半立体画像を得ることができる発泡造形装置および発泡造形方法を提供するとともに、半立体画像の形成に伴って、色、柄、模様を半立体画像に付することができる発泡造形装置および発泡造形方法を提供する。 - 特許庁 - To make operation possible in a light room, and to enhance handleability, resolution, adhesiveness and storage stability and to make possible formation of a pattern high in density and precision and freedom by forming a photosensitive resin layer containing an infrared absorbing dye between a transparent organic support and an organic protective layer.
明室下での作業が可能で取扱性に優れる上に、解像性、密着性、保存安定性にも優れ、設備投資、環境安全面の問題がなく、多品種少量生産、短納期化に対応可能な半導体レーザー等の直接描画により、高密度かつ微細で自由度の高いパターン形成が可能な感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a display device in which formation of an organic layer onto an auxiliary wiring can be prevented without reducing an aperture ratio of a pixel at pattern-forming the organic layer on the lower part electrode by a contact transcription method, and in which improvement of display performance is enabled to be improved by preventing voltage drop of the upper part electrode by this.
接触転写法によって下部電極上に有機層をパターン形成する際に、画素の開口率を低下させずに補助配線上への有機層の形成を防止でき、これにより上部電極の電圧降下を防止して表示性能の向上を図ることを可能とした表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a light-curable resin composition enabling formation of an optically functional sheet having a fine pattern, and sufficiently satisfying adhesion to a sheet base material, mold releasability from a mold, a high refractive index of a work layer, surface hardness, flexibility and flaw resistance of the sheet, and to provide the optically functional sheet showing excellent front luminance.
本発明は、微細なパターンを有する光学機能性シートを形成可能とし、シート基材との密着性、金型との離型性、加工層の高屈折率、表面硬度とシートの柔軟性・耐擦傷性を十分に満足できる光硬化性樹脂組成物および正面輝度に優れた光学機能性シートを提供せんとするものである。 - 特許庁 - To provide a method capable of using a rugged pattern formed according to an imprinting process as a mask for controlling a micropore production initiating position when performing micropore formation onto substrate material such as aluminum and silicon according to an electrochemical process and, thereby, efficiently and reliably forming a regular hole array structure.
インプリントプロセスにより形成される凹凸パターンを利用し、その凹凸パターンを、アルミニウムやシリコン等の基材材料に電気化学プロセスにより細孔形成を行う際の細孔発生開始位置の制御を行うためのマスクとして使用することで規則的なホールアレー構造を効率良く確実に形成できるようにした手法を提供する。 - 特許庁 - To provide a high-storage stability dispersion composition having a high dispersibility of titanium black and not undergoing titanium black settlement even after a lapse of time; and to provide a photosensitive composition which, when used in pattern formation, prevents residues in an unexposed area and has a high adhesion sensitivity, a light-shielding color filter of a high light-shielding property, a solid state imaging device, and a liquid display device.
チタンブラックの分散性が高く、経時後もチタンブラックが沈降しない保存安定性の高い分散組成物を提供し、パターン形成したときに未露光部における残渣が抑制され、さらに密着感度が高い感光性組成物、遮光性の高い遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming an electrode or a wiring pattern, which is made of a metal thin film that is uniform and has high adhesiveness, from a solution-free and resin-free raw material containing no solution and no resin component, by using an aerosol deposition method having a different film-formation principle from those of a screen printing method using a conventional metal paste composition, a photo-lithographic method and the like.
従来の金属ペースト組成物を用いたスクリーン印刷法、フォトリソグラフィー法等とはその成膜原理が異なるエアロゾルデポジション法を用い、溶液や樹脂成分を含まない溶液，樹脂フリーの原料から、均一かつ密着性の高い金属薄膜からなる電極又は配線パターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁 - To produce an inexpensive base stock for a lead frame provided with mechanical strength that a lead material is not easily deformed, capable of radiating the heat generation of an element with high efficiency, excellent in electric characteristics and good in etching and punching properties needed for the pattern formation of a lead frame, to provide a method for producing it and to provide a semiconductor package using it.
