「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 42 43 44 45 46 47 48 49 50 .... 57 58 次へ＞- To provide a composition for an antireflection coating which prevents lowering of the dimensional accuracy of a pattern caused by interference of multiply reflected light in a photoresist film and enables formation of a resist pattern free of deterioration in the pattern shape such as T-top or round top shape adverse to an etching process caused chiefly by intermixing of a chemically amplified resist and an antireflection film.
フォトレジスト膜内における多重反射光の干渉によりもたらされるパターン寸法精度の低下を防止し、且つ化学増幅型レジストと反射防止膜とのインターミキシングなどにより引き起こされる、エッチング工程に不都合なＴ−トップ、ラウンドトップなどのパターン形状の劣化を起こさないレジストパターンを形成することのできる反射防止コーティング用組成物を提供する。 - 特許庁 - The photonic crystal having a column array structure is made by forming a metal thin film pattern (gold pattern) 25 on the surface of the (111) face single crystal silicon layer 23 on a substance layer (silicon dioxide layer)22 different from silicon in refractive index and growing silicon single crystal columns 26 on a metal thin film pattern formation part in a high- temperature silicon tetrachloride gas atmosphere to form the columns.
屈折率がシリコンと異なる物質層（二酸化シリコン層）２２上の（１１１）面単結晶シリコン層２３の表面に金属薄膜パターン（金パターン）２５を形成し、高温の四塩化珪素ガス雰囲気中で金属薄膜パターン形成部にシリコン単結晶柱２６を成長させることにより柱状体を形成し、柱状体配列構造を有するフォトニック結晶を作製する。 - 特許庁 - In the pattern formation step, the plurality of openings 53 disposed along the first formation direction X are formed at a uniform pitch B_h smaller than the ideal opening pitch in the row direction of the parallax barrier 5 prescribed based on a pixel pitch in the row direction in a display means, and are formed such that the openings are disposed stepwise shifted in the second formation direction Y and follow the first cutting direction X'.
パターン形成工程では、第１の形成方向Ｘに沿って並ぶ複数の開口部５３を表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される視差バリア５の行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチＢ_ｈで形成するとともに、第１の切出方向Ｘ´に倣うように第２の形成方向Ｙにずらして階段状に並ぶように形成する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation apparatus which dries flying droplets by irradiating the flying droplets with a laser beam and is improved in drying efficiency and landing precision for flying droplets.
飛行中の液滴にレーザ光を照射して飛行中の液滴を乾燥させるパターン形成装置において、飛行中の液滴の乾燥効率と着弾精度を向上させたパターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a wide copper clad laminated board having a copper plating film formed thereon without using a heat-resistant adhesive or the like at all, enabling the formation of a fine wiring pattern and reducing the occurrence of trouble in a post-processing process.
耐熱性接着剤等を全く使用することなく銅メッキ膜が形成されており、微細な配線パタ−ンが可能で後加工工程で不具合が発生することの少ない銅張り積層基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a printing plate, capable of coping with high-quality printing with a special ink for printable electronics and durable against plate washing, after printing in a printing plate which utilizes resist pattern formation by a photolithographic process.
フォトリソグラフィー法によるレジストパターン形成を利用した印刷版において、プリンタブルエレクトロニクスの特殊なインクによる高品質印刷に対応でき、さらに印刷後の版の洗浄にも耐えうる印刷版を提供すること。 - 特許庁 - To provide a blank holder which enables the user to process the other side, keeping a pattern already made at one side of a blank for formation of an exposure mask in non-break condition, and a method of manufacturing the exposure mask.
露光マスク形成用のブランクスの一方の面に既に形成されたパターンを非破壊に保った状態で、他面の加工を行うことが可能なブランクス保持具および露光マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness, exposure latitude, and dry etching resistance, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.
ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁 - This is a method of forming a thin film pattern on the surface of a substrate by providing ink including a film formation material and an ink solvent to the surface of a heated substrate from a nozzle.
