「Pattern Formation」を含む例文一覧(2870)

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  • After a lower columnar electrode 10 is formed by electrolytic plating on an upper surface of a connection pad part of an upper metal layer 9 for wiring, a plating resist film 27 for upper columnar electrode formation made of negative dry film resist is pattern-formed on an upper surface of a base metal layer 8 including the upper metal layer 9.
    配線用の上部金属層９の接続パッド部上面に電解メッキにより下部柱状電極１０を形成した後、上部金属層９を含む下地金属層８の上面にネガ型のドライフィルムレジストからなる上部柱状電極形成用メッキレジスト膜２７をパターン形成する。 - 特許庁
  • To provide an optical waveguide structure and an electronic device which have a high degree of freedom for designing a pattern shape, which enable the formation of a core portion (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and which include an optical waveguide having high optical coupling efficiency with light-emitting and light-receiving elements and is excellent in durability.
    パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、発光素子や受光素子との光結合効率および耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。 - 特許庁
  • Moreover, a reaction product formed in a pattern sidewall part in self-alignment in dry etching of a metal film or a sidewall insulation film formed in self-alignment in an isotropic etching of a thick insulation film is used as a doping mask in the formation of an offset region or an LDD region.
    また、オフセット領域或いはＬＤＤ領域を形成する際のドーピングマスクとして、金属膜のドライエッチング時にパターン側壁部に自己整合的に形成される反応生成物、或いは厚い絶縁膜の異方性エッチングを行った時に自己整合的に形成される側壁絶縁膜を用いる。 - 特許庁
  • To provide a polyester film roll and its package, in particular used for photo-resist, capable of suppressing wrinkles generated in transit and with time likely to degrade the image quality to a great extent when pattern formation is to be made by the photo-resist.
    本発明は、ポリエステルフィルムロール及びその梱包体に関し、特にフォトレジスト用ポリエステルフィルムにおいてフォトレジストによるパターン形成時に著しく画像品質を損ねる原因となる、ポリエステルフィルムロールの輸送時及び経時的な皺の発生の抑制に対して有用なポリエステルフィルムロール及びその包装体を提供する。 - 特許庁
  • To provide a producing method for semiconductor device, with which the deposition of polymerized films on the surface of a wafer is suppressed in the case of etching an insulating film with a resist pattern as a mask and satisfactory alloy reaction can be provided between a metal depositing film and the surface of the wafer while unnecessitating the mask formation of a side in a following lift-off process.
    レジストパターンをマスクとする絶縁膜のエッチングの際に基板表面への重合膜の堆積を抑制し、その後のリフトオフ工程におけるサイドのマスク形成を不要としながら金属蒸着膜と基板表面との間の良好なアロイ反応を得ることができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • From the folding screen drawings of battle scenes of the Sengoku Period, in which battle scenes are depicted and the battle formation can be identified to a certain degree, Figure 1 shows the pattern diagram of Shingen TAKEDA's army headquarters sonae (left) from the folding screen drawing of the Kawanakajima Battle, which belongs to the Iwakuni Historical Museum, and that of Ieyasu TOKUGAWA's army headquarters sonae (right) from the folding screen drawing of the Battle of Sekigahara, which belongs to the Fukuoka City Museum.
    図1は合戦を描いた戦国合戦図屏風より、陣立がある程度確認できる岩国歴史博物館所蔵、川中島合戦図屏風の武田信玄本陣備（左図）と福岡市博物館所蔵、関ヶ原合戦図屏風の徳川家康本陣備（右図）を模式図化したものである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide a vinyl chloride resin which is useful for pastes and gives a foamed molded article that has excellent surface smoothness, a compact cell structure and a voluminous touch and scarcely reduces its thickness when reheated on the formation of an uneven pattern, without related to the kind and content of a plasticizer and the content of a filler.
    発泡加工する際、配合時の可塑剤種類、量、充填剤量に関わらず、発泡体の表面平滑性に優れ、緻密なセル構造を有し、凹凸模様を施す際の発泡体の再加熱において発泡体の厚み減少が少なく、ボリューム感のある発泡成形体となるペースト用塩化ビニル樹脂を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing an insulative wiring board, by which the deposition or the formation of bridges on the outside of a pattern can be suppressed by inactivating a substance having a property to trap multiple metals due to an exposed coupling agent and at the same time, inhibiting trapping of metal-nuclei formed in a plating process.