リード材が容易に変形しないような機械的強度を備え、素子の発熱に対して効率よく放散することができ、電気的特性に優れ、リードフレームのパターン形成に必要なエッチング性や打ち抜き性が良好であり，且つ安価であるリードフレーム用素材とその製造方法と、それを用いた半導体パッケージとを提供すること。 - 特許庁 - To provide a violaceous-laser-sensitive image forming material and a violaceous-laser-sensitive image forming medium having high sensitivity to violaceous laser light even in the case of a thick film, suitable for use particularly in direct pattern formation with a violaceous laser, and excellent in safelight under a yellow light, and to provide an image forming method using the image forming medium.
青紫色レーザー光に対して厚膜でも高感度であり、特に青紫色レーザーによる直接描画に用いるのに好適で、黄色灯下でのセーフライト性に優れた青紫色レーザー感光性画像形成材料及び青紫色レーザー感光性画像形成材と、この画像形成材を用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin structure for flexographic printing capable of giving a print according to negative data without forming an unintended relief image in a plate making process in which a negative converted into digital information is used for direct pattern formation with an IR laser without using a negative film and to provide a method for manufacturing such structures in a good yield.
ネガフィルムを用いることなく、デジタル情報となったネガチブを赤外線レーザーを用いて直接描画する製版プロセスにおいて、本来意図しないレリーフ像を形成させず、ネガチブデータ通りの印刷物を得ることを可能とするフレキソ印刷用感光性樹脂構成体および、その歩留まりのよい製造方法を提供する。 - 特許庁 - Such an image, inhibited from being copied, is copied when the copying inhibition cancel condition is met but the pattern is deleted after updated trace information is acquired from a read image; and new trace information associated with the image formation is put together as updated trace information at the position where the original update trace information is present.
このような複写を禁止した画像について写禁止解除条件を満たした場合には複写を行うが、読取画像から更新追跡情報を取得した上でこのパターンを削除し、当該画像形成に関する新たな追跡情報を更新追跡情報として元の更新追跡情報が存在した位置に合成する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing occurrence of standing waves, having high sensitivity, having a large depth of focus (DOF) and having excellent in-plane uniformity (CDU) of a linewidth when a highly reflective substrate is directly used without using an antireflection film, and a resist film using the composition, and a pattern formation method.
反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In this fine pattern formation method, the process of covering the substrate having the photoresist with a cover molding agent, the process of shrinking the cover molding agent in question by heat treatment and narrowing the intervals between the photoresist patterns by its shrinkage action, and the process of removing the cover molding agent are performed several times.
ホトレジストパターンを有する基板上に、被覆形成剤を被覆する工程、熱処理により該被覆形成剤を収縮させ、その収縮作用によりホトレジストパターン間の間隔を狭小せしめる工程、および上記被覆形成剤を除去する工程を、複数回に亘って行うことを特徴とする微細パターンの形成方法。 - 特許庁 - To provide an original plate for letterpress printing with which the problems with the use of the conventional negative film and its alternative and the problems with formation of a mask pattern by an ink composition directly on the surface of a photosensitive resin layer can be simultaneously solved and a method for manufacturing a letterpress printing plate using the original plate for letterpress printing.
凸版印刷において、従来のネガフィルムおよびその代替品を用いた場合の問題点と、感光性樹脂層表面に直接インク組成物によりマスクパターンを形成する場合の問題点とを同時に解決することのできる凸版印刷用原版と、該凸版印刷用原版を用い凸版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The formation method for a film pattern includes steps of forming a self-organizing film on a substrate surface which has fluid repellency, providing a fluid material on the self-organizing film and drying it, giving energy to the back side of the substrate, and sintering the dried fluid material.
