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＜前へ 1 2 .... 784 785 786 787 788 789 790 791 792 .... 999 1000 次へ＞- In this semiconductor device, electric continuity is made from a surface pattern 3 formed on a surface 2 of a semiconductor element 1 to the rear 6 of the element 1 via through holes 4, a rear pattern 8 connected with the through holes 4 is formed on the rear 6 of the element 1, and lands 9 as external terminals linked with the rear pattern 8 are formed.
半導体素子１の表面２に形成した表面パターン３からスルーホール４を介して半導体素子１の裏面６に導通をとり、この半導体素子１の裏面６に前記スルーホール４に接続された裏面パターン８を形成すると共に、同裏面パターン８に繋がる外部端子としてのランド９を形成してなる半導体装置。 - 特許庁 - A controller 1 compares a first light dimming stage at a starting period of the light dimming pattern, a second light dimming stage at an ending period of the light dimming pattern, and a third light dimming stage directly before starting of dimming of the light dimming pattern, in dimming lighting loads LA, LB by reading out light dimming patterns stored in a storage 4.
制御部１は、記憶部４に記憶されている調光パターンを読み出して照明負荷ＬＡ，ＬＢを調光する際、調光パターンの始期における第１の調光段階と、調光パターンの終期における第２の調光段階と、調光パターンの調光を開始する直前の第３の調光段階とを比較する。 - 特許庁 - To provide a method for making, on a semiconductor surface, a desired pattern having depth changed depending on the place thereof, by using a first mask having a desired pattern and a second mask for controlling the amount of etching seeds diffused in an opening of the desired pattern, the method providing a distribution corresponding to the change in depth, of supply of etching seeds contributing etching.
所望のパターンを有する第１のマスクと、所望のパターンの開口部に拡散されるエッチング種の量を制御するための第２のマスクとを用いて、深さが場所によって変化する前記所望のパターンを半導体表面に作製するための方法において、エッチングに寄与するエッチング種の供給に前記深さの変化に対応した分布を設ける。 - 特許庁 - To provide an alkaline soluble polymer having a low hardening shrinkage and excellent in physical properties of the hardened film, a photosensitive resin composition excellent in pattern shape, chemical resistance, physical properties and storing stability of cured products even in curing at a low-temperature region, a manufacturing method of cured relief pattern using the composition, and to provide a semiconductor device comprising the cured relief pattern.
硬化収縮が低く、かつ硬化膜の物性に優れるアルカリ可溶性重合体、及び低温領域でのキュアによっても、キュア後のパターン形状、耐薬品性、物性や保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、並びに該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置などの提供。 - 特許庁 - The determining apparatus includes a projector 21 for projecting a pattern on a surface of a translucent resin 15, a CCD camera 22 for photographing the pattern projected on the surface of the translucent resin 15, and an arithmetic processing unit 23 for determining the surface shape or filling amount of the translucent resin 15 based on a pattern image captured by the CCD camera 22.
透光性樹脂１５の表面にパターンを投影する投影装置２１と、透光性樹脂１５の表面に投影されたパターンを撮影するＣＣＤカメラ２２と、ＣＣＤカメラ２２によって撮影されたパターン画像に基づき透光性樹脂１５の表面形状もしくは充填量を判定する演算処理部２３とを備えている。 - 特許庁 - When selecting a variation pattern for a game ball which has entered a first winning port 105 in the game state with time shortening, which is changed by the change part 304, a selection part 305 selects the variation pattern using a special variation pattern table having extremely short variation time, which is set in a table setting part 303.
選択部３０５は、変更部３０４によって変更された時短付き遊技状態において、第１始動口１０５に入賞した遊技球に対する変動パターンを選択する場合には、テーブル設定部３０３に設定される、極めて短時間の変動時間を有する特殊変動パターンテーブルを用いて、変動パターンを選択する。 - 特許庁 - The top and bottom determination part 27 performs the matching of each character pattern when the direction of a character pattern shown by image data is set to each of vertical and horizontal four directions with the character pattern of dictionary data by referring to the dictionary data of Japanese and the dictionary data of English, and determines the top and bottom direction of the image data based on the result of matching.
