「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 46 47 48 49 50 51 52 53 54 .... 57 58 次へ＞- To provide a wireless base station capable of enhancing the accuracy of directive pattern formation in the case of communication between a terminal station employing the individual UW (Unique Word) system and a terminal station employing the common UW system by using the space multiplex system.
本発明は、個別ＵＷ方式の端末局と共通ＵＷ方式の端末局と空間多重方式を用いて通信する場合の指向性パターンの形成精度を向上する無線基地局を提供する。 - 特許庁 - The formation of an upper electrode 42 is performed by transforming a liquid 2 containing fine metallic particles into a metallic film through heat treatment after the liquid 2 is applied directly to the surface of a piezoelectric layer 40 in a pattern by means of an ink-jet head 101.
上部電極４２の形成を、インクジェットヘッド１０１により金属微粒子を含有する液体２を圧電体層４０の上に直接パターン塗布した後、熱処理を施して液体２を金属膜に変換することで行なう。 - 特許庁 - The distance between the positions (m, n) and (m+i, n+j) is determined so that the first and second droplets join mutually after spreading in the pattern formation area.
そして、前記第１液滴と前記第２液滴とが、前記パターン形成領域上で広がった後で互いに合流するように、前記（ｍ、ｎ）の着弾可能位置と前記（ｍ＋ｉ、ｎ＋ｊ）の着弾可能位置との間の距離が決められている。 - 特許庁 - At least at part of a circuit formation surface of the insulating layer 10, a 2nd insulator layer 20 which is thick enough to bury the circuit pattern 13 is formed by using a material which is not dissolved with a solution for etching the insulator layer 10.
この絶縁体層１０の回路形成面の少なくとも一部に、絶縁体層１０をエッチングする溶液では溶解しない材料を用いて、回路パターン１３を埋め尽くす厚さの第２絶縁体層２０を形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a push-button switch body capable of relatively precisely forming a shape on a key top part, and of reducing risk of occurrence of restriction in design or a product shape by facilitating formation and determination of a small pattern.
キートップ部に形状を比較的精密に形成でき、小さな模様の形成や判別を容易にして意匠や製品形状に制約の生じるおそれを減少させ得る押釦スイッチ体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - It is determined whether the formation and detection of a pattern image and the correction of image forming characteristic in an image forming means is performed or not in accordance with toner amount in the toner collecting container 200 detected by a toner amount detection means 23.
トナー量検知手段２３で検知したトナー回収容器２００内のトナー量に応じて、パターン画像の形成と検出、及び、画像形成手段における画像形成特性について補正の実行可否を判断する。 - 特許庁 - To provide a composition for formation of an antireflection film having a high antireflection effect, causing no intermixing, and capable of forming a resist pattern excellent in resolution, accuracy or the like, and to provide an antireflection film formed from the composition.
反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることがなく、解像度および精度などに優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物およびそれから形成された反射防止膜を提供すること。 - 特許庁 - The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a functional group whose pKa is 8-14 within a molecule, a binder, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator.
分子内に連鎖移動可能な官能基とｐＫａが８〜１４の範囲にある官能基とを有する化合物、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁 - To obtain a prepreg capable of decreasing formation of voids and increasing reliability, being excellently holed by a laser beam in producing a multilayer printed wiring board having a circuit pattern of high density/high fineness.
高密度・高ファインの回路パターンを有する多層プリント配線板を製造するにあたって、ボイドの発生を低減し信頼性を高く得ることができると共に、レーザによる穴あけを良好に行うことのできるプリプレグを提供する。 - 特許庁 - To form a time pattern which includes a warm-up time, starting from a start until the initiation of supplying electric power and hot water, and termination time of system which includes stopping time of power generation and hot water formation, in a fuel cell cogeneration system.
燃料電池コージェネレーションシステムは、起動してから電力と温水との供給を開始するまで、暖気のための時間が必要であり、システムを停止した時も、発電と温水生成が瞬間的に停止するものでない。 - 特許庁 - To provide a projection optical system which can obtain pattern images of a desired line width over an effective image formation area without being substantially affected by scattered lights caused by the surface roughness, etc. of a refraction face or reflection face, for example.