本発明は、基板の表面に、撥液性を有する自己組織化膜を形成する工程と、前記自己組織化膜上に液体材料を供与し、これを乾燥する工程と、前記基板の裏面側にエネルギーを付与する工程と、乾燥した前記液体材料を焼結させる工程と、を含むことを特徴とする膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive acting resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes of manufacturing a VLSI and a high-capacity microchip and has excellent line edge roughness and further a positive acting resist composition which has superior resolving power, defocusing latitude, and an exposure margin in contact-hole pattern formation.
超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus, control method thereof, program, recording medium with the program recorded thereon, and a process cartridge with which image formation is performed using a single color and a plurality of colors other than an uncorrectable color by performing correction on colors other than an undetectable color if an image position deviation correcting pattern can not be detected.
画像位置ずれ補正用パターンを検出できない場合には、検出できない色以外に関して補正を行い、単色及び補正ができない色を使用しない複数色を使用して画像形成を行う画像形成装置、該装置の制御方法、プログラム、及び該プログラムを記録した記録媒体、プロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and a development margin that achieves formation of a preferable pattern feature even a developing time exceeds the optimum developing time in a developing process, and capable of forming a patterned thin film with excellent adhesiveness, and to provide an interlayer insulating film and a microlens formed from the composition.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物およびそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition useful for a process using light with shorter wavelength than KrF excimer laser light, for example, F_2 excimer laser light (157 nm) or EUV (vacuum ultraviolet light 13 nm), allowing formation of resist pattern with high resolution and good shape of cross section, and to provide an alkali-soluble polysiloxane resin capable of providing a substrate provided with the resist layer.
ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_２エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供できるアルカリ可溶性ポリシロキサン樹脂を提供すること。 - 特許庁 - This method for manufacturing electronic parts for a high frequency a process for performing pattern formation of a plated resist 2 on the surface of a ceramic element assemble or a ceramic element assembly 1 for a dielectric resonator, a process for forming an electroless plating film 5, a process for forming an electroplating film 6 and a process for peeling the plated resist 2.
本発明に係る高周波用電子部品の製造方法は、セラミック素体または誘電体共振器用セラミック素体１の表面上にめっきレジスト２をパターン形成する工程と、無電解めっき膜５を形成する工程と、電解めっき膜６を形成する工程と、めっきレジスト２を剥離する工程とを有していることを特徴とする。 - 特許庁 - In this manufacturing method of this inspection probe substrate for forming projections and a wiring pattern connected to the projections on a substrate equipped with a copper foil, formation of the projection is performed by bonding an Au ball and then moving a capillary on which an Au wire is clamped, and thereafter, first plating and second plating are applied onto the projection.
銅箔を備えた基板に突起と該突起に接続する配線パターンとを形成する検査用プローブ基板の製造方法において、前記突起の形成は、Ａｕボールをボンディングした後にＡｕワイヤをクランプしたキャピラリを移動することにより行ない、その後前記突起の上に第１のめっき及び第２のめっきを施したことにある。 - 特許庁 - To decrease a curing temperature in forming a liquid-repellent pattern, to materialize the formation of a fine recessed part in spite of a relatively thick surface protecting layer, and to eliminate a hindrance for a coating liquid to be repelled even when a filler of a polishing agent is added into the surface protecting layer.
撥液性模様形成時の硬化のための温度を低くすることができること、比較的厚い表面保護層を有しながらも、細かい凹部の形成が実現できること、また、表面保護層中に研磨剤と呼ばれている充填剤を加えても、コーティング液がはじかれるのに支障がないこと等を実現することを課題としている。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive resin eliminating difficulty of a conventional technique, used for fine pattern formation in semiconductor production, and enhancing resist sensitivity more than in conventional products, wherein an effect of reduction of a foreign matter or the like after development is expected, and also to provide a novel dithiol compound which is used suitably for production of the positive photosensitive resin.
