「Pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 787 788 789 790 791 792 793 794 795 .... 999 1000 次へ＞- Character information is designed and displayed by referring to design parts of constitution elements of a character pattern of the electronic music reproducing device 30, and a skeleton outline pattern deformation processing part 58 generates the font of character information according to position coordinate information and further generates a move pattern for moving and deforming, and displaying the character information according to movement deformation information.
電子ミュージック再生装置３０の文字図形の各構成要素のデザインパーツを参照して文字情報をデザイン表示するとともに、位置座標情報に基づいて、スケルトン輪郭パターン変形処理部５８が文字情報の書体を生成し、さらに、移動変形情報に基づいて、文字情報を移動変形して表示するムーブパターンを生成する。 - 特許庁 - The thermal recording medium having a thermal color developing material on at least a part is characterized in that a protective layer and a pattern layer are successively provided on the outermost surface side coming into contact with a thermal head, and in the pattern layer, a silicone component with 5-30% to an ink for forming the pattern layer is incorporated.
少なくとも一部に感熱発色性材料を有するサーマル記録媒体において、サーマルヘッドと接する最表面側には保護層、パターン層を順次設け、該パターン層はシリコーン系成分がパターン層形成用インキに対して、５％以上３０％以下で添加されているインキで形成されていることを特徴とするものである。 - 特許庁 - By adding the subsidiary pattern in the hole as separated by a designated distance from the ring gate pattern 122 having a vertical symmetric structure, variation of critical dimensions (CD) in a pair of ring gate patterns having a vertical symmetric structure is reduced, where CD due to lens aberration between adjacent patterns must be the same, and a fine pattern is precisely formed.
上下対称構造を有するリングゲートパターン１２２の穴中に一定距離離隔して補助パターン１２４を追加することによって、隣り合うパターン間で生じるレンズ収差によるＣＤが一致しなければならない１対の上下対称構造を有するリングゲートパターン間の臨界寸法変化を減らし、微細化パターンを正確に形成することができる。 - 特許庁 - Then, in the state that an immersion solution 104 is arranged on the resist film 102 exposed to the aqueous solution 103, an exposure light 105 is selectively irradiated to the resist film 102, and pattern exposure is performed, then, the resist film 102 is developed to which the pattern exposure is performed, and the resist pattern 102 is formed from the resist film 102.
その後、水溶液１０３にさらされたレジスト膜１０２の上に浸漬溶液１０４を配した状態で、レジスト膜１０２に対して露光光１０５を選択的に照射してパターン露光を行ない、続いて、パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して現像を行なって、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２を形成する。 - 特許庁 - A plurality of transition patterns classified into a first type transition pattern for maintaining the redundancy of data by prohibiting updating of data managed by an object disk node and a second type transition pattern for maintaining the redundancy of data by copying the data managed by the object disk node to the other disk node are set in a transition pattern determination table 1ac.
移行パターン決定テーブル１ａｃには、対象ディスクノードで管理しているデータの更新を禁止することでデータの冗長性を維持する第１種移行パターンと、対象ディスクノードで管理しているデータを他のディスクノードにコピーすることでデータの冗長性を維持する第２種移行パターンとに分類された複数の移行パターンが設定されている。 - 特許庁 - For a special value imparting means, a composite pattern for which the plural patterns are combined is displayed in the composite display area 40, and when a prescribed winning stop form is formed by combining one of the patterns included in the stopped and displayed composite pattern and the pattern stopped and displayed in the single display area, winning appears.
特別価値付与手段は、複合表示領域４０には、複数の図柄が組になった複合図柄が表示され、停止表示された複合図柄に含まれる図柄の中のいずれか１つと単独表示領域に停止表示された図柄とを組み合わせることで所定の当選停止態様が形成されたとき当たりが出現する。 - 特許庁 - The micromachining method of the substrate includes each step for forming a magnetic film on the substrate, adding a desired magnetic pattern to the magnetic film, sprinkling magnetic powder onto the magnetic film where the magnetic pattern is given, selectively concentrating the magnetic powder according to the magnetic pattern, and performing reactive ion etching with the centrally arranged magnetic powder as a mask.
