「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)
＜前へ 1 2 .... 43 44 45 46 47 48 49 50 51 .... 57 58 次へ＞- To facilitate formation of pad metals separated individually by making a trench between adjacent pads thereby forming a pad metal film without requiring a pattern mask reflecting the individual pad shape in the pad metal film forming process.
隣接するパッド間に溝を形成し、パッドメタル成膜工程で個々のパッド形状を反映したパターンマスクを用いることなくパッドメタルの成膜を可能とし、個々に分離されたパッドメタルを容易に形成可能とする。 - 特許庁 - Inverting the PXLED to expose the pattern of the masking layer or using the Talbot effect to create an aligned second patterned masking layer allows the formation of PXLEDs with low defect density.
マスク層のパターンを露出させるためにＰＸＬＥＤを逆にするか、又は、「タルボット」効果を用いて整列した第２のパターン化マスク層を作り出すことにより、欠陥密度の低いＰＸＬＥＤを形成することができる。 - 特許庁 - To provide a method for inexpensively forming a circuit on a printed- wiring board by reducing defect in a circuit pattern due to dirt, and by shortening processes in circuit formation and exposure time.
プリント配線板の回路形成にて、塵埃にる回路パターンの欠陥を低減させ、回路形成の工程を短縮し、露光時間を短縮し、廉価に回路を形成するプリント配線板の回路形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The scale manufacturing method includes; a step for detecting the position of the dense track that is formed in advance for generating a pattern in a coarse track corresponding to the position; and a write-once formation step of the coarse track onto a scale surface.
あらかじめ形成された密トラックの位置を検出して、その位置に対応する粗トラックのパターンを生成するステップと、粗トラックをスケール面に追記可能な形成ステップとを含むスケール製造方法を提供する。 - 特許庁 - The width W1 of the upper pole chip is same as the film thickness of the magnetic film 17a' for formation of the upper pole chip formed on the side end face of the photoresist pattern 31 and the width can be controlled to a submicron dimension.
上部ポールチップの幅Ｗ１は、フォトレジストパターン３１の側端面に形成された上部ポールチップ形成用磁性膜１７ａ′の膜厚そのものであり、サブミクロンの寸法に制御することが容易である。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which attains resist formation by a photographic process with good pattern accuracy by development using an aqueous alkali solution and exhibits satisfactory heat resistance and flexibility by processing at a low temperature.
写真法によるパターン精度の良いレジスト形成が、アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a raw material for alkali-soluble photosensitive resin composition that permits easy pattern formation and has excellent high heat resistance, high reliability, for example, moisture-resistance reliability, further high transparency and low dielectric constant.
パターン形成が容易で、高耐熱性、耐湿信頼性等の高信頼性、更に高い透明性、低誘電率に優れた特性を有するアルカリ可溶性感光性樹脂組成物の原料を提供すること。 - 特許庁 - After the formation of a gate insulation film 3, the gate insulation film under a data line 71 is selectively removed to remove foreign objects in the film 3 and pattern collapse of the line 71 and discontinuity are reduced.
ゲート絶縁膜３形成後、選択的にデータ線７１下のゲート絶縁膜を除去することによりゲート絶縁膜３中にある異物が取り除かれ、データ線７１のパターン崩れ、断線を低減することができる。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus technology enabling formation of a high quality image over a long term by forming a toner pattern on a non-image region of an image carrier (photoreceptor) without increase of the toner use amount.
トナーの使用量を増加させずに像担持体（感光体）の非画像領域上にトナーパターンを形成して長期に渡って高品質な画像の形成を可能とする画像形成装置技術を提供すること。 - 特許庁 - The image forming apparatus has at least one test print consisting of a designated pattern used for correction processing after image formation, and the white level of the test print on a form is detected to correct correction processing based upon the detected value.