たとえば屈折面や反射面の表面粗さなどに起因する散乱光の影響を実質的に受けることなく、有効結像領域の全体に亘って所望線幅のパターン像を得ることのできる投影光学系。 - 特許庁 - To provide a method for producing a color filter by which occurrence of residues on development attributable to insufficient rinse by the effect of irregularity made by formation of a first layer can be prevented, each color pattern is configured into a proper rectangular geometry, and to provide a color filter with high planarity can be produced.
第１層が形成されてできた凹凸の影響によるリンス不足に起因する現像残渣の発生を防止し、各色パターンが良好な矩形状に構成され、平坦性の高いカラーフィルタを作製する。 - 特許庁 - This method for forming a conductive pattern includes a process to apply solder paste 16 by screen printing with a part of an IC chip 12 covered with an elastic sheet 2 in which an opening 4 is formed in the formation area of solder 18, on the circuit board 11.
回路基板１１上において、ハンダ１８の形成領域に開口４が形成された弾性シート２でＩＣチップ１２の少なくとも一部を覆った状態で、ハンダペースト１６をスクリーン印刷により塗布する工程を備える。 - 特許庁 - The method for manufacturing the instrument dial includes an asperity pattern formation process for forming a hairline pattern 54 on a second area 50 by crimping a sheetlike member on an upper mold 11 on which an asperity part (a protruded streak part 112 and a recessed streak part 113) is formed to press the asperity part of the upper mold 11 against part of the sheetlike member.
計器表示板の製造方法は、凹凸部（凸条部１１２および凹条部１１３）が形成された上金型１１にシート状部材を圧着させることにより、シート状部材の一部に上金型１１の凹凸部を押し付けて第２の領域５０にヘアライン模様５４を形成する凹凸模様成形工程を有する。 - 特許庁 - To provide a column spacer composition enabling simultaneous formation of a saturated pattern and a semi-transmissive pattern as column spacer patterns having different shapes, whose difference in thickness is controllable as desired although the sensitivity is slightly reduced, through a slit or semi-transmissive mask by varying the kind and amount of the radical polymerization inhibitor.
本発明は、カラムスペーサの中でもスリットや半透過マスクを用いて同時に２つの異形状のカラムスペーサを作製する特殊な場合において、ラジカル重合禁止剤の種類や量を変更することにより、感度は小幅減少しても２つのパターン(飽和パターン、半透過パターン)の差を自由に調節できるカラムスペーサ組成物を提供することができる。 - 特許庁 - A mask is formed on a permeable substrate, a first region having an optically catalytic film on the substrate and the mask is formed, light is allowed to penetrate the substrate to irradiate light to the optically catalytic film, a second region is formed by partially reforming the first region, and a pattern is formed by delivering a composition containing a pattern formation material to the second region.
透光性を有する基板上にマスクを形成し、基板及びマスク上に光触媒膜を有する第１の領域を形成し、基板に光を通過させて光触媒膜に照射し、第１の領域の一部を改質して第２の領域を形成し、第２の領域にパターン形成材料を含む組成物を吐出してパターンを形成する。 - 特許庁 - A server B includes a storage means for storing management information of a recording medium; an update means for updating the management information; a pattern file creation means 3 for creating a pattern file of use propriety information of the recording medium included in the management information; and a transmission means for transmitting the created file of the propriety information to an image formation device A.
サーバＢは、記録媒体の管理情報を記憶する記憶手段と、管理情報を更新する更新手段と、管理情報に含まれる記録媒体の使用可否情報のパターンファイルを作成するパターンファイル作成手段３と、作成された使用可否情報のパターンファイルを画像形成装置Ａに送信する送信手段とを備える。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.