天地判定部２７は、日本語の辞書データおよび英語の辞書データを参照して、画像データに示される文字パターンの方向を上下左右の４方向の各々にした場合の各文字パターンと前記辞書データの文字パターンとのマッチングを行い、前記マッチングの結果に基づいて前記画像データの天地方向を判定する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method by which a preliminarily determined pattern such as a grating, comb-shaped and circular pattern can be formed in a single film forming process using a single mask under conventional various mask use environments such as high temperature, low temperature, vacuum and gas atmospheres, and to provide a patterned substrate prepared by the method, and a solar cell element using the substrate.
従来の高温・低温・真空・ガス雰囲気中などの様々なマスク使用環境下で、格子状、櫛形、環状などの所定のパターンの成膜を、単独のマスクを用いて１回の成膜で行うことができるパターン形成方法、該方法によって作成されたパターン形成基板、及び該基板を用いた太陽電池素子の提供。 - 特許庁 - After a projected pattern layer 2, wherein a plurality of conductive particles are partially fused within the layer, is formed by printing the ink of conductive composition including the conductive particles and binder resin in the form of a pattern on a transparent basic material 1, a metal layer 3 is formed as an electromagnetic wave shielding material 10, by electrolytic plating on the front surface of the projected pattern layer.
透明基材１上に、導電性粒子とバインダ樹脂を含む導電性組成物のインキをパターン状に印刷して、層内部で複数の導電性粒子が部分的に融合している凸状パターン層２を形成した後、この凸状パターン層の表面に電解めっきで金属層３を形成して電磁波シールド材１０とする。 - 特許庁 - A mask case that accommodates a mask on which a cylindrical pattern face is formed around a certain center axis includes a case body that forms a storage space for storing the mask and includes a window facing the pattern face of the mask stored in the storage space, and a regulation part that regulates a movement of the mask to prevent the pattern face from contacting the case body.
所定の中心軸線周りに円筒面状にパターン面が設けられたマスクを収容するマスクケースであって、マスクを収容する収容空間を形成し、収容空間に収容されたマスクのパターン面に対向する窓部が設けられたケース本体と、パターン面がケース本体に接触しないようにマスクの移動を制限する制限部と、を備える。 - 特許庁 - To provide a polymeric ultrathin film and a pattern thereof, having little variance in the film thickness and excellent adhesiveness to a substrate, showing sufficient pattern resolution by irradiation exposure to electron beams, short-wavelength exposure light or the like, and having a structure controlled in a nanometer level, and to provide a method for forming a polymeric ultrathin film pattern.
本発明は、膜厚のバラツキが少なく、かつ基板との密着性に優れ、電子線や短波長の露光光などの照射露光によって十分なパターン解像度を示し、ナノメートルレベルで構造制御された高分子超薄膜およびそのパターン、並びに、高分子超薄膜パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To measure an output voltage of a circuit pattern using a tester with no extra space required for forming a test point on a substrate body that has the circuit pattern, related to a circuit board where a plurality of signal lines of a flexible flat cable are connected to the circuit pattern of the substrate body.
フレキシブルフラットケーブルの複数の信号ラインが基板本体の回路パターンに接続されている回路基板において、回路パターンを有する基板本体にテストポイントを形成するためのスペースを余分に設ける必要性を無くしているにもかかわらず、回路パターンの出力電圧の測定をテスタを用いて測定することができるようにする。 - 特許庁 - To provide a projector type headlight for a vehicle, switching between light distribution patterns for low beams and for high beams, in which hot zones for both the light distribution pattern for low beams and the light distribution pattern for high beams secure sufficient brightness, and each light distribution pattern contains the optimal shape and a light intensity distribution.
ロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンの切換えが可能なプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンのホットゾーンとハイビーム用配光パターンのホットゾーンが共に十分な明るさを確保することができ、且つ夫々の配光パターンが最適な形状及び光度分布を有するようにすることにある。 - 特許庁 - The travel plan generating device 1 for generating a travel speed pattern as a speed control target of a vehicle, includes an ECU 2 for acquiring deceleration information of a preceding vehicle that travels in front of the vehicle, and generating a speed pattern for stop as a travel speed pattern for stopping the vehicle based on the acquired deceleration information.
本発明は、車両の速度制御目標である走行速度パターンを生成する走行計画生成装置１であって、車両の前方を走行する先行車両の減速情報を取得し、取得した減速情報に基づいて、車両を停止させるための走行速度パターンである停止用速度パターンを生成するＥＣＵ２を備える。 - 特許庁 - To provide correction methods for a photomask capable of correcting an auxiliary pattern of the photo mask, when the auxiliary pattern is resolved on a surface to be transferred by a reliable and compatibly easy method in the photo mask having an ArF excimer laser as an exposure light source and having the auxiliary pattern used for projection exposure by means of deformation illumination, and to provide a corrected photomask.
ＡｒＦエキシマレーザを露光光源とし、変形照明による投影露光に用いられる補助パターンを有するフォトマスクにおいて、補助パターンが転写対象面に解像されてしまう場合のフォトマスクを、確実で比較的容易な方法により補助パターンを修正するフォトマスクの修正方法および修正されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - The screen 20 which has the diffusion function of diffusing incident light and also includes a pattern 22b for coordinate recognition wherein coordinates on a surface 20a are patterned by the predetermined algorithm, includes a support base material 21 and the layer of the pattern 22 for the coordinate recognition, which is supported by the support base material 21 and includes the pattern 22b for the coordinate recognition.
入射した光を拡散させる拡散機能を持つとともに、表面２０ａ上の座標が所定のアルゴリズムでパターン化された座標認識用パターン２２ｂを含むスクリーン２０は、支持用基材２１と、支持用基材２１により支持され、座標認識用パターン２２ｂを含む座標認識用パターン２２層とを備えている。 - 特許庁 - The lithography simulation method includes steps of: applying defocus processing to an image formation condition of lithography simulation by referring to a table with a relationship between the dimension of a mask pattern of a simulation object and a defocus amount specified therein; and calculating the dimension of a transfer pattern corresponding to the mask pattern using the image formation condition with the defocus processing applied thereto.
リソグラフィシミュレーションの結像条件に対して、シミュレーション対象のマスクパターンの寸法とデフォーカス量との関係が規定されたテーブルを参照してデフォーカス処理を施す工程と、前記デフォーカス処理が施された結像条件を用いて前記マスクパターンに対応する転写パターンの寸法を算出する工程と、を備えたリソグラフィシミュレーション方法である。 - 特許庁 - A display device includes: an LED 3 to which one of two electrodes supplied with electric power is connected by a wire 7; and the wiring board 2 having a mounting pattern 221 mounted with the LED 3, and a first wire connection pattern 222x and a second wire connection pattern 222y to which wires are connected, formed on an insulating substrate 21.
表示装置は、電源が供給される２つの電極のうち、一方の電極がワイヤ７で接続されたＬＥＤ３と、ＬＥＤ３が搭載された搭載パターン２２１とワイヤが接続された第１ワイヤ接続パターン２２２ｘおよび第２ワイヤ接続パターン２２２ｙとが絶縁性基板２１に形成された配線基板２とを備えている。 - 特許庁 - There is provided an antenna pattern frame according to an exemplary embodiment of the present invention, including: a film radiator that includes a protective film supporting one surface or both surfaces of a radiator provided with an antenna pattern part; and a radiator frame that is an injection molded part to which the film radiator is fixed and that embeds the antenna pattern part in the electronic device case.