基板の微細加工方法であって、基板上に磁性膜を形成し、磁性膜に所望の磁気パターンを付与し、磁気パターンの付与された磁性膜上に磁性粉を振りかけて、磁性粉を磁気パターンに応じて選択的に集中させ、集中配置された磁性粉をマスクとして反応性イオンエッチングを行なう各ステップを含んでいる。 - 特許庁 - The patterned retardation film is characterized in that a sidewall angle of each pattern: SWA is 16° or more in a cross-sectional surface of each pattern of the patterned retardation film having the pattern formed from a cured product of the polymerizable liquid crystal composition and the polymerizable liquid crystal composition contains 92.35 to 96.84 mass% of specified polymerizable compound.
重合性液晶組成物の硬化物により構成されパターンを有するパターン化位相差フィルムの各パターンの断面において、各パターンの側壁角：ＳＷＡが16°以上であり、該重合性液晶組成物が特定の重合性化合物を92.35質量％から96.84質量％含有することを特徴とするパターン化位相差フィルム。 - 特許庁 - For generation of encoding blocks by segmentation of a maximum encoding block, an encoding control section 1 selects the most efficient one from a plurality of segmentation patterns mixedly including a segmentation pattern of quad-tree segmentation and a segmentation pattern that cannot be represented by quad-tree segmentation, so that encoding blocks are generated according to the segmentation pattern.
符号化制御部１が、最大符号化ブロックを分割して符号化ブロックを生成する際、四分木分割の分割パターン及び四分木分割では表現できない分割パターンが混在している複数の分割パターンの中から、最も効率がよい分割パターンを選択し、その分割パターンにしたがって符号化ブロックを生成するようにする。 - 特許庁 - Prior to a pattern boring process by dry etching, a stencil mask substrate 1 on a region 13 of a fine pattern is etched away along the depth to make the substrate film thickness less than that of a region 12, and then even a stencil mask substrate having various pattern sizes can be processed to precise size in the mask surface.
ドライエッチングによるパターン開口工程に先立って、微細パターンの領域１３上のステンシルマスク基板１をエッチングによりエッチング深さ方向に除去し、基板膜厚を他の領域１２に対し薄膜化することにより、種々のパターン寸法が混在するステンスルマスク基板においてもマスク面内の寸法を精度よく加工することができる。 - 特許庁 - Containing rate of wiring is enhanced by forming an auxiliary wiring pattern 108 in a component surface region not pertaining to external connection of an electronic component 105 provided in a board, and connecting the auxiliary wiring pattern 108 electrically with wiring patterns of board 103, 102 thereby using the auxiliary wiring pattern 108 as the wiring patterns of board 103, 102.
基板内部に設けた電子部品１０５の外部接続に関与しない部品表面領域に補助配線パターン１０８を形成し、この補助配線パターン１０８を、基板配線パターン１０３、１０２に電気的に接続することで、補助配線パターン１０８を基板配線パターン１０３、１０２の一部として用いて配線の収容率を高めた。 - 特許庁 - In the case of a probability variable state and a variation shortening state, a CPU for main control determines an exclusive variation pattern in the predetermined fiftieth symbol variation game after the game state is attained, and determines a different variation pattern without determining the exclusive variation pattern in the other specific symbol variation game in the same game state.
主制御用ＣＰＵは、確変状態及び変短状態である場合において、その遊技状態となってから予め定められた５０回目の図柄変動ゲームでは、専用の変動パターンを決定する一方、同じ遊技状態でそれ以外の特定図柄変動ゲームでは、専用の変動パターンを決定することなく、別の変動パターンを決定する。 - 特許庁 - A pachinko game machine is provided with an ordinary electric accessary which is operated to meet requirements for making game balls enter a special pattern starter slot and an ordinary pattern starter slot which is provided separately from the special pattern starter slot for a lottery processing to determine the winning or losing of a success in triggering the operation of the ordinary electric accessary.