従来技術の難点を解消し、半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりもレジスト感度を高めることができると共に、現像後の異物の低減等の効果が期待されるポジ型感光性樹脂、及び、このポジ型感光性樹脂の製造に極めて好適に用いることができる新規ジチオール化合物を提供する。 - 特許庁 - At such a time, a transmission bit rate such as a modulation scheme or an encoding rate is adjusted in accordance with an SDMA environmental parameter variation such as the number of multiplexing SDMA, beam formation updating frequency in transmission and variation status of propagation path characteristics, thereby a problem is absorbed of a deviation from an optimal transmission bit pattern that changes with the passage of time.
このとき、ＳＤＭＡの多重数、送信時のビーム形成更新頻度、伝搬路特性の変動状況などのＳＤＭＡ環境パラメータの変動に応じて、変調方式や符号化率などの送信ビットレートを調整することで、時間の経過とともに変化する最適な送信ビットパターンとのずれの問題を吸収する。 - 特許庁 - To provide a thermosetting composition rich in pigment with a small amount of a resin used, suitable for etching, excellent in spectroscopic characteristics, pattern form's rectangularity and adhesion to lower and upper layers, and capable of thin-film formation, to provide a color filter and an image recording material each using the composition, and to provide a method for producing the color filter.
エッチングに好適であり、分光特性、パターン形状の矩形性、並びに、下層および上層との密着性に優れ、かつ、薄膜化が可能であり、更に、樹脂の総使用量が少なく高濃度な顔料含有熱硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタ、画像記録材料およびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the magnetic recording medium using the imprint method for pattern formation, as the preprocessing of an imprint process, an exposure process is performed for exposing a substrate having the resist film formed on the surface thereof to an atmosphere of a temperature higher than a temperature upon imprint and environmental pressure lower than environmental pressure upon imprint.
パターン形成にインプリント法を用いる磁気記録媒体の製造方法において、インプリント工程の前処理として、表面にレジスト膜を形成した基板を、インプリント時の温度より高い温度、かつ、インプリント時の環境圧力より低い環境圧力の雰囲気に暴露させる暴露処理を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁 - To enhance fine dispersibility of a pigment of a pigment dispersion composition to enhance storage stability and coloring force, to enhance optical sensitivity, storage stability, coloring force, a support adhesiveness and developability of a coloring curable composition to suppress reduction of a development residue and a color concentration (removal of color), and to attain formation of pattern of sufficient cross section shape.
顔料分散組成物の顔料の微細分散性を高め、保存安定性、着色力を向上し、着色硬化性組成物の光感度、保存安定性、着色力、支持体密着性、及び現像性を高め、現像残渣及び色濃度の低下（色抜け）を抑え、良好な断面形状のパターン形成を可能にする。 - 特許庁 - On a TFT array substrate 10 of the reflection type electrooptic device 100, an unevenness formation layer 6g in the same layer the a data line 6a is formed in a specified pattern below a light reflecting film 8a and a photosensitive resin layer 7a is formed of photosensitive resin 7 above it by half-exposure through an exposure mask 200, development, and heating.
反射型電気光学装置１００のＴＦＴアレイ基板１０において、光反射膜８ａの下層側には、データ線６ａと同層の凹凸形成層６ｇが所定のパターンで形成され、その上層には、感光性樹脂７に対して、露光マスク２００を介してのハーフ露光、現像、および加熱を行って感光性樹脂層７ａを形成してある。 - 特許庁 - To provide a green sheet and its manufacturing method in which a manufacturing process is simplified and a loss of a material used for an electrode is prevented and an electrode pattern can be formed without a drying process during a formation of the electrode, and provide a plasma display panel using the above green sheet and a manufacturing method of the plasma display panel.
プラズマディスプレイパネル及びその製造工程において、製造工程を単純化し、電極に用いられる材料の損失を防止し、電極形成時、乾燥工程なしに電極パターンを形成できるグリーンシート及びその製造方法と製造装置、並びにこれを用いたプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a dielectric element of a structure, where voids and seams will not to generated, a Pt electrode having superior electrical characteristics can be formed simply and at the same time, the problems of contamination or the like a processing chamber are not generated and the formation of a microscopic pattern is possible in the dielectric element using a Pt layer as an electrode material, and the manufacturing method of the element.