本発明の一実施例によるアンテナパターンフレームは、アンテナパターン部が形成される放射体の一面または両面を支持する保護フィルムを含むフィルム放射体と、前記フィルム放射体が固定される射出体であって、前記アンテナパターン部が電子装置のケースの内部に埋め込まれるようにする放射体フレームと、を含むことができる。 - 特許庁 - The multiple patterns include: a first pattern for generating a requested value accompanying a start of an engine; a second pattern for generating a requested value after the start of the engine while generating no request value during the start of the engine; and a third pattern for generating no request value both during and after the start of the engine.
複数のパターンは、エンジンの始動開始にともなって要求値を発生させる第１のパターンと、エンジンの始動中には要求値を発生させない一方、エンジンが始動した後に要求値を発生させる第２のパターンと、エンジンの始動中およびエンジンが始動した後のいずれにおいても要求値を発生させない第３のパターンとを含む。 - 特許庁 - The mask assembly includes an open mask having a plurality of first openings formed, and a pattern mask coupled to the open mask, the pattern mask having a plurality of second openings disposed within an area bounded by the first openings, wherein the open mask is formed of a material having a thermal expansion coefficient that is lower than a thermal expansion coefficient of the pattern mask.
マスク組立体は、複数の第１開口部が形成されるオープンマスクと、前記オープンマスクに接合され、前記第１開口部内側に位置する複数の第２開口部が形成されるパターンマスクとを含み、前記オープンマスクは前記パターンマスクに比べて相対的に小さい熱膨脹係数を有する物質で形成されることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of pattern formation that is improved in the pattern collapse, line edge roughness and scum occurrence, being free from any profile deterioration, and that exhibits appropriate following properties for the liquid for liquid immersion at the stage of liquid immersion exposure, while improving performance of reducing bubble defects, and to provide a method of forming a pattern with the use of the composition.
現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - When the rotational speed of the polygon mirror is fine-adjusted to correct a magnification in the sub-scanning direction Z, a screen pattern 80 used as image formation means is changed to a screen pattern in which interference is hard to generate against a displacement of a beam in the sub-scanning direction Z, for example, a screen pattern which has a large angle of a straight line D1 to the main scanning direction Y.
副走査方向Ｚの倍率を補正するために、ポリゴンミラーの回転速度を微調整する際に、画像形成手段として用いられているスクリーンパターン８０をビームの副走査方向Ｚのずれ量に対して干渉が発生しにくいもの、例えば、直線Ｄ１の主走査方向Ｙとのなす角度が大きいスクリーンパターンに変更する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a double-sided photomask having a diffraction optical element pattern formed on a transparent substrate, which is capable of obtaining desired optical characteristics by accurately recognizing the etched state of the transparent substrate to form the diffraction optical element pattern with precise etching depth and pattern dimensions, and to provide the double-sided photomask.
透明基板に回折光学素子パターンが形成されている両面フォトマスクの作製方法において、透明基板のエッチング状態を正確に把握して、回折光学素子パターンのエッチング深さおよびパターン寸法を高精度に形成し、所望の光学特性を得ることが可能な両面フォトマスクの作製方法および両面フォトマスクを提供する。 - 特許庁 - The game machine is characterized in that when a request information image including information for requesting the generation of specified sound having a specified waveform pattern to a player is displayed at a display device at prescribed timing, and when determining that the specified waveform pattern is included in the waveform of input sound thereafter, a performance based on specified performance pattern data is executed.
所定のタイミングで、特定の波形パターンを有する特定音の生成を遊技者に対して要求するための情報を含む要求情報画像を表示装置に表示し、その後の入力音の波形に特定の波形パターンが含まれると判断した場合、特定の演出パターンデータに基づく演出を実行することを特徴とする遊技機。 - 特許庁 - When a mesh pattern successively appears in a direction Z by the grid electrode 22, in the mesh pattern partially chipped in a peripheral region 43, the mesh pattern is not formed, when the width a, b of the shape of an opening 41 that is to be uniquely determined becomes smaller than a predetermined size.