本発明の目的は、背景技術で述べたような電子デバイスに求められる表面平滑性に優れる微細な薄膜パターンを精度よく作製する薄膜パターンの形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - After formation is completed up to an insulating film 4, a film to be etched is formed on the insulating film 4, and a pattern of a lower electrode center 5A is formed on the film to be etched, the insulating film 4 and a part of a conductive plug 3.
絶縁膜４まで形成した後、被エッチング膜を絶縁膜４上に形成し、その被エッチング膜と絶縁膜４と導電性プラグ３の一部とに下部電極中心５Ａのパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a printing plate which enables the accurate formation of a pattern having a large film thickness on the surface of a substrate by causing no damage or pollution of the substrate, and to provide the printing plate.
基板に損傷や汚染を生ずることなく、基板の表面に膜厚の厚いパターンを正確に形成することが可能な印刷版の製造方法および印刷版を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an image protecting film roll, which can provide a high grade over-coating recording matter with lustrous feeling due to no development of the deformtion of a transfer layer even after the storage over a long period of time and of the formation of an undulated pattern, and its image protecting method.
長期間保管しても転写層の変形、凹凸模様の形成が起こらず、光沢感のある高品位のオーバーコート記録物を提供し得る画像保護フィルムロール及び画像保護方法を提供すること。 - 特許庁 - The wiring pattern formation surface of the transparent substrate 210 is mounted in contact with a substrate surface of a printed substrate 215 with a drive circuit for driving the light sources of the surface light-emitting semiconductor laser array chip 211, for circuit connection.
透明基板210の配線パターン形成面を、面発光型半導体レーザアレイチップ211の各発光源を駆動する駆動回路が形成されるプリント基板215の基板面に当接して装着し、回路接続がなされる。 - 特許庁 - The manufacture is carried out by using pattern rollers for the respective surfaces and hardening postpatterned layers nearby the contact between both the rollers and thus the precision of the formation positions of the lenticular lens and projection streak parts is secured.
製造は、各々の面について、型ローラを用いて逐次行ない、両型ローラの接点近傍で、後に付型された層を硬化させることにより、レンチキュラーレンズと凸条部との形成位置の精度を確保した。 - 特許庁 - To achieve good display quality in an active matrix type liquid crystal display device by suppressing flicker due to a polarity change pattern itself of voltage applied to each pixel formation part upon driving liquid crystal.
アクティブマトリクス型の液晶表示装置において、液晶を駆動する際に各画素形成部に印加する電圧の極性の変化パターンそのものに起因するフリッカーの発生を抑止し良好な表示品位を得る。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a color filter which can be manufactured in a simple process, in which position accuracy for a substrate of an alignment mark is high and which can enhance alignment mark pattern formation accuracy when ink is ejected.
簡単な工程で作製することができ、アライメントマークの基板に対する位置精度が高く、インクを吐出する際のアライメントマークパターン形成精度を高めることができるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁 - Prior to formation of the pattern 80, the method includes a step to form the marking partition walls B1 corresponding to the alignment mark AM and a step to place the liquid material containing the alignment mark forming material between the marking partition walls B1.
パターン８０の形成前に、アライメントマークＡＭに対応したマーク用隔壁Ｂ１を形成する工程と、マーク用隔壁Ｂ１の間にアライメントマーク形成材料を含む液体材料を配置する工程とを有する。 - 特許庁 - To provide a polymerizable fluoromonomer and a fluoropolymer for a resist suitable for use in microfabrication by immersion exposure or by a double patterning process based on immersion exposure, a resist material and a method of pattern formation using the same.
液浸露光や、液浸のダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用の含フッ素重合性単量体および含フッ素重合体、それらを使ったレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In a forming method of a micro metal structural body, conductive paste containing metal powder with an average particle size of 400 nm or less as a conductive component is put under pattern formation into a given shape to obtain a micro metal structural body.
微細金属構造体の形成方法は、平均粒径が４００ｎｍ以下の金属粉末を導電成分として含む導電ペーストを、所定の形状にパターン形成して微細金属構造体を得る。 - 特許庁 - To provide a lamination wiring board which enables high density pattern formation and its manufacturing method by making charging of a via hole easy when an interlayer connection structure, wherein the thickness of an insulation layer is relatively large, is formed.