電極材料としてＰｔを用いた誘電体素子において、ボイドやシームが生じることがなく、電気特性に優れたＰｔ電極を簡便に形成することができるとともに、処理室内汚染等の問題がなく、かつ、微細パターンの形成が可能な誘電体素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - In this treatment, the developed original disk is subjected to original disk surface hydrophilic treatment, susceptibility treatment, a first activation treatment, a second activation treatment, nonelectrolytic zinc oxide plating treatment and nonelectrolytic nickel plating treatment according to the conductive coating film formation treatment to form a conductive coating film of nickel on an information pattern surface side of the original disk 3.
本処理では、現像処理後の原盤に図４のフロー図に示す導電性被膜形成処理に従って原盤表面親水化処理、感受性化処理、第１の活性化処理、第２の活性化処理、無電解酸化亜鉛めっき処理、無電解ニッケルめっき処理を順に行うことにより原盤３の情報パタン面側にニッケルの導電皮膜を形成する。 - 特許庁 - To provide an ink jet recorder which can easily and appropriately control a hitting position of ink (formation position of dots) by controlling a scanning speed according to a distance interval between a recording head and a recording medium, controlling a discharge speed of ink to be discharged from the recording head, adjusting a discharge timing of ink by an appropriate test pattern, or the like manner.
記録ヘッドと記録媒体の距離間隔に応じて走査速度を制御し、又は、記録ヘッドより吐出するインクの吐出速度を制御し、或いは、適切なテストパターンによってインクの吐出タイミングを調整すること等によってインクの着弾位置（ドットの形成位置）を容易に且つ適切に制御することのできるインクジェット記録装置を提供すること。 - 特許庁 - In adjacent light-emitting units 160, each color element 92 of the light-emitting element 90, and a frequency 170 of a vibration added for formation of the ruggedness on the interface of a hole transport layer 54 are arranged in a given alignment pattern so that frequencies 170 of the vibration given at least one or more color elements of the same color are to be different.
隣接する発光単位１６０において、少なくとも１つ以上の同一色の色要素９２に与える振動の周波数１７０を異なるようにすべく、発光層９０の各色要素９２と、正孔輸送層５４の界面に凸凹を形成すべく付加する振動の周波数１７０とを所定の配置パターンに従い配置する。 - 特許庁 - The Ni film is dissolved and removed using mixed acid aqueous solution containing 15-25 wt.% of sulfuric acid and 5-15 wt.% of nitric acid when the Ni film formed on the surface of the mask member is removed from the mask member made of stainless steel used for forming the Ni film in a prescribed pattern on a substrate by a thin film formation technique.
薄膜形成技術によって基材上に所定のパターンでＮｉ膜を形成するために使用される、ステンレス鋼製のマスク部材について、その表面に形成されたＮｉ膜を除去するにあたり、硫酸を１５〜２５wt%、硝酸を５〜１５wt%含有する混酸水溶液を用いて、前記Ｎｉ膜を溶解、除去することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a barrier rib forming resin compound with excellent barrier rib forming characteristics, stability of preservation, and removal operation efficiency of relief pattern after elapse of time, and a barrier rib formation resin compound element with excellent workability; and a barrier rib manufacturing method which can shorten the manufacturing process of the barrier rib, and form the barrier rib with good shape.
プラズマディスプレイパネルのバリアリブ形成性及び保存安定性、経時のレリーフパターンはく離除去性に優れたバリアリブ形成用樹脂組成物、さらに作業性に優れるバリアリブ形成用樹脂組成物エレメント並びにプラズマディスプレイパネルのバリアリブ製造工程を短縮化でき、形状の優れたバリアリブを形成できるバリアリブの製造法を提供する。 - 特許庁 - In the liquid crystal display device 1 in which the alignment films 40, 40a are formed by the alignment film printing system which is noncontact with respect to the substrate 11, wetting and spreading of an alignment material are controlled to permit formation of the alignment films 40, 40a having uniform thickness by providing a printing control pattern 60 between a seal member 50 and a display area.