周縁部分４３で一部が欠けた状態で形成されている網目状のパターンにおいて、グリッド電極２２で同一の網目状のパターンをＺ方向に連続的に出現させるのであれば一義的に決まるであろう開口４１の形状の幅ａ，ｂが予め定められた大きさを下回るときは、その網目状のパターンは形成しない。 - 特許庁 - The imaging apparatus has: a first zoom control mode in which a zoom position is arranged in a first pattern between a wide angle end and a telephoto end and can be changed by first operation members 200 and 201; and a second zoom control mode in which a zoom position, arranged in a second pattern coarser than the first pattern, can be designated and changed by a second operation member 202.
撮像装置は、広角端から望遠端までの間でズーム位置を第１のパターンで配置して第１の操作部材２００、２０１により変更可能な第１のズーム制御モードと、第１のパターンよりも粗い第２のパターンで配置されたズーム位置を第２の操作部材２０２により指定して変更可能な第２のズーム制御モードとを有する。 - 特許庁 - When selecting a variation pattern for a game ball which has entered a first winning port 105 in the first game state with time shortening before being changed to the second game state with time shortening by the change part 304, a selection part 305 selects the variation pattern using a special variation pattern table which is set in a table setting part 303.
選択部３０５は、変更部３０４によって第２時短付き遊技状態に変更される前の第１時短付き遊技状態において、第１始動口１０５に入賞した遊技球に対する変動パターンを選択する場合には、テーブル設定部３０３に設定される特殊変動パターンテーブルを用いて、変動パターンを選択する。 - 特許庁 - Further, the conductor pattern layer is a conductive composition layer formed of conductive particles and a resin via a primer layer, it being preferred that the primer layer is thicker at a formation part of the conductor pattern layer than at a non-formation part and the conductive particles are dense nearby the top of a projection as the formation part of the conductor pattern layer and coarse nearby the primer layer.
更に、導電体パターン層がプライマ層を介して形成した、導電性粒子と樹脂の導電性組成物層で、プライマ層の厚さが導電体パターン層の形成部が非形成部より厚く、且つ導電体パターン層の形成部である凸部の内で導電性粒子が頂上部近傍で密でプライマ層近傍で疎であるのが好ましい。 - 特許庁 - The circumferential length L of a secondary transfer roller 119, the repeating interval P of a drum clearance-correcting pattern 412 to be repeatedly drawn, a maximum value p_max of sub-scanning directional width of lines included in the pattern and a minimum value g_min of sub-scanning directional clearance of adjacent lines in the pattern satisfy the relation of p_max≤|P-L|≤g_min.
２次転写ローラ１１９の周長Ｌと、繰り返し描画されるドラム間隔補正用パターン４１２の繰り返し間隔Ｐと、パターンに含まれる線の副走査方向の幅の最大値ｐ_ｍａｘと、パターンにおいて隣接する線の副走査方向の間隔の最小値ｇ_ｍｉｎとが、ｐ_ｍａｘ≦｜Ｐ−Ｌ｜≦ｇ_ｍｉｎの関係を満たすことを特徴とする。 - 特許庁 - The pattern face includes a first area having a device pattern and a second area having the alignment mark, and when the uncured resin and the mold are pressed to each other, the pattern face is configured so that a second time when a recess part of the second area is charged with the uncured resin is after a first time when a recess part of the first area is charged with the uncured resin.
パターン面は、デバイスパターンを有する第１領域とアライメントマークを有する第２領域とを含み、未硬化樹脂と型とが互いに押し付けられた場合に、第１領域の凹部が未硬化樹脂で充填される第１時刻より、第２領域の凹部が未硬化樹脂で充填される第２時刻が後になるように構成される。 - 特許庁 - When the laminate photospacer is formed, a shading pattern formed by using an inkjet method or a printing method is arranged on a part having no use for the laminate photospacer on a resist for forming the laminate photospacer to be masked and after that, the whole surface of the substrate is exposed and next, the shading pattern and the unexposed resist for forming the laminate photospacer on the part of the shading pattern part are removed.