特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an embossed sheet dispensing with the formation of a hot press mold and a hot press roll, capable of altering an embossed pattern easily, having economical efficiency, retaining fine protruded and recessed patterns without resuming flat surface and capable of arbitrarily regulating the depth of the unevenness of the embossed pattern, to provide a method for manufacturing the same and an embossed sheet manufacturing apparatus.
熱プレス型、熱プレスロールを作成する必要がなくなるとともに、凹凸パターンの変更を容易に行なうことができ経済的で、細かい凸部や凹部でも平坦に逆戻りすることはなく、凹凸パターンの凹凸の深さを任意に調節できる凹凸シートとその製造方法および、凹凸シート製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which has high transparency for radiations, has excellent resist fundamental physical properties such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern formation, and has high resolution performance and small pattern line edge roughness, to provide a polymer capable of being used for the composition, and to provide a new compound used for synthesizing the polymer.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、解像性能が高く、パターンのラインエッジラフネスが小さい感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。 - 特許庁 - To provide a membrane pattern formation method capable of suppressing a material for forming the membrane pattern from being wastefully consumed and easily discriminating a defective article and an acceptable article in a post-step, a production method for an elastic surface wave device, a liquid drop delivery apparatus, an elastic surface wave device, an elastic surface wave oscillation apparatus and an electronic instrument.
膜パターンを形成する材料が無駄に消費されることを抑制できると共に、後工程において、不良品を良品と区別し易くすることができる、膜パターン形成方法、弾性表面波デバイスの製造方法、及び液滴吐出装置、並びに弾性表面波デバイス、弾性表面波発振装置、及び電子機器を実現する。 - 特許庁 - Consequently, in the light guide plate 2 formed by the manufacturing method, even if the plate thickness is reduced, progress of light propagating from an incident surface 4 side toward a tip side 21 is hardly disturbed by the minus protrusions 14b of the rough surface pattern 14, and the formation ratio of the rough surface pattern 14 to the rough surface part 15 can be easily adjusted.
その結果、本発明の製造方法によって形成される導光板２は、その板厚を薄くしたとしても、入射面４側から先端側２１へ向かって伝播する光の進行が粗面パターン１４のマイナス突起１４ｂで邪魔されることが少なく、粗面パターン１４と粗面部１５の形成比率を調整することが容易になる。 - 特許庁 - Background information having a pattern of copying inhibition information, representing inhibition of copying, copying inhibition cancel information, canceling the inhibition of copying under a certain conditions, and tracing information, specifying an image formation source, arranged in an internal area 42 and also has a pattern of updated trace information, arranged in an end area 41 is put together with foreground information.
複写を禁止する旨の複写禁止情報と、その複写禁止を特定の条件の時に解除する複写禁止解除情報と、画像形成元を特定する追跡情報のパターンを内部領域４２に配置し、更新追跡情報のパターンを端部領域４１に配置した背景情報を前景情報と合成して形成する。 - 特許庁 - The method is used to manufacture a wiring board, wherein a pattern wiring is formed on a board, and it includes an aerosol film formation step of forming a conductive layer by collision of aerosol and a patterning step of patterning the conductive layer by etching and form the pattern wiring including the conductive layer.
基板上にパターン配線が形成されてなる配線基板の製造方法であって、前記基板上に、エアロゾルの衝突によって導電層を形成するエアロゾル成膜工程と、前記導電層をエッチングによりパターニングして当該導電層を含む前記パターン配線を形成するパターニング工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 特許庁 - An upper part of a circuit pattern 29 connected to the fixed side contact points 31 is covered with an insulation layer 30 with the circuit pattern 29 in a buried state, and the surface of the insulation layer 30 is protruded to make up protrusions 34, on a tip face of which, the fixed side contact points 31 is arranged to structure the fixed side formation 23.
固定側の接点３１に接続される回路パターン２９の上部を絶縁層３０で覆い、回路パターン２９を埋設状態にするとともに、絶縁層３０の表面を突出させて突出部３４を形成し、その突出部３４の先端面に固定側の接点３１を配置して固定側形成体２３を構成する。 - 特許庁 - To provide a spot resist film peeling machine which can continuously perform etching added to a quartz substrate 1 and peel a resist film pattern 3' of only a pattern for phase difference measurement without repeating the formation of a resist film, electron beam drawing, and development when it becomes evident that the depth of a shifter is insufficient when a Revenson type phase shift mask 60 is manufactured.