基板１１に対して非接触な配向膜印刷方式により配向膜４０、４０ａを形成した液晶表示装置１において、シール材５０と表示領域の間に印刷制御パターン６０を設けることにより、配向材の濡れ広がりを制御し膜厚を均一にできる配向膜４０、４０ａを形成する。 - 特許庁 - In a transistor comprising a gate electrode 11, a gate insulating film 2, a source electrode 17, a drain electrode 16 and the organic semiconductor layer 3 formed on a substrate, the sealing layer 4 is included on the semiconductor layer, and a printing method is used for its formation to form a stripe shape, by which a pattern is simply formed, and high alignment accuracy is obtained together with the high yield.
基板上に形成されたゲート電極１１、ゲート絶縁膜２、ソース電極１７、ドレイン電極１６および有機半導体層３を含んでなるトランジスタにおいて、半導体層上に封止層４を有し、その形成に印刷法を用い、ストライプ状にすることで、簡易にパターンを形成でき、歩留まりよく、高いアライメント精度が得られる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive siloxane composition which is used in formation of a planarizing film for a thin film transistor (TFT) substrate having such properties as high transmittance, heat resistance and insulation, an interlayer insulation film of a semiconductor device, or a core or cladding material of an optical waveguide, and which has high sensitivity, shortens developing time, and gives a pattern film readily soluble in an alkaline aqueous solution.
高い透過率、耐熱性、絶縁性の特性を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板用平坦化膜、半導体素子の層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材などの形成に用いられる、高感度で現像時間を短縮でき、パターン膜がアルカリ水溶液に容易に溶解する感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an ultraviolet curable inkjet composition excelling in storage stability and suitably usable for the formation of a pattern (printed part) excelling in glossiness and scuff resistance, metallic powder used for producing the ultraviolet curable inkjet composition, a method for efficiently producing the metallic powder, and a recorded matter having the pattern excelling in glossiness and scuff resistance which is formed using the ultraviolet curable inkjet composition.
保存安定性に優れ、光沢感、耐擦性に優れたパターン（印刷部）の形成に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、当該紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる金属粉末を提供すること、前記金属粉末を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、また、前記紫外線硬化型インクジェット組成物を用いて形成された光沢感、耐擦性に優れたパターンを有する記録物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a liquid crystal component that can considerably shorten a cycle time of the whole laminating process while surely forming a resin layer in a desired form through resin application by applying optical resin in an optimal pattern for target resin layer formation in an extremely short time in forming a layer of the optical resin recently developed and announced.
最近開発され発表された光学樹脂の層を形成するに際し、この光学樹脂を極めて短時間で目標とする樹脂層形成のための最適なパターンにて塗布できるようにし、その樹脂塗布を介して確実に望ましい形態の樹脂層を形成するとともに貼り合わせ工程全体のタクトタイムを大幅に短縮できる液晶部品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To suppress a formation of void inside a semiconductor device to be obtained and enhance its reliability even in the case where a misregistration occurs between a resist pattern for forming a damascene wiring layer and a wiring layer when, especially, the damascene wiring layer formed by using a damascene method is electrically connected to other wiring layers to form the semiconductor device having the wiring layer of a multilayer structure.
特にダマシン法を用いて形成するダマシン配線層を他の配線層と電気的に接続して多層構造の配線層を有する半導体装置を形成するに際し、ダマシン配線層を形成するためのレジストパターンと前記配線層との位置ずれが生じた場合においても、得られる半導体装置内でのボイドの形成を抑制し、その信頼性を向上させる。 - 特許庁 - The present invention provides a manufacturing method comprising: a film formation process which forms vapor phase synthesized diamond film 2 on a main surface of a silicon substrate 1 by a vapor phase deposition method; a routing process which forms a pattern on the vapor phase synthesized diamond film 2 using a laser; and a protrusion process which forms a protrusion on the routed vapor phase synthesized diamond film 2 by a reactive chemical dry etching.