    露出したカップリング剤等の多くの金属を捕捉する性質を持つ物質を不活性な状態にするとともに、めっき工程で生成する金属核を捕捉しないようにし、パターン外の析出やブリッジ発生がない、絶縁性配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a curable resin composition which can ensure satisfactory flame retardancy without using any halogen-containing flame retardant and can give a cured product having a sufficient elongation, and to provide a prepreg, a metal-clad laminate, an encapsulant, a photosensitive film, a resist pattern formation method, and a printed wiring board, each of which uses the same.
    ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、十分な伸び率を有する硬化物を得ることが可能な硬化性樹脂組成物、並びに、それを用いたプリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板を提供する。 - 特許庁
  • In washing the fine structure such as a semiconductor, a micromachine or the like, peroxide is added to carbon dioxide set to a supercritical state and the peroxide itself is dissociated in carbon dioxide set at the supercritical state to remove a pollutant such as resist or etching residue at the time of formation of a pattern without destructing the fine structure.
    半導体やマイクロマシン等の微細構造の洗浄において、超臨界状態の二酸化炭素に過酸化物を添加し、更に過酸化物自体を超臨界状態の二酸化炭素中で解離させることにより、微細な構造を破壊することなく、パターン形成時のレジストやエッチング残渣物等の汚染物質を除去する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method for a semiconductor device capable of forming a low-resistance metallic semiconductor contact with an excellent reproducibility and excellent adhesive properties, by using a lift-off method proper to the formation of a fine pattern without an oxidation process and a heat treatment process; and to provide the semiconductor device manufactured by the manufacturing method.
    酸化工程や熱処理工程を行うことなく、微細パターン形成に適したリフトオフ法を用いて低抵抗金属半導体接触を密着性良く、かつ再現性良く形成することが可能な半導体装置の製造方法及びその製造方法により製造された半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a substrate for wiring circuit formation capable of improving the adhesiveness between an insulating layer and a conductive pattern and preventing delamination in metal thin layer, and to provide a wiring circuit substrate for which the substrate is employed and a method of forming a metal thin layer for forming the metal thin layer.
    絶縁層と導体パターンとの間の密着性の向上を図ることができ、しかも、金属薄層における層間剥離を防止することのできる、配線回路形成用基板、それが用いられる配線回路基板、その金属薄層を形成するための金属薄層の形成方法を提供すること。 - 特許庁
  • In the reflecting surface 24a of a reflector 24, a part of a reflective region 24a1 contributing to formation of the opposing lane side horizontal cutoff line of a light distribution pattern for the low beam is formed as a reflecting surface 24e for condensation to reflect light from a light source 22a toward the vicinity of the rear side focus F of a projection lens 28.
    リフレクタ２４の反射面２４ａにおいて、ロービーム用配光パターンの対向車線側の水平カットオフラインの形成に寄与する反射領域２４ａ１の一部を、光源２２ａからの光を投影レンズ２８の後側焦点Ｆ近傍へ向けて反射させる集光用反射面２４ｅとして構成する。 - 特許庁
  • The resist used for pattern formation of a semiconductor integrated circuit contains a phenolic resin, such as 2, 3, 5-trimethyl phenol, having two or more alkyl groups, in which the alkyl groups are formed of the ortho coordination and meta coordination alone without containing a phenolic resin having two or more alkyl groups, in which the alkyl groups are formed of the meta coordination alone.
    半導体集積回路のパターン形成に用いられるレジストであって、アルキル基を２個以上有し、アルキル基がメタ配位のみで形成されるフェノール樹脂を含有せず、アルキル基を２個以上有し、アルキル基がオルソ配位とメタ配位のみで形成される２，３，５−トリメチルフェノール等のフェノール樹脂を含有する。 - 特許庁
  • The transfer form includes a paper base for transfer which has, on a base paper surface, a slowly water-soluble remoistenable adhesive layer and a quickly water-soluble remoistenable adhesive layer, the pattern forming layer containing the conductive material, and an overcoat layer formed of a protective member, The Oken-type smoothness after overcoat layer formation is ≥1,000 seconds.