前記積層フォトスペーサを形成する際に、積層フォトスペーサ形成用レジスト上の積層フォトスペーサを不要とする部分に、インクジェット法または印刷法を用いて形成された遮光パターンを配置してマスキングし、その後基板を全面露光し、その後、前記遮光パターンと遮光パターン部分の未露光の積層フォトスペーサ形成用レジストを除去する。 - 特許庁 - The comparison/determination part 39 compares the individual entry pattern information which is characteristic to the entry person stored in the individual entry pattern information storage area 42 with the entry pattern information 38 other than the entry requisite section of the mark card, and determines the presence/absence of the mark according to whether or not the both patterns are analog, and makes a mark presence/absence information storage area 43 store the output result.
比較判断部39は、個別記入パターン情報記憶領域42に記憶されている記入者に特徴的な個別記入パターン情報とマークカードの記入必須部分以外の記入パターン情報38を比較して、両パターンが相似形であるか否かによって、マーク有無を判断し、その出力結果をマーク有無情報記憶領域43に記憶させる。 - 特許庁 - To provide a pattern data conversion method and a pattern data conversion device for, in the case of extracting an outline from an SEM image and converting the contour into polygon coordinate data such as GDSII (General Data Stream), reducing the number of coordinate points configuring the contour as much as possible, and at the same time, suppressing the fluctuation of a pattern shape so as to be an extent that transfer simulation is not affected.
ＳＥＭ画像から輪郭線を抽出してＧＤＳＩＩなどのポリゴン座標データに変換する際に、輪郭を構成する座標点数をなるべく少なくすると同時に、パターン形状の変動を転写シミュレーションに影響がない程度に抑えるパターンデータ変換方法及びパターンデータ変換装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid removing device forming patterns with good yield, generating little foreign matter caused by re-attaching on a pattern-forming substrate in a pattern development process of mainly plasma display members, and a production method of the plasma display members using a pattern forming method including the liquid removing device.
おもにプラズマディスプレイ用部材のパターン現像工程において、パターン形成基板上に上述した再付着ということに起因する異物発生を生ずることが少なく、歩留まり良くパターン形成することを実現する液体除去装置、さらに液体除去装置を含むパターン形成方法を用いたプラズマディスプレイ用部材の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The production method of the circuit board contains the steps of forming a metal layer on one face or both faces of the substrate via an adhesive sheet containing fluoroplastic, forming a circuit pattern by etching the metal layer, and forming the circuit pattern to then re-adhere the circuit pattern by a thermocompression bonding process.
本発明に係る回路基板の製造方法は、フッ素樹脂を含む接着シートを介して基材の片面または両面に金属層を形成する工程、金属層をエッチングすることにより回路パターンを形成する工程、および回路パターンを形成した後、熱圧着処理により回路パターンを再接着する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a conductive pattern formation substrate and the conductive pattern formation substrate, in which manufacture is easy, a high quality transparent conductive film having a hardly visible conductive pattern can be formed in a display region, and electrical reliability is improved by fully securing insulating properties of an insulating part of the transparent conductive film.
製造が容易であり、表示領域においては導電パターンが視認されにくい高品位な透明導電膜を形成できるとともに、該透明導電膜の絶縁部の絶縁性が十分に確保され電気的な信頼性が向上する導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板を提供する。 - 特許庁 - The method includes a first step of forming a metal thin film for wiring lines on a glass substrate 11a, a second step of forming a resist pattern on the metal thin film by using a photomask 20 where a pattern for the wiring lines is formed, and a third step of forming the wiring lines by selectively removing the metal thin film by wet etching using the resist pattern as a mask.