画像形成された補正処理に使用する為の所定のパターンから成る少なくともひとつのテストプリントを有し、前記テストプリントの用紙の白レベルを検知し、その値によって補正処理に補正をかける。 - 特許庁 - Use of the sacrificial film 6 disposes of formation of the resist pattern in the trench 4 in forming first and second insulation films (silicon oxide films 8 and 5) different in thickness in the trench 4.
犠牲膜６を用いることにより、トレンチ４内に膜厚の異なる第１,第２の絶縁膜(シリコン酸化膜８,５)を形成するに際してトレンチ４内にレジストパターンを形成する必要を無くすることができる。 - 特許庁 - To provide a surface modifier for a resist modifying the surface of a photoresist film to sufficiently enhance the wettability with a developer solution and excellent in safety, and to provide a method for formation of a resist pattern with the modifier.
ホトレジスト膜表面を改質して現像液に対する濡れ性を十分に高めることが可能であり、かつ安全性に優れたレジスト表面改質剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a metal polishing which enables the formation of the buried pattern of a highly reliable metallic film by revealing high CMP rate, and enabling the high flattening, the reduction of the quantity of dishing, and the reduction of the quantity of erosion.
高いＣＭＰ速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN, RESIST COMPOSITION USING PHOTOSENSITIVE RESIN, METHOD OF PATTERN FORMATION USING RESIST COMPOSITION, DEVICE PRODUCED BY METHOD THEREOF AND METHOD OF EXPOSURE USING RESIST HAVING PHOTOSENSITIVE RESIN
感光性樹脂及び該感光性樹脂を用いたレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたパターン形成方法、該パターン形成方法により製造されるデバイス及び該感光性樹脂を有するレジストを用いた露光方法 - 特許庁 - To easily reduce the pattern area of an array of DRAM cells which uses vertical MOS transistors for a transfer gate, facilitate consistency with peripheral transistors when a cell array is formed, and minimize increase in the number of masks for simultaneous formation.
縦型MOS トランジスタをトランスファゲートに用いたDRAMセルのアレイのパターン面積の縮小が容易であり、セルアレイの形成時に周辺トランジスタとの整合性を取り易く、マスク数の増加を最小限にして同時に形成する。 - 特許庁 - To reduce the increase of costs caused by the increase of masks, the increase of stages and the increase of materials and to reduce yield loss caused by dust and the like by attaining the formation of a contact hole and rugged pattern in an active matrix substrate in one photolithographic stage.
アクティブマトリックス基板におけるコンタクトホール及び凹凸パターンの形成方法のフォトリソ工程を１回とし、マスク増、工程増、材料増によるコスト増、ダストによる歩留まりロス等の低減を図る。 - 特許庁 - To provide a coating method which enables convenient formation of a surface of the finish coating material having an irregular pattern while retaining a natural beautiful appearance, during decoration finish of wall surfaces of the interior and exterior of a building.
建築物内外装の壁面化粧仕上げにおいて、自然調の美観性を保ちつつ凹凸模様が形成された仕上塗材表面を簡便に付与することができる塗装方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a dry film which is useful for pattern formation of a radiation-sensitive resin composition layer, which requires high-accuracy fine working, and which gives a radiation-sensitive resin composition layer excellent in surface smoothness and resolution.
高精度の微細加工が要求される感放射線性樹脂組成物層のパターン形成に有用な、表面平滑性、解像度に優れる感放射線性樹脂組成物層を与えるドライフィルムの提供。 - 特許庁 - The correction unit determines, in advance of correcting image formation operation based on the correction pattern, a detection start timing based on the movement speed detected by the speed detecting unit and the set value held by the timing holding unit.
補正部は、補正パターンに基づいて画像形成動作の補正を行う前に、速度検出部により検出された移動速度と、タイミング保持部により保持された設定値とに基づいて、検出開始タイミングを決定する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium, capable of making a lubricant layer uniform within a short time after the formation of a magnetization pattern, and carrying out incorporation into a drive, inspection/evaluation, or the like in a short time.
