At the time of detecting the feature part, a feature part detecting part 14 prepares a pattern for detection from the past data pattern, and recognizes the data pattern matched with the pattern for detection as a normal data pattern, and recognizes the data pattern mismatched with the pattern for detection as the data pattern of the feature part. 検出に際し、特徴箇所検出部14は、過去のデータパターンから検出用パターンを作成し、この検出用パターンとマッチするものは通常のデータパターンと認識し、マッチしないデータパターンは特徴箇所のデータパターンであるものと認識する。 - 特許庁
The at least one transmission hole of the metal thin plate 14 is formed in a pattern shape such as a radiation eye pattern, circle pattern, spiral pattern, stripe pattern, radiation eye pattern, or lattice film pattern, and an uneven pattern is disposed on the upper surface 14c of the metal thin plate 14. 金属薄板14の少なくとも1つの透過孔は放射目模様状やサークル模様状、渦巻模様状、ストライプ模様状、放射目模様状、格子模様状などの模様状に設け、更に、金属薄板14の上面14cには凹凸模様を設ける。 - 特許庁
The inductor includes: a metal layer pattern; a rearrangement layer pattern formed as the upper layer of the metal layer pattern; and a via layer pattern which is formed between the metal layer pattern and the rearrangement layer pattern, and conductively connected to the metal layer pattern and the rearrangement layer pattern. インダクターは、金属層パターンと、金属層パターンの上層として形成される再配置層パターンと、金属層パターンと再配置層パターンの間に形成され、金属層パターンと再配置層パターンに導電的に接続されるビア層パターンとを含む。 - 特許庁
A plurality of pattern rows consists of a first pattern row and a second pattern row, and the pattern in the first pattern row is rotationally fluctuated around a first rotation axis, while the pattern in the second pattern row is rotationally fluctuated around a second rotation axis. 複数の図柄列は、第1の図柄列と第2の図柄列とを有し、第1の図柄列の図柄は第1の回転軸を中心に回転変動され、第2の図柄列の図柄は第2の回転軸を中心に回転変動される。 - 特許庁
The photomask is provided with a device pattern having an opening part and a mask pattern and a focus monitor pattern or an exposure monitor pattern which has the opening part and the mask pattern and has the same plane pattern shape with at least one part of region of the device pattern on a photomask. フォトマスク上に、開口部とマスク部を有するデバイスパターンと、開口部とマスク部を有し、デバイスパターンの少なくとも一部の領域と同じ平面パターン形状を持つフォーカスモニターパターンまたは露光量モニターパターンを有する。 - 特許庁
Then, display data of the embroidered pattern, printed pattern, and embroidered frame pattern are created (S12-S14), and the embroidered pattern, printed pattern, and embroidered frame pattern are displayed on the display 12 (S15). 次に、刺繍模様表示データと印刷模様表示データと刺繍枠模様表示データが作成され(S12〜S14)、刺繍模様と印刷模様と刺繍枠模様がディスプレイ12に表示される(S15)。 - 特許庁
When the pattern in the first pattern row and the pattern in the second pattern row are superposed mutually and the superposed pattern shows a completed pattern 1a as a predetermined display form, a privilege is given to the player. 第1の図柄列の図柄と第2の図柄列の図柄とが重畳され、重畳された図柄が所定の表示態様としての完成図柄(1a)をなす時に、遊技者に特典を与える。 - 特許庁
It is decided whether the pattern is the alignment pattern or not, when it is found that the pattern is the alignment pattern, a step S17 is selected, and the alignment pattern is replaced with the predetermined split alignment pattern. パターンが位置合わせ用パターンであるかどうかを判断し、位置合わせ用パターンであるとすると、ステップS17に移行して、予め定められた分割済みの位置合わせ用パターンに置き換える。 - 特許庁
A pattern line to be displayed in each pattern display part of a special pattern display device 27 is selected by pattern display part from a prescribed number of pattern lines larger than the number of pattern display parts. 特別図柄表示装置27の各図柄表示部のそれぞれにおいて表示する図柄列を、図柄表示部の数より多い所定数の図柄列から各図柄表示部別に選択する。 - 特許庁
Then, an identification pattern B7a and a decoration pattern A7a constituting a left pattern stop and an identification pattern B7a and a decoration pattern A7a constituting a right pattern stop, thereby ready-for-winning is formed. そして、左図柄を構成する識別図柄B7aおよび装飾図柄A7aが停止し、次に右図柄を構成する識別図柄B7aおよび装飾図柄A7aが停止し、リーチになる。 - 特許庁