絶縁層の厚さが比較的大きい層間接続構造を形成する際のビアホールの充填を容易にし，高密度なパターン形成ができる積層配線板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device and semiconductor manufacturing apparatus, where more high-accuracy pattern formation is enabled by improving uniformity in the intra-plane temperature of a large-diameter semiconductor wafer in lithographic processes.
リソグラフィ工程における大口径半導体ウエハの面内温度均一性を向上させ、より高精度なパターン形成が可能な半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a sheet for fine uneven pattern formation that is used in an imprint method, has superior preservation stability before being used, and is for forming a hard coat layer with high scratch resistance.
インプリント法において使用する微細凹凸パターン形成用シートであって、使用前には保存安定性に優れ、かつ、耐擦傷性が高いハードコート層を形成するための微細凹凸パターン形成用シートを提供すること。 - 特許庁 - To provide a fixture used for accurately measuring a flexible sheet material on which fine patterns are formed, a manufacturing method of the same, a measurement method for sheet material, and a pattern formation method by micro-contact printing.
微細なパターンが形成されたフレキシブルなシート基材を高い精度で計測するための固定治具とその製造方法およびシート基材の計測方法とマイクロコンタクトプリントによるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The control part avoids the formation of the light distribution pattern having the irradiation area on the oncoming traffic lane side above the horizontal line, when the light shielding body 410 exists along the road between the one's own traffic lane and the oncoming traffic lane.
制御部は、自車線と対向車線の間に道路に沿って遮光体４１０が存在する場合に、水平線から上方の対向車線側に照射領域を有する配光パターンの形成を回避する。 - 特許庁 - Thus, a process for separately applying ultraviolet resin in order to use the resin as resist is omitted, thereby simplifying a pattern formation process and forming micro/nano complex patterns through a single imprint process.
これにより、レジストとして使用するために紫外線レジンを別途に塗布する工程が省略されるので、パターンの形成工程が簡素化され、単一インプリント工程によりマイクロ・ナノ複合パターンを形成できる。 - 特許庁 - To provide a thin-film patterning method for obtaining narrower isolated trench width, without having to depend on the formation technique of a resist pattern, manufacturing method of a thin-film device, and to provide a manufacturing method of a thin-film magnetic head.
レジストパターンの形成技術に依存することなく、より狭い孤立トレンチ幅を得ることができる薄膜パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - When a two-dimensional pattern of a light spatially modulation through a DMD 80 passes through an image side telecentric first image formation optical system 51 to form an image, magnification of the image is adjusted through a magnification adjusting optical system 53.
ＤＭＤ８０で空間光変調された光の２次元パターンを像側テレセントリックな第１結像光学系５１を通して結像させる際の結像倍率を倍率調節光学系５３によって調節する。 - 特許庁 - Even when the level difference of the substrate is large, the formation of the organic EL light emitting layer, depending on the pattern control of the hydrophilic part/water repellent part, is ensured to provide the organic EL display device with excellent reliability and stability.
基板表面段差が大きな場合でも、親水部／撥水部のパターン制御による有機ＥＬ発光層の形成を確実にし、信頼性、安定性に優れた有機ＥＬ表示装置を提供できる。 - 特許庁 - When pattern formation is performed by using the positive photosensitive resin composition, the additive fulfills functions for attaining high resolution and high sensitivity, and for minimizing thickness change after heat crosslinking, without causing other properties to deteriorate.
添加剤は、ポジティブ型感光性樹脂組成物を用いてパターン形成を行うときに、他の物性を低下させずに高解像度、高感度、および熱架橋後の厚さ変化を最小化する役割を実行することができる。 - 特許庁 - The visual introduction image of the gray domain can be changed by the conveyance variances at the time of image formation, especially it has bright strip or dark strip along the Y axis direction or has bright or dark pattern along the extension of X axis direction.