磁化パターン形成後に短時間で潤滑層を均一化することができ、時間をおかないでドライブへの組み込みや検査・評価等を行うことも可能となる磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method by which the relative speed of droplets is easily changed along the tangent direction of the object fact to which droplets are discharged while the positioning precision of the impact positions of the discharged droplets is maintained.
吐出した液滴の着弾位置の位置精度を維持して、被吐出面の接線方向に沿う液滴の相対速度を容易に変更可能にしたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - Due to a known quantum-mechanical effect, the light in the 1-photon state interferes as a pattern of a cycle 1/2 times that of incidence to form an image, thereby materializing the definition double an image formation limit in the prior art.
そして、周知の量子力学的効果のため、１光子状態の光子が入射したときの１／２倍の周期のパターンとして干渉、結像され、従来の結像限界の２倍の精細さが実現できる。 - 特許庁 - The pattern light irradiation device is constituted of: a light source device; an optical integrator 11; and an image formation optical system 15 which irradiates light emitted from the optical integrator 11 toward a surface to be irradiated of a liquid crystal panel 20.
パターン光照射装置は光源装置と光インテグレータ１１と光インテグレータ１１から出射された光を液晶パネル２０の被照射面に向けて照射する結像光学系１５とから構成される。 - 特許庁 - To provide an image protective film roll which can produce an overcoat recording object with feel of luster and high quality level without giving rise to deformation of a transfer layer and the formation of uneven pattern even under long-term storage, and an image protecting method.
長期間保管しても転写層の変形、凹凸模様の形成が起こらず、光沢感のある高品位のオーバーコート記録物を提供し得る画像保護フィルムロール及び画像保護方法を提供すること。 - 特許庁 - After that, the secondary transfer roller is brought into pressure contact with the intermediate transfer belt (S21), a speed difference detecting pattern is formed on the intermediate transfer belt in the Y color (S22), and after formation, the secondary transfer roller is separated from the intermediate transfer belt (S24).
その後、二次転写ローラを中間転写ベルトに圧接し（Ｓ２１）、Ｙ色で速度差検出用パターンを中間転写ベルトに形成し（Ｓ２２）、形成後、二次転写ローラを中間転写ベルトから離間させる（Ｓ２４）。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern-like thin film layer which has a mask layer material having a high heat resistance by a lift-off process and has a good stripping property, while preventing generation of a decomposed gas at its processing temperature upon formation of the thin film.
マスク層材料の耐熱性が高く、又薄膜形成時の処理温度下での分解ガスの発生もなく、さらに、剥離性が良好なリフトオフ方式のパターン状薄膜層の形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a mixer in which manufacturing steps are reduced and manufacturing cost is reduced by providing a structure in which three independent ports are subjected to pattern formation on the same substrate, and to provide a high frequency module and a communication device.
独立した３つのポートを同一基板上にパターン形成することができる構造にして、製造工程の削減と製造コストの低減化を図ったミキサ，高周波モジュール及び通信機を提供する。 - 特許庁 - To provide a method which enables the formation of a concave/convex-shaped pattern by a simple means without using any filler precisely at a predetermined position of the coating film surface without bringing any foreign matter and any stain on the coating film surface.
塗膜表面に異物や汚れなどをもたらすことなく、塗膜表面の所定位置に正確に、かつ簡単な手段により凹凸状のパターンを、フィラーを用いないで形成し得る方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, since a fresh binary pattern can always be formed and detected by the recording means, image formation can be accurately controlled and color shift and displacement of the transfer body to one side can be prevented.
これにより、レコーディング手段で常に新しい２値パターンを生成して、それを検出することが出来るので、精度の良い画像形成のための制御を行うことが出来、色ずれや転写体寄りを防止することが出来る - 特許庁 - To provide an imprint apparatus, at the time of circuit pattern formation, which can imprint and easily release a substrate by aligning the substrate and the sequential pressurization, and which can be used for the large area substrate, and to provide a system and a method.