本発明は、シリコン基板１主面部に気相合成法によって気相合成ダイヤモンド膜２を成膜する成膜工程と、該気相合成ダイヤモンド膜２をレーザーによって外形を切り出す外形工程と、切り出した気相合成ダイヤモンド膜２に反応性化学ドライエッチングによって突起を形成する突起工程を経ることを特徴とするダイヤモンドプローブの製造方法である。 - 特許庁 - Polymer-based primer is added to paper made of nonwoven fabric or woven fibers made of heat-resistant synthetic fiber, a middle layer is provided, a base that is formed by impregnating the paper with resin is subjected to thermally mold with copper foil, and the copper foil is subjected to pattern etching, thus obtaining a circuit formation substrate that has excellent copper foil coherency and base interlayer peeling strength.
耐熱性合成繊維からなる不織布あるいは織布繊維からなるペーパーにポリマー系プライマーを付与し、中間層を設けた後、ペーパーに樹脂を含浸させて形成した基材を銅箔とともに圧熱成型して銅箔基材を形成した後、前記銅箔にパターンエッチングを施すことにより銅箔密着性、基材層間剥離強度に優れた回路形成基板を得る。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which can keep both high adhesion to and high peelability from the substrate even in using the substrate for circuit formation having less surface irregularity, and is excellent in plating resistance, etching resistance and resolution, and to provide a photosensitive element using the composition, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.
表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁 - To provide the composition of an antireflection film material for a photoresist which enables the formation of an antireflection film having high absorbance with respect to light of wavelengths used for exposure and the reduction in the adverse effect of standing waves caused by the reflection from a substrate, to improve the limit resolving power of the photo resist and to obtain a good resist profile and also to provide a resist pattern forming method using the composition.
露光に用いられる波長の光に対して吸光度が高い反射防止膜が形成され、基板からの反射により発生する定在波の悪影響を低減することができ、その結果、フォトレジストの限界解像力が向上し、良好なレジストプロファイルが得られるフォトレジスト用反射防止膜材料組成物及びそれを用いたレジストパターン形成法を提供すること。 - 特許庁 - A manufacturing method for the circuit board is characterized in that a reinforcing plate is stuck on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after the metal layer of ≥5 μm in thickness is formed on at least one surface of the flexible film, and the flexible film is peeled off the reinforcing plate after a circuit pattern is formed on the surface where the reinforcing plate is not stuck.
可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ５μｍ以上の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離することを特徴とする回路基板の製造方法。 - 特許庁 - The surface unevenness formation method comprises: the step of forming an energy-sensitive negative type resin composition containing at lest one or more kinds of polymerizable monomer or oligomer; the step of emitting 0.005 to 1.0J/cm^2 of active energy rays at least one or more times via a mask formed in a pattern; and the step of subjecting to post-heating without an etching operation.
少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上０．００５〜１．０Ｊ／ｃｍ^２照射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程を含む表面凹凸形成方法。 - 特許庁 - The control means is configured to extract the adjacent divided images in a predetermined order from one specified image, detect images in the same pattern formation area included in the overlapping area for each of the two adjacent divided images as a synthetic reference image, then, synthesize the two adjacent divided images based on the synthetic reference image, and then, form an SEM image in the entire observation area.
制御手段は、指定された一つの分割画像から所定の順序で隣接する分割画像を抽出し、隣接する２つの分割画像毎に重複領域に含まれる同一のパターン形成領域の画像を検出して合成基準画像とし、合成基準画像を基に隣接する２つの分割画像を合成して、観察領域の全体のＳＥＭ画像を形成する。 - 特許庁 - To provide a positive radiation-sensitive composition that has good radiation sensitivity, and from which high light transmittance, voltage retention, and good developability and pattern forming property capable of reacting on changes in cured film formation condition are provided to an interlayer dielectric film obtained, the interlayer dielectric film formed from the composition and a method for forming the interlayer dielectric film.
優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
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