このパチンコ機は、特別図柄始動口への遊技球の入球の必要条件となる動作を行う普通電動役物と、上記特別図柄始動口とは別の、上記普通電動役物の動作契機となる当たりについての当落にかかる抽選処理を行うための普通図柄始動口とを備えて構成されている。 - 特許庁 - Three replay patterns R1 appear in a mode of bursting inward from the screen end of a special pattern control device 32 along moving passages L3, L18, and L28 respectively as shown in Figure 4 (A), follow either one pattern of respective middle pattern rows 0-9 fluctuatingly displayed at high speed respectively, and are fluctuatingly displayed along with the followed special patterns respectively.
図４（Ａ）に示すように３個のリプレイ図柄Ｒ１がそれぞれ特別図柄制御装置３２の画面端部から移動経路Ｌ３、Ｌ１８、Ｌ２８に沿って内方に飛び込む態様で出現し、高速で変動表示している各中図柄列「０」〜「９」のうちのいずれか１つ図柄にそれぞれに付随し、その付随した特別図柄と共に変動表示される。 - 特許庁 - The laser beam is branched into a main laser beam 13M and a sub-laser beam 13S, pattern irradiation corresponding to the recording pattern is performed by the main laser beam 13M, and the position of the main laser bema 13M is adjusted by the sub-laser beam 13S obtaining the positional information from the area where a pattern irradiation processing by the main laser beam 13M is performed.
レーザ光を主レーザ光１３Ｍと副レーザ光１３Ｓとに分岐し、主レーザ光１３Ｍによって記録パターンに対応するパターン照射を行い、副レーザ光１３Ｓによって、主レーザ光１３Ｍによるパターン照射処理がなされた領域から、その位置情報を得て、主レーザ光１３Ｍの位置調整を行う。 - 特許庁 - To provide a pattern matching method by which, even when almost the same enumerated parts are present in a pattern for example, pattern matching of design data and images acquired by an image formation device or the like can be performed in high accuracy; and to provide its program and a device therefor, concerning a method, a program, and a device suitable for specifying information on unevenness in the design data.
本発明の目的は、設計データ内の凹凸情報を特定するのに好適な方法，プログラム及び装置の提供に係り、一例として同じような部分が羅列するようなパターンであっても、設計データと、画像形成装置等で取得された画像との間のパターンマッチングを高精度に行い得る方法，プログラム及び装置の提供にある。 - 特許庁 - A lighting system that forms radiation beams, a pattern generator that performs patterning of the beams, a projection system that performs patterning of the flexible substrate by projecting the pattern beams to a target part of the flexible substrate, and a motion system that controls the motion of the flexible substrate are provided, and the target part of the flexible substrate remains still almost without extending even during the period of exposure by the pattern beams.
放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 - 特許庁 - Subsequently, any one area of recessed/projected part sides for upper face and for lower face from the center line of the shared mask pattern is light-shielded and another area is exposed again and developed, and a resist pattern for upper face having the recessed/projected part for upper face and a resist pattern for lower face having the recessed/projected part for lower face are respectively formed.
続いて、共有マスクパターンの中心ラインから上面用凹凸部側及び下面用凹凸部側のいずれか一方又は他方の領域を遮光し他方又は一方の領域を再度露光して現像し、上面用凹凸部を有する上面用レジストパターンと下面用凹凸部を有する下面用レジストパターンを各々形成する。 - 特許庁 - A semiconductor device 1 is equipped with a wiring pattern 11 that is formed on a substrate 10, an insulating film 20 that is formed to cover the wiring pattern 11, a first element chip 2 that is placed on the insulating film 20, and a conductor pillar 4 that passes through the insulating film 20 and allows the wiring pattern 11 to be electrically continuous to the first element chip 2.