When the variable display pattern is a losing pattern, the established performance pattern and established decorative pattern of a ready-to-win losing combination or the established performance pattern and established decorative pattern of a normal losing combination are determined. 可変表示パターンがハズレパターンである場合には、リーチハズレ組合せの確定演出図柄と確定飾り図柄や通常ハズレ組合せの確定演出図柄と確定飾り図柄を決定する。 - 特許庁
Etching is carried out so that the first mask pattern is left in a region where the first pattern and first mask pattern cross each other and the second pattern is left in a region where the first pattern and second pattern cross each other. 第1のパターンと第1のマスクパターンが交差する領域に第1のマスクパターンが残留し、第1のパターンと第2のパターンが交差する領域に第2のパターンが残留するようにエッチングを行う。 - 特許庁
A conversion pattern deciding part 53 selects the first code pattern or the second code pattern on the basis of information from the RLL conversion pattern processing part 51, the replacement pattern processing part 52, and the replacement pattern processing control part 54. 変換パターン決定部53は、RLL変換パターン処理部51、置換パターン処理部52、そして置換パターン処理制御部54からの情報にもとづいて、第1の符号パターンまたは第2の符号パターンを選択する。 - 特許庁
Furthermore, the same pattern as the basic pattern P0 is arranged on a 1-part of the primary developed pattern, and the 0-pattern having the same number of digits as the basic pattern is arranged on a 0-part, to thereby acquire a secondary developed pattern P2. さらに、1次展開パターンの1の部分に、基本パターンP0と同じパターンを配置し、0の部分に、基本パターンと同じ桁数の0パターンを配置することによって、2次展開パターンP2を得る。 - 特許庁
The antenna element pattern 13 is formed of a conductor pattern wider than the feeding pattern 11 and the shorting pattern 14 is formed of a narrow conductor pattern equal to the feeding pattern 11. アンテナ素子パターン部13が給電パターン部11よりも幅広の導体パターンで形成されるとともに、短絡パターン部14が給電パターン部11と同等の幅狭の導体パターンによって形成される。 - 特許庁
To provide the first pattern forming material and the second pattern forming material both capable of giving an electroformable resin pattern, and to provide a pattern forming body using the pattern formaing materials. 電鋳可能な樹脂版を得る第一のパターン形成材料と第二のパターン形成材料を提供し、前記パターン形成材料を用いパターン形成体を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern defect inspecting device capable of simultaneously inspecting both of a chrome pattern and a phase shift pattern without detecting pseudo defect in a photomask in which the chrome pattern and the phase shift pattern coexist. クロムパターンと位相シフトパターンの混在フォトマスクにおいて、擬似欠陥を検出すること無く、両パターンを同時に検査できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
In a method for forming the resist pattern, the resist pattern is formed and then the surface of the resist pattern is coated with the resist pattern thickening material to form a thickened resist pattern. レジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することにより厚肉化レジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 - 特許庁
The apparatus to be authenticated detects a vibration pattern generated by the portable device, and compares the vibration pattern with the registered vibration pattern to determine whether or not the vibration pattern matches the registered vibration pattern. 認証対象の機器は、携帯装置が発生した振動パターンを検知し、その振動パターンと登録振動パターンとを比較し、一致するか否かを認証する。 - 特許庁
When the master pattern and slave pattern are selected, a main control part outputs a command (a variable display pattern command) representing the selected master pattern and slave pattern to a presentation control part. 主制御部は親パターンおよび子パターンを選択すると、選択された親パターンおよび子パターンとを示すコマンド(変動パターンコマンド)を演出制御部に対して出力する。 - 特許庁