ガラス基板１１ａ上に、配線用の金属薄膜を形成する第１ステップと、配線用のパターンが形成されたフォトマスク２０を用いて、金属薄膜上に、レジストパターンを生成する第２ステップと、レジストパターンをマスクとして、ウェットエッチングにより金属薄膜を選択的に除去し、配線を形成する第３ステップとを備える。 - 特許庁 - A wiring pattern 12 composed of a copper wire 12a and a gold plating layer 12b and a cover lay 15 covering the wiring pattern 12 for insulation are provided on a polyimide insulating tape 11, and an outflow restraining member 13 composed of a belt-like copper pattern 13a and a gold plating layer 13b is arranged around an opening 17 used for mounting an semiconductor element 16.
ポリイミド系絶縁テープ１１の上に銅線１２ａと金メッキ層１２ｂからなる配線パターン１２と、この配線パターン１２を絶縁被覆するカバーレイ１５が設けられ、半導体素子１６を搭載するための開口１７の周囲近傍に、銅帯状パターン１３ａと金メッキ層１３ｂからなる流出抑制部材１３を配置してある。 - 特許庁 - For the card, a first dot pattern for which a coordinate value or a code value is patterned by a prescribed algorithm and which can be recognized by prescribed irradiation light is provided on at least one surface, and a second dot pattern patterned by the prescribed algorithm is provided in an area overlapping with or different from the area where the first dot pattern is provided.
少なくとも一面に座標値またはコード値を所定のアルゴリズムでパターン化し所定の照射光により認識可能な第1のドットパターンが設けられ、前記第１のドットパターンが設けられた領域と重なる領域または異なる領域に所定のアルゴリズムでパターン化された第２のドットパターンが設けられたカードとした。 - 特許庁 - In the image processing apparatus, a pattern detecting section 53 detects a specific pattern in inputted image data, and when a system controller 6 detects a previously set specific pattern, the system controller 6 prohibits the output of the image data, and at the same time, imposes usage restriction complying to a management table on a user who has tried to execute the output of the image data.
パターン検知部５３によって入力された画像データ内の特定のパターンを検知し、予め設定された特定のパターンをシステムコントローラ６によって検知したときは、システムコントローラ６がその画像データの出力処理を禁止すると同時に、その画像データの出力を実行しようとした使用者に対して管理テーブルに従った使用制限を課す。 - 特許庁 - The pattern film-forming mask for solution coating is provided with a thin board having an aperture part pattern which comprises one or more aperture parts and a plurality of convex structures which are provided on the thin board and are so arranged that they may surround one or more areas including at least one of the aperture parts of the aperture pattern part.
本発明の溶液塗布用パターン製膜用マスクは、少なくとも１つの開口部からなる開口部パターンを有する薄板と、前記薄板上に設けられ且つ前記開口部パターン中の少なくとも１つの前記開口部を含む少なくとも１つの領域を取り囲むように配置された複数の凸形状構造体とを備える。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for measuring heat pattern in a sintering layer with which thermo-couples for measuring the variation of temperature (heat-pattern) in the sintering layer are not stuck to the sintering raw material at the time of measuring the temperature, and can be used for long term and the heat-pattern in the sintering layer can surely be measured and calculated.
焼結層内の温度変化を測定するための熱電対が、温度測定の際に焼結原料に溶着せず、熱電対を長期間にわたり使用することができ、しかも、焼結層内の温度変化を、確実に測定、算出することができる焼結層内のヒートパターン測定方法と焼結層内のヒートパターン測定装置を提供する。 - 特許庁 - The main CPU 112 refers a variation pattern of a special symbol determined by a special symbol process (S82), determines a sound control command corresponding to the variation pattern from a table constituted by corresponding a variation pattern with a sound control command (S84), outputs the sound control command (S86), and outputs a transfer signal (S88).