本発明の半導体装置１は、基板１０に形成される配線パターン１１と、配線パターン１１を覆う状態で形成される絶縁膜２０と、絶縁膜２０上に載置される第１の素子チップ２と、絶縁膜２０を貫通し、配線パターン１１と第１の素子チップ２とを電気的に導通させる導体ピラー４とを備えるものである。 - 特許庁 - In the liquid crystal element manufactured by sticking two substrates on which electrodes and the like are formed to each other to form a gap via a sealing agent, the pattern of the sealing agent has a nearly circular shape and a liquid crystal injection port is provided on a take-out side of a wiring pattern and the wiring pattern is pulled out from a horn part forming the liquid crystal injection port.
電極などが形成された２枚の基板を、シール剤を介して間隙をもって貼り合わせて製造される液晶素子であって、前記シール剤のパターンが、ほぼ丸形であり、配線パターンの取り出し側に、液晶の注入口を設け、液晶注入孔を形成するツノ部より、配線パターンを引き出した液晶素子。 - 特許庁 - To increase the influence of a means for modulating a game by the effective use of effect sound by synchronizing with the fine change of a pattern variation pattern by a pattern variation screen, synchronizing with the informing timing by each display, and properly using the effect sound according to the contents of information (including a player's feeling) when informing by the display.
図柄変動画面による図柄変動パターンの細かい変化に同期させ、かつ各表示による報知時期と同期させると共に、表示による報知の際に報知内容（遊技者の感情を含む）に応じて効果音を使い分けることで、効果音を有効利用することができ、遊技にメリハリをつける手段としての影響力を増大させる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition having high sensitivity, high resolution, good temporal stability of the sensitivity, proper film curability and good flexibility and capable of efficiently forming a high-definition permanent patter, a photosensitive film, a permanent pattern forming method that uses the photosensitive composition, and a printed circuit board on which a pattern is formed by the permanent pattern forming method.
高感度、高解像度であり、感度の経時安定性、膜硬化性、及び可撓性が良好で、高精細な永久パターンを効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法によりパターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁 - Also, a counting means 18 for integrating and counting the number of times of the fluctuation of the special pattern is provided, and in the case that the integrated count value of the counting means 18 reaches a stipulated number, a 'fluctuation shortening state' is generated regardless of the generation of the 'large winning state' and the fluctuation time of the normal pattern and the special pattern becomes shorter than usual.
また、特別図柄の変動回数を積算計数するカウント手段１８が設けられており、そのカウント手段１８の積算計数値が規定数に到達した場合には、「大当たり状態」の生起とは無関係に「変動短縮状態」が生起し、普通図柄および特別図柄の変動時間が通常時に比べて短くなる。 - 特許庁 - When a pattern formed through a developing step by utilizing a photoresist composition containing a thermal acid generator is reheated, acid is generated from the thermal acid generator, as a result the photoresist composition causes a crosslinking reaction under the action of the acid and pattern width slimming due to SEM beams for CD measurement in SEM after pattern formation can be prevented.
熱酸発生剤（thermal acid generator）を含むフォトレジスト組成物を利用することにより、現像工程を経て形成されたパターンを再び加熱することにより熱酸発生剤から酸が発生し、これからフォトレジスト組成物が架橋反応を引き起こし、パターン形成後ＳＥＭでＣＤ測定時にＳＥＭビームによりパターンの幅のが減少を防ぐことができる。 - 特許庁 - The covering formation agent for the pattern minuteness used for forming the minute pattern by being coated on a substrate having the photoresist pattern contains: (a) water-soluble polymer; and (b) a carboxyl group-containing compound or its salt or at least one selected from an esterified matter, peroxide and peracid.