グレー領域の視覚的出現像は画像形成時の送り変化によって変えられ、殊に、Ｙ方向にある、明るいストリップないし暗いストリップないしはＸ方向に延在している明暗パターンを有している。 - 特許庁 - To provide a method of forming a damascene wiring having no occurrence of a drawback such as a void in wiring formation and capable of reducing signal delay, for forming a wiring pattern on a substrate by a damascene method.
ダマシン法により基板に配線パターンを形成する配線形成方法であって、配線形成時にボイド等の不具合発生が無く、信号遅延を低減することのできるダマシン配線の形成方法を提供する。 - 特許庁 - Adhesive layers 6a, 6b are provided on both surfaces of a protective tape 4, and semiconductor substrates 2, 3 are applied at their main surfaces 2a, 3a as circuit pattern formation surfaces onto the adhesive layers 6a, 6b to form a laminate 1.
保護テープ４の両面に粘着層６ａ，６ｂを設け、この粘着層６ａ，６ｂに半導体基板２，３の回路パターン形成面である主面２ａ，３ａを貼着した積層体１を形成する。 - 特許庁 - When a bump electrode (not shown) is formed using that exposure pattern, a straight shape having a height substantially corresponding to the thickness of the resist RST can be ensured and contributes to formation of bump electrodes dealing with fine pitch arrangement.
この露光パターンを用いてバンプ電極（図示せず）を形成すれば、レジストＲＳＴの厚さに略相応した高さのストレート形状が確保でき、微細ピッチ配列に対応可能なバンプ電極の形成に寄与する。 - 特許庁 - A dry etching method has: a process for performing the pattern formation of resist on a member to be etched made of a substance containing zinc oxide; and a process for etching the member to be etched by gas containing reducing gas.
酸化亜鉛を含む物質からなる被エッチング部材の上にレジストをパターニング形成する工程と、還元性ガスを含むガスを用いて前記被エッチング部材をエッチングする工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁 - The photomask has an opening corresponding to formation of a photospacer having a small height (second photospacer), the opening which is an annular opening K2 having a circular or polygonal outer shape and a light shielding pattern P1 at the center.
高さの低いフォトスペーサー（第二フォトスペーサー）の形成に対応したフォトマスク上の開口部が、円形又は多角形の外形を有し、中心に遮光パターンＰ１が設けられた環状開口部Ｋ２である。 - 特許庁 - Such improved squares enable sufficient supply of an ink throughout the corners of the lattice and the apexes of the squares, thereby enabling the formation of sharp right-angled corners in the resultant conductive mesh pattern.
このような改良方形とすることにより、インクを格子の隅角部や方形の頂点部に十分に行き渡らせることが可能となり、導電性メッシュパターンにシャープな直角の角部を形成することが可能となる。 - 特許庁 - To provide a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern for the production of a semiconductor device, less liable to generate particles in a resist solution and excellent in line density dependency.
半導体デバイス製造のコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a light shielding transfer film which enables low-temperature film formation and easily and inexpensively obtaining light shielding property by simple film transfer, a method for producing the same, and a method for forming a light shielding pattern using the same.
低温成膜が可能で簡便なフィルムの転写により遮光性を容易に安価に得ることのできる遮光性転写フィルム及びその製造方法、それを用いた遮光性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - When continuously performing image formation by a plurality of number of times, the pattern images formed on the respective image carriers 1Y, 1C, 1M and 1Bk are transferred to intervals between recording medium carrying areas to carry the recording medium on the conveyance body 14.
画像形成を複数回続けて行う場合に、搬送体１４上の記録媒体を担持する記録媒体担持領域の相互間に、各像担持体１Ｙ，１Ｃ，１Ｍ，１Ｂｋ上に形成されたパターン像を転写可能に構成した。 - 特許庁 - To provide a lead-free glass composition which has excellent chemical durability, low specific gravity and excellent meltability, little erodes a furnace material, and achieves the formation of a high definition pattern in a photosensitive process.
化学的耐久性に優れ、低比重化を達成し、また溶融性に優れ、炉材の侵食が少なく、更に感光性プロセスにおいて高精細なパターン形成を可能とする無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。 - 特許庁 - To provide a laminated structure that is applicable to a method such as a printing method achieving low cost and high efficiency of material use, facilitates forming fine patterns, and has a high-value added function other than pattern formation.