レベンソン型位相シフトマスク６０の製造において、シフターの深さが不足していることが判明した際に、レジスト膜の形成、電子線描画、現像を繰り返し行うことなく、石英基板１に追加したエッチングを継続して行うことができる、位相差測定用のパターンのみのレジスト膜パターン３’を剥膜するスポットレジスト剥膜機を提供すること。 - 特許庁 - To provide a conductive pattern material, having a wide range of applications which can attain high-resolution minute patterns, even when applied to the formation of a wiring, etc., using a plurality of different materials without necessitating complicated processes or expensives devices, and can directly form a pattern on a substrate based on digital data with superior conductivity and durability.
複雑な工程や高価な装置を必要とせず、複数の異なる材料を用いた配線などの形成に適用した場合にも、高解像度の微細なパターンが得られ、且つ、デジタルデータに基づき基材上に直接パターン形成が可能な、優れた導電性と耐久性とを有する応用範囲の広い導電性パターン材料を提供する。 - 特許庁 - A printer control device performs, in image formation process control, processing of detecting a misalignment detection pattern (step S305), and processing of detecting a concentration detection pattern (step S307), and thereafter refers to a first reference signal level and a second reference signal level to determine whether the results of the detection processing are valid or not (step S309).
プリンタ制御装置は、画像形成プロセス制御において、位置ずれ検出用パターンの検出処理（ステップＳ３０５）、及び濃度検出用パターンの検出処理（ステップＳ３０７）を行った後、第１参照信号レベル及び第２参照信号レベルを参照し、検出処理の結果が有効であるか否かを判断する（ステップＳ３０９）。 - 特許庁 - This device manufacturing apparatus IJ is provided with: the ink-jet head 20 capable of jetting ink to a pattern forming region of a substrate P; flushing regions 52 and 59 formed in parts other than the pattern formation region; and a control device CONT for controlling jetting of the ink-jet head 20 so as to jet the ink to the flushing regions 52 and 59.
デバイス製造装置ＩＪは、基板Ｐのパターン形成領域に対してインクを吐出可能なインクジェットヘッド２０と、パターン形成領域以外の部分に設けられたフラッシング領域５２、５９と、フラッシング領域５２、５９に対してインクを吐出するようにインクジェットヘッド２０の吐出動作を制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus that accurately detects toner image density of a reference density pattern and carries out image formation with preferable density, irrespective of characteristics of a photoreceptor drum that carries a reference density pattern or the surface of an intermediate transfer belt, after use of a light-emitting element that constitutes a toner density sensor for a long period, which results in decrease in brightness.
基準濃度パターンを担持する感光体ドラム、あるいは中間転写ベルトの表面の特性に依らずに、トナー濃度センサを構成する発光素子が長時間点灯し光度が低下したときでも基準濃度パターンのトナー像濃度を正確に検出し、好ましい濃度の画像形成を行うことができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - An image enhancing mask 6 for pattern formation includes a transmissive substrate which transmits exposure light and a semi-light-shielding portion 8 which is formed on the transmissive substrate and has transmittance allowing the exposure light to be partially transmitted and corresponds to an isolation line pattern, and a phase shifter 9 which is provided at an opening in the semi-light-shielding portion 8.
パターン形成用のイメージ強調マスク６は、露光光に対して透過性を有する透過性基板７と、透過性基板７上に形成され、露光光の一部分を透過させる透過率を持ち且つ孤立ラインパターンと対応する半遮光部８と、半遮光部８の内部の開口部に設けられた位相シフター９とを備えている。 - 特許庁 - To obtain a new copolymer suitable as a coating film-forming polymer for obtaining a resist pattern highly adhesive to a substrate and slight in pattern spoilage in an ultrafine pattern formation step in semiconductor production process through eliminating drawbacks involved in conventional techniques, to provide a method for producing the copolymer, and to obtain a new thiol compound useful as a chain transfer agent in producing the copolymer.