本発明のパターン微細化用被覆形成剤は、ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、（ａ）水溶性ポリマーと、（ｂ）カルボキシル基含有化合物又はその塩類若しくはエステル化物、過酸化物、及び過酸の中から選ばれる少なくとも１種とを含有することを特徴とする。 - 特許庁 - The frame synchronization detector detects a frame synchronizing signal from a received digital modulation wave including a synchronizing signal pattern of a frame synchronizing signal subjected to biphase modulation, detects the synchronizing signal due to a change in the synchronizing signal pattern when a recovered carrier is asynchronous and detects the frame synchronizing signal depending on the synchronizing signal pattern in a synchronous state.
２相位相変調されたフレーム同期信号の同期信号パターンを含む受信したデジタル変調波から前記フレーム同期信号を検出するフレーム同期検出器であって、再生搬送波が非同期状態では同期信号パターンの変化により同期信号を検知し、同期状態では同期信号パターンによりフレーム同期信号を検出する。 - 特許庁 - A connection pattern control means 40a sets a connection pattern of the optical switch 25 against the connection pattern designated to the optical switch 10 to be tested such that the lights having the respective wavelengths emitted from respective output ports of the optical switch 10 to be tested are always injected to an input port of a wavelength combining part 30 previously determined in every wavelengths.
接続パターン制御手段４０ａは、被試験光スイッチ１０に指定した接続パターンに対して、その被試験光スイッチ１０の各出力ポートから出射される各波長の光が常にその波長毎に予め決められている波長合波部３０の入力ポートに入射されるように、光スイッチ２５の接続パターンを設定する。 - 特許庁 - A synthetic speech selection means 16 selects and outputs synthetic speech having a quality score exceeding a threshold and the highest pattern score based on the pronunciation pattern score and the rhythm pattern score, and when there is no synthetic speech having a quality score exceeding the threshold, selects and outputs the synthetic speech having the highest quality score.
複数の合成音声の中から、合成音声選択手段１６が、品質スコアが閾値を超え、且つ、発音様式スコアと韻律様式スコアに基づいた様式スコアの最も高い合成音声を選択して出力し、閾値を超える品質スコアの合成音声が無い場合は、最も品質スコアの高い合成音声を選択して出力する。 - 特許庁 - The manufacturing method includes lens pattern forming steps of: forming a pattern of an inorganic lens material film 16 on a flattening film 15; and deforming the pattern of the inorganic lens material film 16 by sputter etching using gas having reactive gas of CxHyFz (x>0, y≥0, z>0) added to inert gas, to form many condenser lenses.
平坦化膜１５上に無機のレンズ材料膜１６のパターンを形成するレンズパターン形成工程と、不活性ガスにＣｘＨｙＦｚ系の反応性ガス（ｘ＞０，ｙ≧０，ｚ＞０）を添加したガスを用いたスパッタエッチングにより、無機のレンズ材料膜１６のパターンを変形させて多数の集光レンズを形成するレンズ形成工程とを含む。 - 特許庁 - Since dummy ejection is performed onto an IC chip 3 and then an actual wiring pattern 7 is formed from above the IC chip 3 toward the board 2 when the actual wiring pattern 7 is formed across the IC chip 3 and the board 2, ejection for forming the actual wiring pattern 7 can be carried out immediately after dummy ejection onto the IC chip 3.
また、特にＩＣチップ３と基板２とに跨って実配線パターン７を形成する場合に、ＩＣチップ３上にダミー吐出を行い、その後このＩＣチップ３上から基板２に向けて実配線パターン７を形成するので、ＩＣチップ３上にダミー吐出を行った直後に実配線パターン７を形成するための吐出を行うことができる。 - 特許庁 - In the exposure method performing joint exposure by irradiating an article to be exposed with light source light through a mask pattern of a photomask and then overlapping end regions of adjoining exposure patterns, the joint exposure is performed while gradually reducing the exposure amount in the end region of the exposure pattern from near the center toward an adjoining end of the exposure pattern.