A special pattern display device 30 displays a pattern formed of a background pattern 30b, a character pattern 30c and a judgment pattern 30d, and these patterns are successively superposed and displayed. 特別図柄表示装置30が背景図柄30bとキャラクタ図柄30c、判定図柄30dから構成されると共に該図柄が順次重畳して表示される。 - 特許庁
This shedding controller has a starting pattern setting device 13b setting a starting pattern Ksi, a stationary pattern setting device 13a setting a stationary pattern Kri and shedding pattern selector 14. 起動パターンKsiを設定する起動パターン設定器13bと、定常パターンKriを設定する定常パターン設定器13aと、開口パターン選択器14とを設ける。 - 特許庁
The pattern reproduction processing means 4 generates base sound in accordance with the base pattern or the single sound pattern of the root sound of the base pattern corresponding to the key pushing pattern at the code keyboard 1-1. パターン再生処理手段4は、コード鍵盤1−1での押鍵パターンに応じてベースパターン通りあるいはベースパターンのルート音の一音パターンでベース音を発音させる。 - 特許庁
The pattern deciding means 144 sets a pattern table according to the accumulated frequencies among a plurality of the pattern tables as a pattern table which has to be referred to for selecting the variation pattern. パターン決定手段144は、複数のパターンテーブルのうち累積回数に応じたパターンテーブルを、変動パターンの選択において参照すべきパターンテーブルとして設定する。 - 特許庁
When the quality test is started, a PN pattern generating section 13 generates a signal-pattern P, the pattern P is looped back by the loopback loop and a PN pattern synchronization section 15 receives the looped back pattern. 品質試験の開始されると、PNパターン発生部13が信号パターンPを発生し、それが折り返しループで折り返されてPNパターン同期部15に受信される。 - 特許庁
To provide a pattern measurement device and a pattern measurement method that easily discriminate between a line pattern and a space pattern without being affected by luminance of a pattern. パターンの輝度の影響を受けることなく、ラインパターンとスペースパターンを容易に識別することのできるパターン測定装置及びパターン測定方法を提供すること。 - 特許庁
The modifications include the Bishamon Kikko pattern based on the pattern combining three hexagons which is found on the Katchu (armor and helmets) of Bishamonten (Vaisravana), and the komochi kikko (literally, child-bearing kikko) pattern in which a hexagonal pattern includes another small hexagonal pattern inside). 応用パターンとして亀甲を三つ組み合わせた毘沙門天の甲冑に見られる毘沙門亀甲、入れ子状にした子持亀甲などがある - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To provide a pattern collating device of a line pattern capable of strictly identifying any deformation in the input pattern, a pattern collating method thereof, and a pattern collating program. 入力図形に変形があっても厳密に識別することのできる、線図形のパターン照合装置とそのパターン照合方法、及びパターン照合プログラムを提供する。 - 特許庁
The primary data represent a primary pattern 110 which is shorter from each pattern by a certain length from the actual end of the pattern, and the secondary data represent a secondary pattern 120 that is the portion shortened from the pattern. 一次データは、各パターンの実際の端部から一定量だけ短い一次パターン110を表し、二次データは、この短くした分だけの二次パターン120を表す。 - 特許庁
The rate matching pattern is defined by one set of rate matching pattern parameters. レートマッチングパターンは1組のレートマッチングパターンパラメータで定義される。 - 特許庁
COATING AGENT FOR RESIST PATTERN AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE AGENT レジストパターンコーティング剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN EVALUATION METHOD AND PROGRAM パターン評価方法およびプログラム - 特許庁
METHOD OF ADJUSTMENT PATTERN, ADJUSTMENT PATTERN, AND PRINTER 調整用パターンの形成方法、調整用パターン、及び、印刷装置 - 特許庁
FORMATION OF MULTICOLOR PATTERN COATING FILM 多彩模様塗膜形成方法 - 特許庁
Each pattern land is connected with a ground pattern line (with potential of 0 V). 各パターンランドは、グランドパターンライン(電位0V)に接続されている。 - 特許庁
FORMING METHOD OF METAL FILM PATTERN 金属膜パターンの形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD OF METAL FILM 金属膜のパターン形成方法 - 特許庁