    本発明の転写用紙は、原紙面上に遅水性再湿糊層と速水溶性再湿糊層とを含む転写用紙基材と、導電性材料を含有するパターン形成層と、保護部材により形成されるオーバーコート層と、を有し、オーバーコート層形成後の王研式平滑度が1000秒以上である。 - 特許庁
  • When the magnetic transfer recording to magnetic recording media is carried on one after another as many times as specified, the ferromagnetic thin-film pattern formation areas 2 on the master information carrier 3 are switched to carry out magnetic transfer recording to following magnetic recording media by using the same mater information carrier.
    次々の磁気記録媒体に対し所定回数の磁気転写記録を行ったときに、マスター情報担体３における強磁性薄膜パターン形成領域２を切り換えることにより、引き続き同じマスター情報担体を用いてさらに続く磁気記録媒体に対する磁気転写記録を遂行する。 - 特許庁
  • To provide a conductive sheet of which the dimensional stability is highly ensured and the high frequency characteristics are also made excellent by enhancing the adhesion of a substrate sheet being an insulating film and a conductive layer while enabling the formation of a fine circuit pattern and improving the moisture absorbability of the substrate sheet.
    本発明の目的は、ファイン化された回路パターンの形成を可能としつつ絶縁性フィルムである基体シートと導電層との密着力を向上させ、さらに基体シートの吸湿性を改善し高度な寸法安定性を確保したとともに高周波特性にも優れた導電性シートを提供することにある。 - 特許庁
  • To provide an unexposed original disk for an optical recording medium wherein formation of a pit pattern and a groove is facilitated while the constitution of an exposure device, condition determination before exposure and exposure machine operation during exposure are simplified at a reduced cost, to provide its exposure method and to provide an undeveloped original disk for the optical recording medium obtained by the exposure.
    ピットパターン及びグルーブの形成を容易にするのみならず、露光装置の構成や露光実施前の条件決定、露光中の露光機操作をより簡潔にし、コストを抑制できる光記録媒体用未露光原盤とその露光方法、及び該露光により得られる光記録媒体用現像前原盤の提供。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive paste composition which allows high-definition pattern formation by controlling the tackiness of a film of a photosensitive paste composition used for various members such as partitions of a flat panel display so that a problem such as contamination of a photomask in exposure is not caused.
    本発明はフラットパネルディスプレイの隔壁などの各種部材に用いる感光性ペースト組成物に関して、その感光性ペースト組成物の膜のタック性を制御し、露光時のフォトマスクの汚れなどの問題を生じないことによって、高精細なパターン形成が可能とする感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁
  • Since the electron beam shielding region 11 adheres tightly to the pattern formation layer 2 by the effect of the minute adhesiveness of the minute adhesive layer 14, the electron beam does not enter the region that shields the electron beam from an oblique direction even if an inexpensive general-purpose electron beam irradiation device is used, thereby allowing very fine and high-resolution patterning.
    微粘着層１４の微粘着効果により、パターン形成層２に電子線遮蔽領域１１が密着するので、汎用型の安価な電子線照射装置を使用しても、電子線を遮蔽する領域に電子線が斜め方向から入射することがなく、高精細、高解像度のパターニングが期待できる。 - 特許庁
  • Then the filler 15 is used to form an insulation layer having such thickness as to cover the circuit part 13, on the pattern formation surface of the first substrate 11.
    回路部品１３と、この回路部品１３を設けた第１の基材１１のパターン形成面との間に形成された隙間（ｇ）に充填材料１５を含浸させて、隙間（ｇ）をすべて充填材料１５ａで埋め込み、充填材料１５により、第１の基材１１のパターン形成面上に、回路部品１３を覆う厚みをもつ絶縁層を形成する。 - 特許庁
  • To provide a laminated tube container having a surface susceptible to the formation of a beautiful printing pattern or the like, having strength, stiffness or the like, excellent in barrier properties against oxygen gas, steam or the like, content resistance or the like and suitable for packaging content, for example, toothpaste, food, cosmetics, medicines and the others.