被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域を重ね合わせてつなぎ露光する露光方法であって、前記露光パターンの前記端部領域の露光量を前記露光パターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させてつなぎ露光するものである。 - 特許庁 - A method of manufacturing a semiconductor package 71 comprises: a step for forming a metal circuit pattern 702 on a substrate; a step for connecting an integrated circuit unit 703 to the metal circuit pattern 702; a step for forming resins 708 on the substrate, the metal circuit pattern 702, and the integrated circuit unit 703; and a step for removing the substrate.
本発明に係る半導体パッケージ７１の製造方法は、サブストレートに金属回路パターン７０２を形成するステップと、集積回路ユニット７０３を金属回路パターン７０２に接続するステップと、サブストレート、金属回路パターン７０２および集積回路ユニット７０３に樹脂７０８を形成するステップと、サブストレートを除去するステップとを含む。 - 特許庁 - To obtain a polymerizable composition for color filter, which suppresses illuminance dependency upon forming a color pattern even when exposure machines having different illuminance values are used, achieves excellent curability of a formed color pattern, and forms a rectangular pattern with superior resolution, to provide a color filter having high color separation property, and to provide a solid-state imaging device having high resolution.
着色パターンを形成するに際して、照度の異なる露光機を用いても照度依存性を抑制することができ、形成された着色パターンの硬化性に優れ、解像度の優れた矩形のパターンを得ることができるカラーフィルタ用の重合性組成物を得ることであり、色分離性が良好なカラーフィルタ、および高解像度の固体撮像素子を得る。 - 特許庁 - The method comprises steps of setting a mask given in response to each predetermined pattern for detecting the pattern information of the input image, measuring similarity between the input image and a filter kernel mask, determining the filter kernel mask most suited for the pattern of the input image in reference to similarity, and adding the non-linear filtering through the determined mask.
その方法として、入力映像のパターン情報を検出するためにあらかじめ定義しておいたそれぞれのパターンに応じて与えられたマスクを設定し入力映像とフィルターカーネルマスクの類似性を測定し、その類似性より最も入力映像のパターンに適合したフィルターカーネルマスクを決め、決定されたマスクを通じて非線形フィルターリングを加える。 - 特許庁 - A first ink flow channel pattern including a first dissolvable resin and a light absorbing agent is formed so as to cover an area of a base plate where the discharge outlet is formed viewing from above the base plate and a second ink flow channel pattern including a second dissolvable resin and not including a light absorbing agent is formed so as to cover the first ink flow channel pattern.
基板の、その上方からみて吐出口が形成される領域を被覆するように、第一の溶解可能な樹脂と光吸収剤とを含む第一のインク流路パターンを形成し、その第一のインク流路パターンを被覆するように、第二の溶解可能な樹脂を含み光吸収剤を含まない第二のインク流路パターンを形成する。 - 特許庁 - A gene or the like having an expression pattern similar to at least a part of the gene or the like is screened out of objective genes by partially selecting an experimental case range exhibiting interesting expression among expression patterns such as genes as a range for screening and comparing a part of a selected expression pattern with the expression pattern of an objective gene.
検索する遺伝子等の発現パターンのうち興味ある発現を示す実験ケース区間を検索の範囲として部分的に選択し、選択された発現パターンの一部分を検索対象遺伝子等の発現パターンと比べることにより、少なくとも一部分が類似した発現パターンを持つ遺伝子等を検索対象遺伝子群等の中から検索する。 - 特許庁 - Then, when the specified performance pattern is the 1 winning continuous variable performance, the pattern related command generated by the command generation part 106D is individually transmitted from a command transmission part 106E of the sub control substrate 106 to a performance display substrate 110 when starting each of the plurality of times of the pattern variations and stopping displays.
そして、上記特定された演出パターンが１入賞連続変動演出である場合に、コマンド生成部１０６Ｄにより生成された図柄関連コマンドが、複数回の図柄変動・停止表示の各々の開始毎にサブ制御基板１０６のコマンド送信部１０６Ｅから演出表示基板１１０に対して個別に送信される。 - 特許庁 - An external inspection circuit 24 includes a control circuit 38 stored with a test pattern producing program for producing a test pattern according to a signal SIG2, a signal generator 40 for outputting a signal SIG4 (frequency setting signal) according to the test pattern, and a comparison discriminator 42 for comparing a signal SIG3 with an expected value to output a comparison result.