回路パターン形成の時、基板を整列させて順次加圧によってインプリントを行って容易に基板と離形することができ、大面積基板で使用可能であるインプリント装置、システム及び方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure method and an exposure apparatus which is suitably used for the formation of a fine pattern that composes an electronic device such as a flat panel display, and to provide an inexpensive exposure method with high resolution.
フラットパネルディスプレイ等の電子デバイスを構成する微細パターンの形成に使用して好適な露光方法及び露光装置であって高解像度かつ安価な露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an apparatus for manufacturing patterned tempered glass, in which the temperature difference between inner and outer parts of a glass substrate subjected to heating and surface pattern formation is increased to the maximum, and thereby tempering is more thoroughly performed through rapid cooling.
表面のパターン形成と共に加熱されたガラス基板の内外部の温度差を最大に大きくし、急冷却を通じて強化がより完全になされるようにするパターンド強化ガラスの製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a transistor which minimizes an impact of the potential of a light screening layer on operation of the thin film transistor of a structure with a light screening film, and also to provide a formation method of a lamination film pattern.
遮光膜を有する構造の薄膜トランジスタにおいて、遮光層の電位が薄膜トランジスタの動作に与える影響を最小限に抑制できるトランジスタ、および積層膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition capable of performing fine pattern formation in a thick film exceeding 20 μm and capable of providing a film excellent in reliability as a protective film, and to provide a cured film.
２０ミクロンを越えるような厚膜で微細なパターン形成を行うことが可能であり、保護膜としての信頼性に優れた皮膜を提供可能な感光性樹脂組成物および硬化皮膜を提供する。 - 特許庁 - Only a pattern (shaded parts in Figure 4 (b)) inside a cell which is frequently used is collectively transferred through an aperture, and a peripheral part of the cell (shaded parts in Figure 4 (c)) is transferred through a usual variable formation beam drawing.
多数回使用されるセルの内部のパターン（図４（ｂ）の斜線部）に対してのみアパーチャを用いた一括転写を行い、セルの周辺部（図４（ｃ）の斜線部）は従来の可変成形ビーム描画を行う。 - 特許庁 - To provide an electronic component capable of securing a sufficient mounting area for an electronic component element, and capable of coping with the formation of a fine pattern or a microvia, rigid in the mounting strength on a mother board while being highly accurate and highly dense.
電子部品素子の充分な搭載面積を確保でき、マザーボード上への実装強度が強固であり、かつ高精度、高密度なファインパターンやマイクロビアの形成に対応できる電子部品を提供する。 - 特許庁 - It is realized by selectively using two or more kinds of cutting tools having different edge diameters in accordance with the formation density of the recessed and projecting pattern when performing the cutting work of the original die of the diffraction optical device or the metallic die for molding the diffraction optical device.
これは、回折光学素子の原型、又はその成形用金型の切削加工時、先端径の異なる複数種のバイトを、凹凸パターンの形成密度に応じて選択使用することにより実現する。 - 特許庁 - To provide a substrate for a semiconductor package capable of preventing a formation failure of a solder pattern arranged on a connection pad arranged in the outermost shell within a plurality of connection pads electrically connected to bumps of a semiconductor chip.
半導体チップのバンプと電気的に接続する複数の接続パッドのうちの、最外郭に配置された接続パッドに配置されるソルダパターンの形成不良を防止できる半導体パッケージ用基板を提供する。 - 特許庁 - A performance control microcomputer derivingly displays big winning symbols as stop symbols of ornament symbols on a variable display device, notifies the formation of a big win and displays a lottery performance of a round pattern.