    表面に美麗な印刷模様等を形成し得ることが可能であり、かつ、強度、腰等を有し、更に、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性、耐内容物性等に優れ、例えば、練り歯磨き、食品、化粧品、医薬品、その他等の内容物の充填包装に適するラミネ−トチュ−ブ容器を提供するものである。 - 特許庁
  • The pattern formation method includes a step of providing affinity for liquid by means 102 for selectively generating plasma on a liquid-repellent thin film, for example, a semiconductor film, on a substrate having insulating property, for example, a glass substrate, and discharging a drop composition onto the surface having affinity for liquid by drop discharge means 103.
    絶縁性を有する基板、例えばガラス基板上に撥液性の薄膜、例えば半導体膜に選択的にプラズマを発生する手段１０２によって親液性にし、前記親液性表面に、液滴吐出手段１０３により液滴組成物を吐出して、パターンを作製する工程を含む。 - 特許庁
  • To provide a heterojunction bipolar transistor that can be selectively etched, can adopt an HBT layer structure containing a semiconductor material with improved adhesion with a mask pattern, forms a guard ring with improved reproducibility without losing the easiness of a guard ring formation process, and has the improved reproducibility of HBT element characteristics, and its manufacturing method.
    選択エッチング可能であり、マスクパターンとの密着性の良好な半導体材料を含むＨＢＴ層構造を採用し、ガードリング形成工程の容易さを損なうことなくガードリングを再現性よく形成し、ＨＢＴ素子特性の再現性が良好なヘテロ接合バイポーラトランジスタおよびその作製方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation, having a development margin allowing formation of a preferable pattern even through development exceeding the optimum developing time in a developing process, and capable of easily forming a patterned thin film having excellent adhesiveness with a substrate.
    高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
  • The hologram sheet material comprises: a long transparent hologram substrate 1 which is transparent to UV rays or electron beams; a transparent rugged thin film layer 2 formed on the surface of the hologram substrate 1 and suitable for reproducing a hologram; and a geometrical pattern formation part 3 locally formed on the transparent rugged thin film layer 2.
    本発明によるホログラム生地は、紫外線または電子線に透明な長尺の透明ホログラム基板１と、前記ホログラム基板１の表面に形成されホログラムの再現に適した透明凹凸薄膜層２と、前記透明凹凸薄膜層２の上に局部的に形成された幾何学模様形成部分３から構成されている。 - 特許庁
  • According to the manufacturing method of the optical disk, formation of the rugged pattern to the sheet shaped substrate member 80 can be performed at a temperature lower than a glass transition point by providing a base member 90 and generation of deformation, distortion and wrinkles can be prevented.
    本発明に係る光ディスクの製造方法によれば、下地部材９０を設けることでシート状基板部材８０への凹凸パターンの形成をガラス転移点未満の温度で行うことが可能となり、シート状基板部材８０及び凹凸パターン２２に対する変形、歪み、シワの発生を防止することができる。 - 特許庁
  • Even when the abnormal pattern formation occurs on a boundary part between the transmissive pixel electrode 17 and the transparent pixel electrode adjacent thereto around the flat part 30, because there is less probability of contact of the two neighboring transparent pixel electrodes with each other, the probability of short-circuiting between the electrodes is reduced.
    平坦部分３０の周囲において透明画素電極１７及びこれと隣り合う透明画素電極との境界部分にパターン形成異常が発生していても、隣り合う２つの透明画素電極が互いに接触する可能性が低くなるため、電極間でのショートの発生確率を減らすことができる。 - 特許庁
  • The method can prevent an inorganic hard mask film from being damaged by the formation of a pattern by forming a multilayer mask layer, including the inorganic hard mask film, an organic mask film, an antireflection film, and a silicon containing photo resist film and dry-etching the antireflection film and the organic mask film using O_2 plasma.