従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an electronic component which is capable of fine pattern formation of high aspect ratio for fine wiring by using a print paste for a screen printer which extrudes the print paste on a matter to be printed from a mouth ring through a screen print by compulsory pressurization.
強制的な加圧により印刷ペーストを口金からスクリーン版を通し被印刷物上に押し出すスクリーン印刷機に用いて、微細配線化のための微細かつ高アスペクト比のパターン形成が可能な電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The first resist frame 6 is formed by means of washing the developing solution with a cleaning liquid, and the minute pattern formation material 8 including a material corsslinking with an existence of an acid, is applied on a substrate 1, on which the cleaning liquid 7 is forced to stick.
現像液を洗浄液で洗浄して第１のレジストフレーム６を形成し、洗浄液７を基板１上に付着させた状態で基板１上に酸の存在で架橋する材料を含む微細パターン形成材料８を塗布する。 - 特許庁 - To provide an acrylic polymer which is suitable for a radiation-sensitive resin composition which has high transparency to radiation and excels in the basic properties (e.g. sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern shape) as a resist and particularly excels in contact hole formation.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、コンタクトホール形成に優れる感放射線性樹脂組成物に適したアクリル系重合体を提供する。 - 特許庁 - To realize the formation of a thin film wherein the waste of a film material is omitted to enhance utilization efficiency in forming the thin film on a semiconductor substrate and the irregularity of the thickness of the formed film is not determined by the pattern on a semiconductor wafer.
半導体基板への薄膜の形成において、膜材料の無駄を省き利用効率を高め、しかも形成される膜の膜厚のばらつきが半導体ウエハ上のパターンによって決定されることのない薄膜形成を実現する。 - 特許庁 - To minimize a movement of a dispense head, to enable a reduction in vibration at work and forming accurate pattern formation and to enable paste coating corresponding to a large-sizing of a planar display device without tremendously increasing the size of the paste coater.
ディスペンスヘッドの動きを最小化すると共に、作業時の振動を減少させて正確なパターン形成を可能にし、装置の大きさを著しく増加させずに、平板表示装置の大型化に対応したペースト塗布を可能にすること。 - 特許庁 - Since the reflection mask 1 is used as a mask for proximity effect correction, high-accuracy correction exposure can be performed reading, because the occurrence of the thermal deformations of the mask and the formation of a doughnut shape pattern in a stencil mask is prevented, as compared with the case where a transmissive mask is used.
近接効果補正用マスクとして反射マスクを用いるので、透過形のマスクを用いる場合と比べて、マスクの熱変形の問題やステンシルマスクのドーナッツパターン問題がなく、容易に高精度の補正露光を行うことができる。 - 特許庁 - To obtain a low relative dielectric constant polymer material having excellent adhesivity or adhesiveness to a metal conductor layer, pattern formation ability by crosslinking, yet low relative dielectric constant and dielectric dissipation factor, excellent electrical insulating properties and excellent heat resistance.
金属導体層との密着性ないし接着性が良好で、かつ架橋によるパターン形成能を有し、しかも比誘電率および誘電正接が低く電気絶縁性に優れ、耐熱性に優れた低比誘電性高分子材料を提供する。 - 特許庁 - To adjust the threshold voltage of a p-channel type field effect transistor and n-channel type field effect transistor with a relatively thin gate insulating film, without increasing the number of photomasks and the number of formation/removal processes for the photoresist pattern.
フォトマスクの枚数およびフォトレジストパターンの形成・除去工程数を増やすことなく、相対的に薄いゲート絶縁膜を持つｐチャネル型の電界効果トランジスタおよびｎチャネル型の電界効果トランジスタのしきい値電圧を調整する。 - 特許庁 - To manufacture a dielectric electronic component of high performance at low costs by solving problems that a dielectric block or an electrode is damaged by laser processing or soldering performance is reduced, while utilizing the advantages of laser processing by which highly accurate pattern formation can be attained.