メインＣＰＵ１１２は特別図柄処理で決定した特別図柄の変動パターンを参照し（Ｓ８２）、変動パターンと音声制御コマンドとを対応付けて構成されるテーブルから上記変動パターンに対応付けられている音声制御コマンドを決定し（Ｓ８４）、その音声制御コマンドを出力し（Ｓ８６）、転送信号を出力する（Ｓ８８）。 - 特許庁 - The pixel electric field pattern generation part 33 generates an electric field (a pixel electric field pattern) to be formed between each pixel electrode 14 and a common electrode 13 of the display panel 1 based on the image data information from an image data processing part 32 and color arrangement information from the color arrangement information recording part 34 and outputs the electric field pattern to a TFT driving circuit 21.
画素電界パターン生成部３３は、画像データ処理部３２からの画像データ情報と、色配置情報記録部３４からの色配置情報とに基づいて、表示パネル１の各画素電極１４と共通電極１３との間に形成する電界（画素電界パターン）を生成して、ＴＦＴ駆動回路２１に出力する。 - 特許庁 - The main CPU 112 refers a variation pattern of a special symbol determined by a special symbol process (S92), determines a lamp control command corresponded to the variation pattern from a table constituted by corresponding a variation pattern with a lamp control command (S94), outputs the lamp control command (S96), and outputs a transfer signal (S98).
メインＣＰＵ１１２は特別図柄処理で決定した特別図柄の変動パターンを参照し（Ｓ９２）、変動パターンとランプ制御コマンドとを対応付けて構成されるテーブルから上記変動パターンに対応付けられているランプ制御コマンドを決定し（Ｓ９４）、そのランプ制御コマンドを出力し（Ｓ９６）、転送信号を出力する（Ｓ９８）。 - 特許庁 - The substrate of the display filter includes a transparent substrate 11, a conductive pattern part 13 provided on one side surface of the transparent substrate 11 and patterned in a predetermined shape, and a black light shielding part 211 provided between the transparent substrate 11 and the conductive pattern part 13 to shield visible light going from the transparent substrate 11 side to the conductive pattern part 13.
ディスプレイ用フィルタ用の基材は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面側に設けられ、所定の形状にパターニングされた導電パターン部１３と、透明基材１１と、導電パターン部１３との間に透明基材１１側から導電パターン部１３に向かう可視光を遮光する黒色の遮光部２１１を備える。 - 特許庁 - In the method, the dot pattern is transferred to the transparent film 21 used as the material of the light guide plate 1 by facing the film with metal molds 71, 72 (71m, 72m) having the dot pattern irregularities formed by a X-ray lithography electroforming method to constitute the light guide pattern 15 and pressing and moving rotatable rollers 61, 62 on them.
導光板１の素材としての透明フィルム２１に、前記導光パターン１５を構成するドットパターンの凹凸をＸ線リソグラフィー電鋳法により形成した金型７１・７２（７１ｍ・７２ｍ）を対面させた状態で、回転可能なローラ６１・６２によって圧接しつつ送ることで、前記ドットパターンを透明フィルム２１に転写する。 - 特許庁 - When the birefringence is 1.2 nm/cm or less, a pattern including an isolated line is exposed; when the birefringence is 2 nm/cm or less, a pattern including dense lines is exposed with high control accuracy of the line width; and when the birefringence is 4 nm/cm or less, a pattern containing dense lines is exposed at regular control accuracy of the line width.
複屈折量が１．２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、孤立線を含むパターンを露光し、複屈折量が２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを高い線幅制御精度で露光し、複屈折量が４ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを通常の線幅制御精度で露光する。 - 特許庁 - For the card, a first dot pattern for which a coordinate value or a code value is patterned by a prescribed algorithm and which can be recognized by prescribed irradiation light is provided on at least one surface, and a second dot pattern patterned by the prescribed algorithm is provided in an area overlapping with the area or different from the area where the first dot pattern is provided.
少なくとも一面に座標値またはコード値を所定のアルゴリズムでパターン化し所定の照射光により認識可能な第1のドットパターンが設けられ、前記第１のドットパターンが設けられた領域と重なる領域または異なる領域に所定のアルゴリズムでパターン化された第２のドットパターンが設けられたカードとした。 - 特許庁
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