    この方法は無機ハードマスク膜、有機マスク膜、反射防止膜及びシリコン含有フォトレジスト膜が積層された多層のマスク層を形成し、Ｏ_２プラズマで前記反射防止膜及び有機マスク膜を乾式エッチングしてパターンを形成することによって無機ハードマスク膜の損傷を防止することができる。 - 特許庁
  • To provide a method of applying a liquid resist ink for uneven pattern formation which can minimize the consumption of the liquid resist ink and apply the liquid resist ink evenly on a substrate, and further, can check the behavior of the liquid resist ink finding its way all around to the back of the substrate which need not be coated.
    本発明は、液状レジストインキの使用量を少量に抑え、基板上に均一に液状レジストインキを塗布することを可能とし、しかも塗布が不要な基板の裏側部分にまで液状レジストインキが回り込むことが無い凹凸パターン形成用液状レジストインキの塗布方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive adhesive film package which does not generate unevenness on the surface of a photosensitive adhesive film when the photosensitive adhesive film is conveyed and can maintain a pattern formation property and the adhesion of the photosensitive adhesive film when it is preserved for a long period of time.
    感光性接着フィルムを搬送する場合において、該感光性接着フィルムの表面に凹凸を発生させることなく、かつ、長期間保存する場合において、感光性接着フィルムのパターン形成性及び接着性を維持することが可能な感光性接着フィルム梱包体を提供すること。 - 特許庁
  • Since the layer 12 is more excellent in solvent resistance than the base layer 11, the solvent at the time of formation of the pattern layer 2 is hard to remain in the substrate sheet 1 and the blocking of the printed substrate sheet 1 at the time of winding and preservation or the blistering of the laminating surface with the transparent thermoplastic resin layer 4 can be effectively prevented.
    層１２は基層１１よりも耐溶剤性に優れているので、絵柄層２の印刷形成時の溶剤が基材シート１中に残留しにくく、印刷済の基材シート１の巻取り保存時のブロッキングや、透明熱可塑性樹脂層４との積層面のフクレ等を、効果的に防止することができる。 - 特許庁
  • To provide a transfer film for shadow mask formation capable of surely providing a stacked pattern comprising an insulation layer and a conductive layer with high dimensional accuracy without degrading an original function of a shadow mask nor causing trouble such as a pin hole, and capable of manufacturing a predetermined shadow mask with high productivity.
    絶縁層および導電層よりなる積層パターンが、シャドウマスク本来の機能を低下させることなく、しかも、ピンホール等の不具合を発生させることなしに、高い寸法精度で確実に得られ、所定のシャドウマスクを高い生産性で製造することができるシャドウマスク形成用の転写フィルムを提供すること。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a piezoelectric vibration piece in which developer is sufficiently immersed into a fork portion to form a mask pattern with good accuracy and formation failure of an electrode can be prevented, a piezoelectric vibration piece manufactured by the manufacturing method, a piezoelectric vibrator, an oscillator, an electronic apparatus and an electric wave clock using the piezoelectric vibration piece.
    又部に現像液を十分に浸入させてマスクパターンを精度よく形成し、電極の形成不良を防止できる圧電振動片の製造方法と、この製造方法により製造された圧電振動片、この圧電振動片を用いた圧電振動子、発振器、電子機器、および電波時計を提供する。 - 特許庁
  • This layer 13 is exposed to light with the specified pattern and developed, and the part corresponding to the part where barrier ribs are to be formed is removed, and thereby grooves for barrier rib formation 13a and cell forming parts 13b are formed, and the surface of the cell forming parts 13b and the inside of the grooves 13a are covered with die releasing films.
    次に感光性材料層１３を所定のパターンで露光した後に現像して隔壁形成予定部に対応する部分を除去することにより、隔壁形成用溝１３ａ及びセル形成部１３ｂを形成し、セル形成部１３ｂの表面及び隔壁形成用溝１３ａの内部を離型膜にて被覆する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a semiconductor element capable of preventing overlap of a doped region by cell channel ion implantation with a junction region by source/drain ion implantation and damage of a substrate in isotropic etching for formation of a valve pattern of a valve-shaped recess, improving refreshing characteristics of the element, and stabilizing a process.