演出制御用マイクロコンピュータは、可変表示装置に飾り図柄の停止図柄として大当り図柄を導出表示したあと、大当りが発生したことを報知し、ラウンドパターンの抽選演出を表示する。 - 特許庁 - To provide a mask member that allows execution of film-formation according to an opening pattern of the mask member, even when each beam part is arranged between opening parts, and to provide an organic EL device manufacturing method that uses the same.
開口部間に梁部を配置した場合でも、マスク部材の開口パターンどおりに成膜を行うことのできるマスク部材、およびこのマスク部材を用いた有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The antenna 12, provided to the garage door opener which opens and closes a garage door through radio remote operation, is constituted by pattern formation on a printed board 11 mounted with an ECU 10 for the garage door opener.
ガレージドアを無線遠隔操作により開閉するガレージドアオープナーに設けられるアンテナであって、前記アンテナ１２は、ガレージドアオープナー用ＥＣＵ１０を搭載するプリント基板１１にパターン形成されて成るように構成する。 - 特許庁 - To provide a titanium dioxide composition and a titanium dioxide-containing layer which has few crystal defects and exhibits high activity, and to provide a pattern formation body using the titanium dioxide-containing layer.
本発明は結晶欠陥が少なく、高い活性を示す二酸化チタン組成物や二酸化チタン含有層、およびこの二酸化チタン含有層を用いたパターン形成体等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - In image formation with the image forming apparatus, a pattern for following up information on a reproduction is formed with a hardly visible yellow toner selected from a plurality of color toners used in the image forming apparatus.
画像形成装置による画像形成の際、この画像形成装置に用いられる複数色のトナーのうち、視認し難い色のイエロートナーを用いて、複写物の情報を追跡するためのパターンが形成される。 - 特許庁 - The inkjet ink for the metallic pattern formation contains copper metal salt, complexing agent and the hydrazine system compound, characterized by containing a compound which has a reactivity with oxygen.
銅金属塩、錯化剤およびヒドラジン系化合物を含有する金属パターン形成用インクジェットインクであって、酸素と反応性を有する化合物を含有することを特徴とする金属パターン形成用インクジェットインク。 - 特許庁 - The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a hydrophilic functional group within a molecule, a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator.
分子内に連鎖移動可能な官能基と親水性官能基とを有する化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁 - To provide an electrooptical device enabling precise inspection of presence/absence of defective wiring pattern formation by using a probe, and also to provide a manufacturing method of the electrooptical device, and an electronic device equipped with such an electrooptical device.
プローブを用いて、配線パターンの形成不良の有無を正確に検査することができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及びそのような電気光学装置を備えた電子機器を提供する。 - 特許庁 - Thus the occurrence of recessed portions on the phase-change material layer pattern or formation of a surface oxide film is suppressed to be able to considerably reduce the occurrence of defects in the phase-change memory device.
これによって、相変化物質層パターンの上部に窪みが発生するか、あるいは表面酸化膜が形成されることを抑制して相変化メモリー装置の不良発生を著しく減少させることができる。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which enables formation of a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, line width roughness (LWR) and etch resistance, and a method of forming resist patterns using the radiation-sensitive resin composition.
感度、解像性、ＬＷＲ及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁 - The oscillating electric field pattern of a development bias applied to a developing roller, composed of oscillating electric field generation portions and oscillating electric field non-generation portions, is continuously switched during image formation.
現像ローラに印加を行う現像バイアスの、振動電界を形成する部分と振動電界を形成していない部分とにより構成される振動電界パターンの切替えを、画像形成中に連続して行う。 - 特許庁 - The mixer 1 is provided with first and second slot lines 2 and 3, a third line 4 and a FET 5, and the first and the second slot lines 2 and 3, and the third line 4 are subjected to pattern formation on the surface of the substrate 10.
ミキサ１は第１及び第２のスロット線路２，３と第３の線路４とＦＥＴ５とを備え、第１及び第２のスロット線路２，３と第３の線路４とは、基板１０の表面にパターン形成されている。 - 特許庁
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