高精度なパターン形成が可能なレーザ加工の利点を生かしつつ、レーザ加工により誘電体ブロックや電極が受けるダメージの問題や、半田付け性低下の問題を解消し、低コストで高性能な誘電体電子部品を製造する。 - 特許庁 - One embodiment is related to a method of forming a pattern formation feature section which has more reduced pitches in two dimensions on the substrate, as compared with pitches realized using a standard photolithography processing technique which uses a single high resolution photomask.
本発明の実施形態は、単一の高解像度フォトマスクを使用する標準のフォトリソグラフィ処理技法を使用して可能なものに比較して、２次元において減少ピッチを有するパターン形成特徴部を基板上に形成する方法に関する。 - 特許庁 - In the semiconductor circuit pattern formation device, the upper portions of a plurality of holding sections 302 for holding the substrate 101 are connected, and the connection members 303 are fixed on a base (movable stage) for supporting the entire substrate holding section.
本発明は、基板１０１を保持する複数の保持部３０２の上部が連結され、且つ、その連結部材３０３が、基板保持部全体を支持するベース（可動ステージ上）に固定されていることを特徴とする半導体回路パターン形成装置である。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device having a specific pattern which can prevent ink from flowing to positions except an intended position when forming a light-shielding layer on a peripheral part of a display area by ink jetting after formation of a coloring layer.
基板上に着色層を形成後、インクジェット工法を用いて表示領域周縁に遮光層を形成する際、インクが所望の場所以外に流れないように堰き止め可能な所定のパターンを有する液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a sulfonium salt excellent in resolution in photolithography using high energy rays, such as ArF excimer laser rays or EUV, as a light source, to provide a resist material containing the sulfonium salt, and to provide a pattern formation method using the resist material.
ＡｒＦエキシマレーザー光、ＥＵＶ等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性に優れたスルホニウム塩、そのスルホニウム塩を含有するレジスト材料及びそのレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of preventing occurrence of a short circuit failure even when a resist layer as a lift-off layer is separated from a base insulation film by generation of film stress, and an unnecessary metal film adheres to its exposure part.
本発明の課題は、膜応力の発生により、リフトオフ層としてのレジスト層が下地絶縁膜から剥離し、その露呈部分に不要な金属膜が付着してもショート不良になることを防止できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which is optimally used for a liquid crystal display device, permits easy pattern formation and has a characteristic excellent in color reproduction, optical stability, heat resistance and reliability, to provide a display device using the photosensitive resin composition and to provide a manufacturing method of the display device.
液晶表示体装置に最適に用いられる、パターン形成が容易で、色再現性、光安定性、さらに耐熱性、信頼性に優れた特性を有する感光性樹脂組成物、それを用いた表示装置及びその製造方法。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which the manufacturing cost of the semiconductor device can be reduced and the precision of the formation position of a wiring pattern relative to an internal connecting terminal can be improved.
本発明は、半導体装置の製造コストの低減を図ることができると共に、内部接続端子に対する配線パターンの形成位置の精度を向上させることのできる半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition that attains formation of a resist pattern having superior adhesion to a substrate, good image forming property and little bleeding and sublimation products of the composition, even at long-term use, and to provide a photosensitive resin laminate.
基材との密着性に優れ、画像形成性が良く、長時間使用されても組成物の染み出し及び昇華生成物が少ないようなレジストパターンが形成できる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁 - To stably perform pattern formation near the resolution limit of photolithographic technique, and to solve positional misalignment in a structure such as a contact plug, increase of contact electrical resistance due to shrink of a contact area, poor connection, or the like.
本発明ではフォトリソグラフィー技術解像限界付近のパターン形成を安定して形成すると共に、コンタクトプラグなどの構造物における目合わせずれや接触面積の縮小による接触電気抵抗の増大や接続不良を解決する。 - 特許庁
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