    セルチャネルイオン注入によるドーピング領域とソース／ドレインイオン注入による接合領域とのオーバーラップ、及び、バルブ型リセスのバルブパターン形成のための等方性エチング時の基板の損傷を防止し、素子のリフレッシュ特性の改善及び工程の安定化が可能な半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor capable of effectively preventing occurrence of a pattern formation fault due to defocusing caused by a foreign matter adhered to a rear surface of a semiconductor wafer in an exposure device used when the surface of the wafer is patterned in a step of manufacturing the semiconductor.
    半導体の製造工程において半導体ウエハー表面にパターニングを行う際に用いられる露光装置に関するものであり、半導体ウエハーの裏面に付着した異物に起因するフォーカスずれによるパターン形成不良の発生を有効に防止する事の出来る半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
  • In a layer wherein bonding pad aluminum 21 is formed, the peripheral removal of an insulating film 17 and an insulating film 18 for pad formation for preventing peeling of the films is performed not over a wiring pattern portion (having residual Cu 16) that becomes a target of Cu removal in the layer of just lower copper wiring 14.
    ボンディングパッドアルミ２１を形成する層において、膜はがれ防止のために行う絶縁膜１７とパッド形成用絶縁膜１８の周辺除去を、すぐ下の銅配線１４の層においてＣｕ除去の対象となった配線パターン部（Ｃｕ残り１６のある箇所）を超えないように行う。 - 特許庁
  • To provide an excellent photosensitive adhesive composition which enables pattern formation and further which not only has both excellent followability and high adhesivity to fine unevenness but also causes no bedewing in a hollow part when applied to a hollow member, and to provide the hollow member obtained by using the same.
    パターン形成が可能で、しかも微細な凹凸に対する優れた追従性と高い接着力を兼ね備えているだけでなく、中空部材に適用した場合に、その中空部に結露を生じることのない、優れた感光性接着剤組成物と、それを用いて得られる中空部材を提供する。 - 特許庁
  • In this manufacturing method, photosensitive resin layers are formed on both faces of a substrate 1, the photosensitive resin layers are irradiated with light for pattern formation, a developer 3 is sprayed simultaneously on the photosensitive resin layers on both faces of the substrate 1, in a state such that the substrate 1 is held vertically, and is subjected to a developing operation.
    基板１の両面に感光性樹脂層を形成し，感光性樹脂層にパターン形成用の光照射を行い，基板１を垂直に保持した状態で基板１における両面の感光性樹脂層に対し同時に現像液３を吹き付けて現像を行うことにより，多層プリント配線板を製造する方法。 - 特許庁
  • To provide a variable display structure that can be easily designed/manufactured and displays at least two different images in response to a viewing angle, without annoying the viewing person, and to provide a variable display medium and an image pattern formation medium used for the variable display structure.
    容易に設計・製造をすることができるとともに、見る人に煩わしさを与えずにみる角度に応じて少なくとも２種類の異なる像を表示させる可変表示構造および可変表示媒体を提供すること、およびそのような可変表示構造に用いる像パターン形成媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The identification marks (for three manufacturers 23a, 23b, and 23c of a Pachinko game machine which uses this main control board 20) of the same kind for specifying a main control board 20 is displayed in an area of the surface of a base board 21, except a wiring pattern formation area, and the main control board 20 is stored in this condition.
    ベース基板２１上における配線パターンの形成領域以外の領域に、メイン制御基板２０を特定するための同種類の識別標識を複数表示（このメイン制御基板２０を使用する弾球遊技機の３つの製造業者２３ａ，２３ｂ，２３ｃ）し、この状態で保管しておく。 - 特許庁
  • In the pixel formation area preformed on a transparent substrate, an ink layer is formed by selectively sticking the curable color ink of ≥40 wt.% in solid-component density which contains a pigment and a curable component with an ink jet method, and the ink layer is cured by light irradiation and/or heat irradiation to form a prescribed pattern.