外部検査回路２４はテストパタン生成プログラムが記憶され、信号ＳＩＧ２に応じてテストパタンを生成する制御回路３８と、テストパタンに応じて信号ＳＩＧ４（周波数設定信号）を出力する信号発生器４０と、信号ＳＩＧ３と期待値とを比較して比較結果を出力する比較判定器４２とを含む。 - 特許庁 - When printing a watermark (first and second pattern images for enabling a specified image to become visible when the two patterns are superposed), the first and second pattern images according to the kind of a print sheet specified by a printing condition are obtained from a pattern storage section 15 by a control section 11 to be output to a printing section 19.
ウォーターマーク（重ね合わせたときに特定画像が可視化される第１のパターン画像及び第２のパターン画像）を印刷する際には、制御部１１により、印刷条件で指定された印刷用紙の用紙種類に応じた第１のパターン画像及び第２のパターン画像がパターン記憶部１５から取得され、印刷部１９に出力される。 - 特許庁 - A lithographic apparatus has: a heater that is formed for supplying energy for heating a patterning device to the patterning device and for forming a predetermined thermal distortion pattern of the patterning device; and a controller that is formed for performing optical correction corresponding to the predetermined thermal distortion pattern in the device in order to reduce the influence of the thermal distortion of the patterning device on the pattern.
パターニングデバイスを加熱するためのエネルギーをパターニングデバイスに供給し、パターニングデバイスの所望の熱ひずみパターンを形成するように構成されたヒータと、パターンに対するパターニングデバイスの熱ひずみの影響を小さくするために、所望の熱ひずみパターンに対応する光学補正を装置内で実施するように構成されたコントローラとを有する。 - 特許庁 - In the liquid crystal display module provided with a liquid crystal display panel 10, a first flexible board 20 and a second flexible board 30, a wiring pattern 16 for connecting the flexible boards connecting a wiring pattern 24 of the first flexible board 20 and a wiring pattern 33 of the second flexible board 30 is formed on a transparent substrate 12 of the liquid crystal display panel 10.
液晶表示パネル１０と、第１フレキシブル基板２０と、第２フレキシブル基板３０とを具備する液晶表示モジュールにおいて、第１フレキシブル基板２０の配線パターン２４と第２フレキシブル基板３０の配線パターン３３とを接続するフレキシブル基板接続用配線パターン１６を液晶表示パネル１０の透明基板１２上に形成した。 - 特許庁 - Moreover, since e.g. by connecting the outer four from the outermost wiring pattern 24a as dummy wirings 24b to form a reinforcement part 26 with a width E larger than the width D of the outermost wiring pattern 24a, the wiring pattern 24 can withstand the stresses of kinks or the like, with respect to the liquid crystal panel 2 of a flexible substrate 3.
また、最外側の配線パターン２４ａから例えば外側に４本をダミー配線２４ｂとして、それらを繋ぎ、当該最外側の配線パターン２４ａの幅Ｄより幅広Ｅとなる補強部２６とすることで、当該配線パターン２４をフレキシブル基板３の液晶パネル２に対する捩れなどによるストレスにも耐えられるようにできる。 - 特許庁 - The synchronization code recovery circuit and method compares an original synchronization pattern with a pattern of a next synchronization candidate recovered at a plurality of synchronization locations when no synchronization code is detected from a received bit stream, produces location information at which the most proper synchronization pattern is obtained on the basis of a result of comparison, and recovers the synchronization code at a location corresponding to the location information.