印刷法のような低コストかつ材料使用効率の高い方法が適用でき、簡便に微細なパターンの形成が可能で、かつ、パターン形成以外に高付加価値機能を有する積層構造体を提供する。 - 特許庁 - Furthermore, when the step is formed on the hard mask layer, by making the hard mask layer remain so as to cover the surface of the substrate, the charging (charge up) of the substrate can be suppressed in the plurality of stages of pattern formation.
また、ハードマスク層に段差を形成するにあたり、ハードマスク層を基板表面を覆うように残存させることにより、複数段のパターン形成において、基板の帯電（チャージアップ）を抑制することが出来る。 - 特許庁 - To provide a manufacturing process of an electrodeposition grinding wheel, which achieves an automated unmanned masking process and high-efficient formation of a masking with a micro-complicated pattern, and which is sufficiently suitable for mass production.
電着砥石の製造工程において、マスキング工程を自動化、無人化できるだけでなく、微細で複雑なパターンのマスキングでも高能率に形成でき、しかも量産に十分に対応可能なものを提供する。 - 特許庁 - To provide a novel patterning technology capable of inexpensively and easily patterning a piezoelectric film without need of expensive equipment, having excellent pattern shaping accuracy of the film and free from contamination during film formation.
高価な装置を要することなく低コストに圧電体膜を容易にパターニングすることができ、圧電体膜のパターンの形状精度が良く、成膜時のコンタミネーションの問題がない新規なパターニング技術を提供する。 - 特許庁 - Etching masks 5, corresponding to individual patterns, are formed by patterning on the whole surface of a conductive material 14 including a peripheral region not requiring pattern formation, and patterns are formed by etching on the whole surface of a substrate 3.
個々のパターンに対応するエッチングマスク５をパターンを形成する必要のない導電性材料１４の外周領域まで含めた全面にパターニングし、エッチングによって基板３の全面にパターンを形成する。 - 特許庁 - Further, disclosed are a manufacturing method of a polyimide wiring board including a wiring formation process of forming a wiring pattern after the manufacturing method of the metal thin film is implemented, and the polyimide wiring board manufactured by the same method.
該金属薄膜の製造方法を実施した後に、配線パターンを形成する配線形成工程を含むことを特徴とするポリイミド配線板の製造方法、および該方法によって製造されたポリイミド配線板。 - 特許庁 - In manufacturing the electronic parts, a base substrate body 6 of the substrate bodies is prepared, and hole parts 13 for forming the side conductive pattern are formed in the side formation region of each substrate body 2 of the base substrate body 6.
この電子部品を製造する際には、まず、基板体の母材基板体６を用意し、この母材基板体６の各基板体２の側面形成領域には側面導体パターン形成用の穴部１３を形成する。 - 特許庁 - The insulator layer 10 at the part where the 2nd insulator layer 20 is formed is etched away with the aforementioned solution to expose the circuit pattern 13 of the part on the reverse side of the circuit formation surface.
第２絶縁体層２０を形成した部分の絶縁体層１０を前記溶液によるエッチング処理で除去することで、当該部分の回路パターン１３を前記回路形成面の裏面側に露出させた。 - 特許庁 - To provide a glass plate 1 for decoration which enables formation of a line pattern by a simple operation, quickly and advantageously in cost and is suitable for small-lot production of a wide variety of products, and a manufacturing method of the glass plate 1 for decoration.
簡単な操作で迅速かつコスト的に有利に線模様を形成することができて多品種少量生産に好適な装飾用硝子板１および装飾用硝子板１の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Cell shape data 17a, cell attribute data 17b and arrangement restriction condition data 17c formed as libraries are stored in the pattern forming device 11 which executes layout data formation processing of process patterns.
プロセスパターンのレイアウトデータ作成処理を実行するパターン作成装置１１には、ライブラリとして作成されたセル形状データ１７ａ、セル属性データ１７ｂ及び配置制約条件データ１７ｃが格納される。 - 特許庁
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