    透明基板上に予め形成される画素形成領域に、顔料および硬化可能な成分を含む固形分濃度が４０重量％以上である硬化性カラーインクを、インクジェット法によって選択的に付着させて、インク層を形成し、該インク層を、光照射および／または熱照射によって硬化させて所定のパターンを形成する。 - 特許庁
  • A formation pattern of an adhesive 13 for adhesively holding the movable contact 11 on a base sheet 12 is arranged as a circular arc part 13A formed by dividing a circumference of a circular ring into equally-shaped four parts, and four linear parts 14 on which the adhesive 13 is not applied are formed so as to extend radially from the center of the movable contact 11 at nglean equal angle.
    可動接点１１をベースシート１２に粘着保持させるための粘着剤１３の形成パターンを、一つの円形リングの円周を均等に四分割する円弧部１３Ａとして設け、粘着剤１３の非形成部分としてなる四つの直線部１４が可動接点１１の中心から均等角度位置に放射状で配される構成とした。 - 特許庁
  • A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.
    可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ５μｍ未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁
  • To obtain such an inorganic particle-containing resin composition and a transcribing film usable suitably for forming a pattern with a high dimensional accuracy and that is excellent in the storage stability and is preferably used for the formation of a panel material such as a dielectric layer in a plasma display panel, an electrode, a phosphor, a color filter, a partition wall and a black stripe (a matrix).
    寸法精度の高いパターンを形成するために好適に使用することが可能な、保存安定性に優れる、プラズマディスプレイパネルの誘電体層、電極、蛍光体、カラーフィルター、隔壁、ブラックストライプ（マトリクス）などのパネル材料の形成に好ましく用いられる無機粒子含有樹脂組成物および転写フィルムを提供すること。 - 特許庁
  • The alignment mask D of the head unit 1 carrying a plurality of the droplet delivery heads 3 on the single carriage 2 is provided with a master plate 161 being a pattern formation of a reference position 164 of each droplet delivery head 3 in a planar surface parallel to the nozzle formative surface 52 of the droplet delivery head 3 and a reference position 165 of the carriage 2.
    単一のキャリッジ２に複数の液滴吐出ヘッド３を搭載したヘッドユニット１のアライメントマスクＤであって、液滴吐出ヘッド３のノズル形成面５２に平行な平面内における各液滴吐出ヘッド３の基準位置１６４およびキャリッジ２の基準位置１６５をパターン形成したマスタプレート１６１を備えたものである。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a luminous material compounded molding in which occupied time or working time of a molding die in molding is short, in which formation of a local luminous pattern is easy while generation of pinhole defects hardly occurs, and in which durability against wear is superior, and to provide a method of manufacturing a luminous material compounded resin sheet and a luminous material compounded molding.
    成形における成形型の占有時間や作業時間が短く、局所的な蓄光模様の形成が容易で、ピンホール不良が発生し難い、摩耗への耐久性に優れた蓄光材配合成形品を製造できる方法、及び蓄光材配合樹脂シートの製造方法、並びに蓄光材配合成形品の提供を目的とする。 - 特許庁
  • As a barrier rib formation process to form the barrier rib 110 on a rear substrate of the PDP, a first process to form a barrier rib forming material layer 120, a second process to pattern the barrier rib forming material layer 120, and a third process to form the barrier rib 110 by calcining the patterned barrier rib forming material layer 120 are implemented.
    ＰＤＰの背面基板１０３に隔壁１１０を形成する隔壁形成工程として、隔壁形成材料層１２０を形成する第１工程と、隔壁形成材料層１２０をパターニングする第２工程と、パターニングされた隔壁形成材料層１２０を焼成して隔壁１１０を形成する第３工程と、を実施する。 - 特許庁
  • An image pattern for consuming toner is formed to forcibly consume toner before the first image formation after a developer supplied state is attained by dropping the developer 13 from a supply developer storing part 21 into a developer storing case 17 and the toner 13a from a supply toner storing part 22 into a toner hopper, respectively.
    現像剤１３が投入用現像剤収容部２１から現像剤収容ケース１７内に、トナー１３ａが投入用トナー収容部２２からトナーホッパ内にそれぞれ落下して投入された状態になってから初めての画像形成を行う前に、トナー消費用画像パターン形成を行い、強制的にトナーを消費させる。 - 特許庁
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