入力されるビットストリームから同期コードが検出されなければ複数の同期位置で復旧される次の同期候補のパターンと元の同期パターンとを比較して、比較結果に基づいて得られた最も適した同期パターンが出る位置情報を生じ、この位置情報に対応する位置で同期コードを復旧する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist.
感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - This inhibiting method comprises: providing a semiconductor having a conductive pattern for conductive busbars and current collecting lines and a dielectric layer coating spaces between the conductive pattern on a front side of the semiconductor, the dielectric layer including one or more defects; contacting at least the dielectric layer with one or more oxidizing agents; and selectively depositing a metal layer on the conductive pattern.
導電母線および集電ラインのための導電パターンと、半導体の前面上の導電パターンの間のスペースを覆う誘電層とを有し、当該誘電層が１以上の欠陥を含有する半導体において、少なくとも誘電層を１種以上の酸化剤と接触させ、並びに、導電パターン上に金属層を選択的に堆積させる。 - 特許庁 - A communication control device includes: a first database 50 in which the pattern of data included by computer virus is stored; a retrieval circuit 30 for retrieving whether or not a pattern stored in the first database 50 is included in the obtained data file; and a processing performing circuit 40 for, when the pattern is included in the obtained data file, filtering the data file.
通信制御装置は、コンピュータウィルスが含むデータのパターンを格納した第１データベース５０と、取得したデータファイルに第１データベース５０に格納されたパターンが含まれるか否かを検索する検索回路３０と、取得したデータファイルにパターンが含まれる場合、そのデータファイルをフィルタリングする処理実行回路４０と、を備える。 - 特許庁 - To hold a plural number of spoons on a holding member, to simultaneously conceal a surface portion with no pattern by a concealing member provided on the holding member, to pattern irregularities on a surface portion with patterns as granular matters collide only against the surface portion with the patterns except for the surface portion with no pattern and to improve workability.
保持部材に複数個のスプーン類を保持すると同時に保持部材に設けた隠蔽部材により非模様付表面部位を隠蔽することができ、非模様付表面部位を除く模様付表面部位にのみ粒状物質が衝突して模様付表面部位に凹凸模様付けをなすことができ、作業性を向上することができる。 - 特許庁 - To provide a library preparing method used in cross-section shape measurement for measuring, with high throughput and high accuracy, the cross-section shape of a pattern of a structure having a cyclic recess-and-projection shape (such as lines and spaces) without destroying the pattern or without being affected by changes in optical constants of a substance constituting the pattern.
周期的な凹凸形状（例えば、ライン＆スペース等）を有する構造のパターンの断面形状を、そのパターンを破壊することなくかつパターンを構成する物質の光学定数の変化に影響されることなく、高スループットかつ高精度に測定する断面形状測定に用いられるライブラリ作成方法を提供すること。 - 特許庁 - When replay is not won in a game in a CBB state, first to third reels R1-R3 are made to stop so as to avoid the winning of a special small prize pattern 2 since the dividend of a special small prize pattern 1 is set to be higher than that of the special small prize pattern 2 even when a stop operation is performed in any situations.
ＣＢＢ状態での遊技において、リプレイが当選していない場合には、如何なる態様で停止操作が行われても、特殊小役１の配当が特殊小役２の配当よりも高く設定されていることに起因して、特殊小役２の入賞を回避するように第１リールＲ１〜第３リールＲ３を停止させている。 - 特許庁 - A linear pattern layer 3 formed of a water-soluble ink is provided on the insulating board 1, a molybdenum-containing metal thin film 4 is formed on the whole surface of the board 1, the metal thin film 4 located on the pattern layer 3 is removed together with the pattern layer 3 by rinsing, and the metal thin film 4 is partially, linearly removed.
絶縁性を有する基板１上に水溶性インキからなる線状のパターン層３を形成した後、少なくともモリブデンを含む金属薄膜４を全面的に形成し、次いで水洗を行ってパターン層３とともにパターン層３の上に位置する金属薄膜４を除去し、金属薄膜４の一部を線状に除去する。 - 特許庁
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